[發明專利]在工件上產生曝光結構

有效

• 申請號: 201880045199.6
• 申請日: 2018-07-04
• 公開（公告）號: CN110869853B
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發明（設計）人: 奧利弗·洪巴赫;托馬斯·魯爾
• 申請（專利權）人: 泰米科公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王逸君;丁永凡

1.一種用于在具有光敏表面（14）的工件（12）上產生曝光結構的設備，所述設備具有

-?用于所述工件的容納部，

-?光學單元（20），所述光學單元包括相干光源（22）和平坦的衍射光柵（26），用于產生條帶狀的照射圖樣（36），所述照射圖樣具有在縱向方向（X）上伸展的條帶和在橫向方向上延伸的圖樣寬度（B），所述照射圖樣（36）具有包括最大值的強度分布，其中所述最大值的強度在所述橫向方向上從所述照射圖樣（36）的中部朝向所述照射圖樣（36）的邊緣減小，

-?用于將所述工件（12）的所述表面（14）和所述光學單元（20）相對于彼此移動的設備（28），其中所述設備（28）構成用于根據路徑順序移動，

-?其中所述路徑順序包括沿所述縱向方向（X）的至少第一移動路徑和第二移動路徑（42a-d），以便在所述工件（12）的所述表面（14）上產生彼此平行定向的具有條帶的第一曝光結構和第二曝光結構（40a，40b），

-?其中所述第一移動路徑和第二移動路徑（42a-d）小于所述圖樣寬度（B）地彼此間隔開，

-?并且其中所述第一曝光結構和第二曝光結構（40a，40b）交疊成，使得所述第一曝光結構和第二曝光結構的條帶上下相疊地設置，使得在所述工件（12）的所述表面上的得出的曝光結構在所述第一移動路徑和第二移動路徑（42a-d）的交疊區域中具有至少基本上恒定的曝光，其中各個條帶的曝光劑量與這些條帶的曝光劑量的平均值的偏差不大于30％，

-?其中所述衍射光柵（26）相對于所述工件（12）的通過所述照射圖樣（36）曝光的所述表面（14）的至少一部分傾斜放置。

2.根據權利要求1所述的設備，其中

-?所述衍射光柵（26）和所述光源（22）設置成，使得所述光源（22）的光相對于垂直于所述衍射光柵（26）的所述表面的法線方向（N）以角度（α）射到所述衍射光柵（26）上。

3.根據權利要求1所述的設備，其中

-?所述衍射光柵（26）和所述工件（12）設置成，使得至少在所述工件（12）的由所述照射圖樣（36）曝光的所述表面（14）的一部分中，所述表面（14）的面法線（F）相對于垂直于所述衍射光柵（26）的所述表面的法線方向（N）以角度（?）設置。

4.根據權利要求3所述的設備，其中

-?所述工件（12）的所述表面（14）是彎曲的。

5.根據權利要求4所述的設備，其中

-?所述移動設備包括用于轉動所述工件（12）的設備。

6.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中

-?設有用于根據所述路徑順序自動地操控所述移動設備（28）的操控設備（30）。

7.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中

-?設有用于定位所述光學單元（20）的定位設備，使得所述第一曝光結構和第二曝光結構（40a，40b）的條帶上下相疊地設置，

-?其中所述路徑順序選擇成，使得在所述工件（12）的所述表面（14）上的所述曝光結構（40）至少在兩個移動路徑（42a-d）的交疊區域中具有至少基本上恒定的曝光。

8.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中

-?所述光學單元（20）構成用于產生具有圖樣周期的條狀的照射圖樣（36），

-?并且所述路徑順序在沿縱向方向（X）的兩個移動路徑（42a-d）之間具有偏移路徑（44），其中所述設備橫向于所述縱向方向以偏移路段偏移，所述偏移路段是所述圖樣周期的整數倍并且小于所述圖樣寬度（B）。

9.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中

-?所述路徑順序包括沿縱向方向（X）的多個平行的移動路徑（42a-d），以便通過平行的、交疊的曝光結構（40a，40b）在所述工件（12）的所述表面（14）上產生具有平行的條帶的曝光總結構（40）。