[發明專利]缺陷預測有效
| 申請號： | 201880046240.1 | 申請日： | 2018-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN110869854B | 公開（公告）日： | 2022-06-10 |
| 發明（設計）人： | 鐘玲莉;B·拉方丹;M·J·基亞;Y·尤迪斯蒂拉;M·P·F·格寧 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 王茂華;傅遠 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 缺陷 預測 | ||
1.一種用于缺陷預測方法，所述方法包括：
使用非概率模型獲得由器件制造過程產生的襯底上的圖案的特征的值；
獲得所述非概率模型的殘差的分布的屬性；
基于所述殘差的所述分布的所述屬性和所述圖案的所述特征的所述值確定所述特征的分布的屬性；以及
基于所述特征的所述分布的所述屬性確定所述圖案是缺陷的概率。
2.根據權利要求1所述的方法，其中所述殘差的所述分布的所述屬性是所述殘差的概率密度函數PDF。
3.根據權利要求1所述的方法，其中所述殘差的所述分布的所述屬性是所述殘差的累積分布函數CDF。
4.根據權利要求1所述的方法，其中所述殘差的所述分布的所述屬性表示所述殘差的所述分布的擴散。
5.根據權利要求1所述的方法，其中所述殘差的所述分布的所述屬性是所述殘差的所述分布的方差或標準差。
6.根據權利要求1所述的方法，其中所述特征是從以下選項中選擇的一個或多個：相對于所述襯底的位置、相對于所述襯底上的一個或多個其他圖案的位置、幾何尺寸、幾何形狀、隨機效應的測量和/或從中選擇的任何組合。
7.根據權利要求1所述的方法，其中確定所述特征的所述分布的所述屬性包括將所述殘差的所述分布的所述屬性和所述特征的所述值相加。
8.根據權利要求1所述的方法，其中所述特征的所述分布的所述屬性是所述特征的PDF。
9.根據權利要求8所述的方法，其中確定所述概率包括將所述特征的所述PDF在所述特征的范圍內積分。
10.根據權利要求1所述的方法，進一步包括歸一化所述特征的所述分布的所述屬性。
11.根據權利要求1所述的方法，其中確定所述特征的所述分布的所述屬性進一步基于所述圖案被視為缺陷的所述特征的范圍。
12.一種用于缺陷預測方法，所述方法包括：
獲得由器件制造過程產生的襯底上的多個圖案的特征的驗證值；
使用非概率模型獲得所述特征的計算值；
基于所述驗證值和所述計算值獲得所述非概率模型的殘差的值；以及
基于所述殘差的所述值獲得所述殘差的分布的屬性。
13.根據權利要求12所述的方法，其中所述特征是從以下選項中選擇的一個或多個：相對于所述襯底的位置、相對于所述襯底上的一個或多個其他圖案的位置、幾何尺寸、幾何形狀、隨機效應的測量和/或從中選擇的任何組合。
14.根據權利要求12所述的方法，其中獲得所述殘差的所述值包括獲得所述計算值和所述驗證值之間的差。
15.一種非暫態計算機可讀介質，所述非暫態計算機可讀介質上記錄有指令，當由計算機系統執行時，所述指令實現根據權利要求1或12所述的方法。
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