[發(fā)明專利]在工件上產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880045199.6
• 申請(qǐng)日: 2018-07-04
• 公開（公告）號(hào): CN110869853B
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 奧利弗·洪巴赫;托馬斯·魯爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 泰米科公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 王逸君;丁永凡

1.一種用于在具有光敏表面（14）的工件（12）上產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)的設(shè)備，所述設(shè)備具有

-?用于所述工件的容納部，

-?光學(xué)單元（20），所述光學(xué)單元包括相干光源（22）和平坦的衍射光柵（26），用于產(chǎn)生條帶狀的照射圖樣（36），所述照射圖樣具有在縱向方向（X）上伸展的條帶和在橫向方向上延伸的圖樣寬度（B），所述照射圖樣（36）具有包括最大值的強(qiáng)度分布，其中所述最大值的強(qiáng)度在所述橫向方向上從所述照射圖樣（36）的中部朝向所述照射圖樣（36）的邊緣減小，

-?用于將所述工件（12）的所述表面（14）和所述光學(xué)單元（20）相對(duì)于彼此移動(dòng)的設(shè)備（28），其中所述設(shè)備（28）構(gòu)成用于根據(jù)路徑順序移動(dòng)，

-?其中所述路徑順序包括沿所述縱向方向（X）的至少第一移動(dòng)路徑和第二移動(dòng)路徑（42a-d），以便在所述工件（12）的所述表面（14）上產(chǎn)生彼此平行定向的具有條帶的第一曝光結(jié)構(gòu)和第二曝光結(jié)構(gòu)（40a，40b），

-?其中所述第一移動(dòng)路徑和第二移動(dòng)路徑（42a-d）小于所述圖樣寬度（B）地彼此間隔開，

-?并且其中所述第一曝光結(jié)構(gòu)和第二曝光結(jié)構(gòu)（40a，40b）交疊成，使得所述第一曝光結(jié)構(gòu)和第二曝光結(jié)構(gòu)的條帶上下相疊地設(shè)置，使得在所述工件（12）的所述表面上的得出的曝光結(jié)構(gòu)在所述第一移動(dòng)路徑和第二移動(dòng)路徑（42a-d）的交疊區(qū)域中具有至少基本上恒定的曝光，其中各個(gè)條帶的曝光劑量與這些條帶的曝光劑量的平均值的偏差不大于30％，

-?其中所述衍射光柵（26）相對(duì)于所述工件（12）的通過所述照射圖樣（36）曝光的所述表面（14）的至少一部分傾斜放置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中

-?所述衍射光柵（26）和所述光源（22）設(shè)置成，使得所述光源（22）的光相對(duì)于垂直于所述衍射光柵（26）的所述表面的法線方向（N）以角度（α）射到所述衍射光柵（26）上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中

-?所述衍射光柵（26）和所述工件（12）設(shè)置成，使得至少在所述工件（12）的由所述照射圖樣（36）曝光的所述表面（14）的一部分中，所述表面（14）的面法線（F）相對(duì)于垂直于所述衍射光柵（26）的所述表面的法線方向（N）以角度（?）設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中

-?所述工件（12）的所述表面（14）是彎曲的。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中

-?所述移動(dòng)設(shè)備包括用于轉(zhuǎn)動(dòng)所述工件（12）的設(shè)備。

6.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中

-?設(shè)有用于根據(jù)所述路徑順序自動(dòng)地操控所述移動(dòng)設(shè)備（28）的操控設(shè)備（30）。

7.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中

-?設(shè)有用于定位所述光學(xué)單元（20）的定位設(shè)備，使得所述第一曝光結(jié)構(gòu)和第二曝光結(jié)構(gòu)（40a，40b）的條帶上下相疊地設(shè)置，

-?其中所述路徑順序選擇成，使得在所述工件（12）的所述表面（14）上的所述曝光結(jié)構(gòu)（40）至少在兩個(gè)移動(dòng)路徑（42a-d）的交疊區(qū)域中具有至少基本上恒定的曝光。

8.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中

-?所述光學(xué)單元（20）構(gòu)成用于產(chǎn)生具有圖樣周期的條狀的照射圖樣（36），

-?并且所述路徑順序在沿縱向方向（X）的兩個(gè)移動(dòng)路徑（42a-d）之間具有偏移路徑（44），其中所述設(shè)備橫向于所述縱向方向以偏移路段偏移，所述偏移路段是所述圖樣周期的整數(shù)倍并且小于所述圖樣寬度（B）。

9.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中

-?所述路徑順序包括沿縱向方向（X）的多個(gè)平行的移動(dòng)路徑（42a-d），以便通過平行的、交疊的曝光結(jié)構(gòu)（40a，40b）在所述工件（12）的所述表面（14）上產(chǎn)生具有平行的條帶的曝光總結(jié)構(gòu)（40）。