[發(fā)明專利]成像組件及其制作方法以及模塑模具、攝像模組和智能終端有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880044865.4 | 申請日： | 2018-07-19 |
| 公開（公告）號： | CN111344616B | 公開（公告）日： | 2022-05-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 田中武彥;姚立鋒;趙波杰;梅哲文 | 申請（專利權(quán)）人： | 寧波舜宇光電信息有限公司 |
| 主分類號： | G02B7/00 | 分類號： | G02B7/00;H04N5/225;G03B30/00 |
| 代理公司： | 北京方迪譽誠專利代理有限公司 11808 | 代理人： | 鄧斐;宣力偉 |
| 地址： | 315400 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 成像 組件 及其 制作方法 以及 模具 攝像 模組 智能 終端 | ||
1.一種成像組件，其特征在于，包括：
感光元件，具有感光區(qū)；以及
模塑封裝部，形成于所述感光區(qū)周圍并與所述感光元件相接觸，并且所述模塑封裝部具有傾斜內(nèi)側(cè)面和高于所述感光區(qū)的頂面，
其中所述模塑封裝部的頂面與所述感光元件的感光區(qū)之間的高度差小于或等于0.7mm，所述傾斜內(nèi)側(cè)面與所述頂面具有不同的表面粗糙度；
所述傾斜內(nèi)側(cè)面具有不光滑表面。
2.如權(quán)利要求1所述的成像組件，其特征在于，所述模塑封裝部的傾斜內(nèi)側(cè)面對于可見光的反射率小于或等于5％。
3.如權(quán)利要求1所述的成像組件，其特征在于，所述模塑封裝部的傾斜內(nèi)側(cè)面的表面粗糙度輪廓算術(shù)平均偏差大于或等于1μm。
4.如權(quán)利要求1所述的成像組件，其特征在于，所述模塑封裝部的頂面的表面粗糙度輪廓算術(shù)平均偏差大于傾斜內(nèi)側(cè)面的表面粗糙度輪廓算術(shù)平均偏差。
5.如權(quán)利要求1所述的成像組件，其特征在于，所述傾斜內(nèi)側(cè)面相對于所述感光區(qū)的傾斜角度為20-70度。
6.如權(quán)利要求1所述的成像組件，其特征在于，所述模塑封裝部的尺寸滿足以下不等式：
5d(1/sinα-1/tanα)≤(b1+2b2)，
其中，d表示所述模塑封裝部的頂面與所述感光元件的感光區(qū)之間的高度差，α表示所述傾斜內(nèi)側(cè)面相對于所述感光區(qū)的傾斜角度，b1表示在所述感光區(qū)上相對的所述傾斜內(nèi)側(cè)面之間的距離，b2表示所述傾斜內(nèi)側(cè)面在所述感光區(qū)的平面上正投影的長度。
7.如權(quán)利要求1所述的成像組件，其特征在于，所述模塑封裝部的尺寸滿足以下不等式：
d1(1/sinα1-1/tanα1)+d2(1/sinα2-1/tanα2)≤0.4(b1+b2+b3)，
其中，d1和d2表示所述模塑封裝部的頂面與所述感光元件的感光區(qū)之間的高度差，α1和α2表示所述傾斜內(nèi)側(cè)面相對于所述感光區(qū)的傾斜角度，b1表示在所述感光區(qū)上相對的所述傾斜內(nèi)側(cè)面之間的距離，b2和b3表示所述傾斜內(nèi)側(cè)面在所述感光區(qū)的平面上正投影的長度。
8.一種制作成像組件的方法，其特征在于，包括：
將感光元件安裝于待制作成像組件的線路板；
將柔性膜附著于模塑模具的下部，其中所述柔性膜具有背向所述模塑模具的不光滑表面，所述模塑模具的下部包括壓頭和位于所述壓頭四周的模塊部，所述壓頭的邊緣具有向內(nèi)傾斜表面；
將附著有所述柔性膜的模塑模具置于所述感光元件之上，并使所述模塊部面對所述感光元件的底面與所述感光元件的頂面之間的高度差小于或等于0.7mm；以及
在所述感光元件周圍以及所述模塊部面對所述感光元件的底面與所述感光元件的頂面之間，圍繞所述壓頭邊緣的向內(nèi)傾斜表面模塑成型模塑封裝部，以使得所述模塑封裝部鄰近于所述向內(nèi)傾斜表面形成的傾斜內(nèi)側(cè)面具有與附著于所述向內(nèi)傾斜表面的柔性膜的不光滑表面相對應(yīng)的不光滑表面。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述模塑封裝部的傾斜內(nèi)側(cè)面對于可見光的反射率小于或等于5％。
10.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述模塑封裝部的傾斜內(nèi)側(cè)面的表面粗糙度輪廓算術(shù)平均偏差大于或等于1μm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于寧波舜宇光電信息有限公司，未經(jīng)寧波舜宇光電信息有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201880044865.4/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
