[發(fā)明專利]在工件上產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880045199.6
• 申請(qǐng)日: 2018-07-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110869853B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-05-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 奧利弗·洪巴赫;托馬斯·魯爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 泰米科公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 王逸君;丁永凡

本發(fā)明涉及在具有光敏表面(14)的工件(12)上產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)的設(shè)備和方法。設(shè)備包括用于工件的容納部。光學(xué)單元(20)包括光源(22)和衍射光柵(26)，用于產(chǎn)生條狀的照射圖樣(36)，所述照射圖樣(36)具有在縱向方向(X)上伸展的條帶并且具有在橫向方向上延伸的圖樣寬度(B)。設(shè)備(28)設(shè)為用于根據(jù)路徑順序?qū)⒐ぜ?12)的表面(14)和光學(xué)單元(20)相對(duì)于彼此移動(dòng)。路徑順序包括在縱向方向(X)上的至少第一移動(dòng)路徑和第二移動(dòng)路徑(42a?d)，以便在工件(12)的表面(14)上產(chǎn)生彼此平行定向的具有條帶的第一曝光結(jié)構(gòu)和第二曝光結(jié)構(gòu)(42a?d)。第一移動(dòng)路徑和第二移動(dòng)路徑(42a?d)以小于圖樣寬度(B)彼此間隔開(kāi)，并且第一曝光結(jié)構(gòu)和第二曝光結(jié)構(gòu)(40a，40b)交疊成，使得第一曝光結(jié)構(gòu)和第二曝光結(jié)構(gòu)的條帶上下相疊地設(shè)置。為了通過(guò)照射圖樣獲得表面(14)的良好曝光，衍射光柵(26)相對(duì)于工件(12)的通過(guò)照射圖樣(36)曝光的表面(14)的至少一部分傾斜放置。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于在具有光敏表面的工件上產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)的一種設(shè)備和一種方法。

背景技術(shù)

產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)尤其可以用于制造表面輪廓。

例如，DE?43?33?620A1示出用于產(chǎn)生劑量輪廓的裝置和方法，用于制造表面輪廓，尤其用于微透鏡。在施加在表面上的光刻膠顯影之后，成形的輻射光斑在恒定的直線運(yùn)動(dòng)中產(chǎn)生輪廓形狀。成形的射束相對(duì)于物體在至少一個(gè)坐標(biāo)中運(yùn)動(dòng)，使得其以時(shí)間限定的方式掃過(guò)物體的表面，并且所述表面在此獲得局部不同的射束劑量。遮光板可以用于射束源的射束成形，例如光源、X射線源、電子源或離子源的射束成形。優(yōu)選地，將拋物線形的射束形狀和具有菲涅耳結(jié)構(gòu)的射束形狀用于制造微透鏡。

在US?6882?477?B1中描述SBIL(Scanning?Beam?Interference?Lithography，掃描射束干涉光刻)，其中基板在物體臺(tái)上在交疊且干涉的相干射束對(duì)下運(yùn)動(dòng)。形成的干涉圖樣形成“刷子”，借助所述“刷子”將周期性的和類(lèi)周期性的圖樣寫(xiě)在基板上。干涉圖樣的相位隨物體臺(tái)的運(yùn)動(dòng)是鎖相的。

在Gaté等人的“Fast?dynamic?interferometric?lithography?for?lagesubmicrometric?period?diffraction?gratings?production”，Optical?Engineering?52(9)，091712(2013年9月)中，借助于激光寫(xiě)入大的周期性光柵。寫(xiě)入頭由相位掩模組成，借助所述相位掩模將衍射圖樣投影到借助光刻膠覆層的基板上。通過(guò)基板的連續(xù)運(yùn)動(dòng)可在大的面積上產(chǎn)生一維或二維光柵。

發(fā)明內(nèi)容

視作為本發(fā)明的目的的是，提出一種設(shè)備和一種方法，借助所述設(shè)備和方法也可以在較大的面上以高質(zhì)量產(chǎn)生相對(duì)精細(xì)的結(jié)構(gòu)。

根據(jù)本發(fā)明，所述目的通過(guò)一種用于在具有光敏表面的工件上產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)的設(shè)備和一種用于在具有光敏表面的工件上產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)。下面的說(shuō)明書(shū)涉及本發(fā)明的有利的實(shí)施方式。

在根據(jù)本發(fā)明的方法和根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中，分別在工件的表面上產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)。工件的表面是光敏的，例如通過(guò)諸如光致抗蝕劑(光刻膠)的光敏層是光敏的。在此，工件的不同形狀和相關(guān)的表面可以被曝光，例如平坦表面或彎曲表面。表面尤其可以是圓柱表面。

根據(jù)本發(fā)明，借助光源通過(guò)照射平坦的衍射光柵、優(yōu)選振幅光柵來(lái)產(chǎn)生條帶狀的照射圖樣。尤其地，相干光源作為光源是優(yōu)選的，尤其激光光源。由其照射的衍射光柵例如可以是線性光柵，所述線性光柵具有沿縱向方向伸展的線狀的可透光的區(qū)域。優(yōu)選地，線性光柵掩模具有帶有規(guī)則結(jié)構(gòu)的大量的線，也就是說(shuō)，分別具有相同的線寬和相同的間距。例如，優(yōu)選的線性光柵掩模的結(jié)構(gòu)周期可以處于100nm至數(shù)微米的范圍中，優(yōu)選處于200nm至1μm的范圍中。例如，掩模可以是矩形的或正方形的，具有在例如10至400mm的范圍內(nèi)的典型的邊長(zhǎng)。