[發(fā)明專(zhuān)利]光致抗蝕劑組合物和使用其的光致抗蝕劑膜

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880040313.6
• 申請(qǐng)日: 2018-11-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110785705B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-03-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樸銀石;林敏映;金智慧
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社LG化學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/004
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/004;G03F7/033;G03F7/028;G03F7/11
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 高世豪;梁笑

本發(fā)明涉及光致抗蝕劑組合物和使用其的光致抗蝕劑膜，所述光致抗蝕劑組合物能夠在形成精細(xì)圖案期間實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的圖案性能，并且能夠制備具有優(yōu)異的鍍覆液化學(xué)穩(wěn)定性的光致抗蝕劑膜。

技術(shù)領(lǐng)域

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求于2017年11月24日向韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)第10-2017-0158924號(hào)和于2018年10月30日向韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)第10-2018-0131270號(hào)的申請(qǐng)日的權(quán)益，它們的全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用并入本文。

本發(fā)明涉及光致抗蝕劑組合物和使用其的光致抗蝕劑膜。更具體地，本發(fā)明涉及這樣的光致抗蝕劑組合物和使用其的光致抗蝕劑膜，所述光致抗蝕劑組合物能夠在形成精細(xì)圖案期間實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的圖案性能，并且能夠制備具有優(yōu)異的鍍覆液化學(xué)穩(wěn)定性的光致抗蝕劑膜。

背景技術(shù)

光加工已成為主流微加工技術(shù)，并且封裝技術(shù)不斷變化為用于制造高密度封裝的工藝。

特別地，隨著半導(dǎo)體輸入/輸出端的數(shù)量增加，擴(kuò)展倒裝芯片的使用并且正在引入FOWLP(Fan-Out Wafer Level Packaging，扇出型晶圓級(jí)封裝)技術(shù)。此外，擴(kuò)展實(shí)現(xiàn)芯片之間的直接連接以使信號(hào)延遲最小化的TSV(Through Silicon Via，硅通孔)工藝。在這方面，對(duì)凸起(bump)技術(shù)的需求增加，并且形成凸起的凸起光致抗蝕劑的技術(shù)開(kāi)發(fā)被認(rèn)為非常重要。

在凸起光致抗蝕劑的情況下，(i)在10微米至100微米的厚膜中的感光度和分辨率應(yīng)為優(yōu)異的；(ii)應(yīng)通過(guò)鍍覆過(guò)程形成金屬凸起，因此圖案性能例如平直度、殘留特性、基腳(footing)特性和切口特性應(yīng)為良好的；以及(iii)對(duì)鍍覆液的耐受性應(yīng)為優(yōu)異的。

因此，使用光致抗蝕劑以提高厚膜中的感光度和分辨率。通常，上述光致抗蝕劑組合物包含：(a)樹(shù)脂，其通過(guò)酸離解以增加其在堿性顯影液中的溶解度；(b)光敏產(chǎn)酸劑(光致產(chǎn)酸劑)；以及(c)酸擴(kuò)散控制劑。

然而，通常向現(xiàn)有的光致抗蝕劑組合物中添加腐蝕抑制劑，但存在如下問(wèn)題：抗蝕劑組合物的制造生產(chǎn)率降低，例如腐蝕抑制劑的溶解性差，腐蝕抑制劑沒(méi)有很好地溶解，或者攪拌時(shí)間延長(zhǎng)；此外，在形成抗蝕劑圖案之后在鍍覆過(guò)程中抗蝕劑圖案中包含的腐蝕抑制劑溶解在鍍覆液中，從而污染鍍覆液。

在這方面，需要開(kāi)發(fā)這樣的新光致抗蝕劑組合物，其能夠在形成精細(xì)圖案期間實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的圖案性能，并且能夠制備具有優(yōu)異的鍍覆液化學(xué)穩(wěn)定性的光致抗蝕劑膜。

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問(wèn)題

本發(fā)明的一個(gè)目的是提供光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物能夠在形成精細(xì)圖案期間實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的圖案性能，并且能夠制備具有優(yōu)異的鍍覆液化學(xué)穩(wěn)定性的光致抗蝕劑膜。

本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供使用上述光致抗蝕劑組合物的光致抗蝕劑膜。

技術(shù)方案

本發(fā)明提供了光致抗蝕劑組合物，其包含(甲基)丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂，所述(甲基)丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂包含(甲基)丙烯酸類(lèi)重復(fù)單元和鍵合至所述重復(fù)單元的支鏈末端的由以下化學(xué)式1表示的官能團(tuán)。

[化學(xué)式1]

在化學(xué)式1中，R₁和R₂各自獨(dú)立地為氫、羧基、基于聚氧化烯的官能團(tuán)、具有1至20個(gè)碳原子的烷基、或具有6至20個(gè)碳原子的芳基，或者R₁和R₂彼此連接以形成具有3至20個(gè)碳原子的環(huán)烷基。

本發(fā)明還提供了光致抗蝕劑膜，其特征在于基腳長(zhǎng)度與光致抗蝕劑膜厚度之比為0.05或更小。