[發(fā)明專利]光致抗蝕劑組合物和使用其的光致抗蝕劑膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880040313.6 | 申請日: | 2018-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN110785705B | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 樸銀石;林敏映;金智慧 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社LG化學(xué) |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/033;G03F7/028;G03F7/11 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 高世豪;梁笑 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光致抗蝕劑 組合 使用 光致抗蝕劑膜 | ||
1.一種光致抗蝕劑組合物,包含光致產(chǎn)酸劑和(甲基)丙烯酸類樹脂,所述(甲基)丙烯酸類樹脂包含(甲基)丙烯酸類重復(fù)單元和鍵合至所述重復(fù)單元的支鏈末端的由以下化學(xué)式1表示的官能團(tuán):
[化學(xué)式1]
其中,在化學(xué)式1中,
R1和R2各自獨(dú)立地為氫、羧基、基于聚氧化烯的官能團(tuán)、具有1至20個碳原子的烷基、或具有6至20個碳原子的芳基,或者R1和R2彼此連接以形成具有3至20個碳原子的環(huán)烷基,
其中所述支鏈包含由以下化學(xué)式2表示的官能團(tuán):
[化學(xué)式2]
其中,在化學(xué)式2中,
R3為具有1至20個碳原子的烷基、或具有6至30個碳原子的芳基,
L為直接鍵、-O-、-CO-、-S-、-SO2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-CONH-、-COO-、-(CH2)y-、-O(CH2)yO-、-{(CH2)yO}p-、-NH-、-NH(CH2)y-NH-、-NH(CH2)yO-、-OCH2-C(CH3)2-CH2O-、-COO-(CH2)y-OCO-、或-OCO-(CH2)y-COO-,以及
L中的y和p各自獨(dú)立地為1至10的整數(shù),
其中化學(xué)式1的官能團(tuán)鍵合至化學(xué)式2的R3,
其中所述(甲基)丙烯酸類重復(fù)單元由以下化學(xué)式4表示:
[化學(xué)式4]
其中,在化學(xué)式4中,
R4至R7各自獨(dú)立地為氫或甲基,
R8為具有4至10個碳原子的烷基,
R9為由化學(xué)式2表示的官能團(tuán),
R10為具有3至20個碳原子的環(huán)烷基,以及
a:b:c:d的摩爾比為3至6:0.5至2:2至5:1至5。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物,其中,在化學(xué)式2中,R3為苯基,L為直接鍵或-{(CH2)yO}p-,以及y和p各自獨(dú)立地為1至5的整數(shù)。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





