[發(fā)明專利]諧振器以及諧振裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880037723.5 | 申請日: | 2018-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN110741550B | 公開(公告)日: | 2023-07-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 河合良太;維萊·卡亞卡里 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社村田制作所 |
| 主分類號: | H03H3/04 | 分類號: | H03H3/04;H03H9/17;H03H9/205;H03H9/21 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 金雪梅;王秀輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 諧振器 以及 諧振 裝置 | ||
1.一種諧振裝置的制造方法,該諧振裝置具備諧振器,該諧振器具有根據(jù)施加給電極的電壓進行振動的振動部,上述諧振裝置的制造方法包含:
在設(shè)置于上述振動部中的與其它的區(qū)域相比由振動引起的位移較大的區(qū)域的由鉬構(gòu)成的基底膜的表面形成由氧化鉬構(gòu)成的調(diào)整膜的工序;以及
通過激光,在殘留上述基底膜的同時除去上述調(diào)整膜中至少一部分來調(diào)整上述諧振器的頻率的工序。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振裝置的制造方法,其中,
形成上述調(diào)整膜的工序包含形成多個斑點狀的上述調(diào)整膜的工序,
調(diào)整上述頻率的工序通過激光除去至少一個斑點狀的上述調(diào)整膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的諧振裝置的制造方法,其中,
調(diào)整上述頻率的工序還包含照射具有比上述多個斑點狀的調(diào)整膜的直徑大的光斑直徑的激光的工序。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任意一項所述的諧振裝置的制造方法,其中,
還包含形成上述振動部的工序,
該形成振動部的工序包含在基板的上面依次形成第一電極層、壓電層、和第二電極層的工序。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的諧振裝置的制造方法,其中,
形成上述振動部的工序包含由上述第一電極層、上述第二電極層、以及上述壓電層形成進行彎曲振動的振動臂的工序,
與其它的區(qū)域相比由振動引起的位移較大的上述區(qū)域是上述振動臂的前端的區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的諧振裝置的制造方法,其中,
形成上述振動部的工序包含由上述第一電極層、上述第二電極層、以及上述壓電層形成進行輪廓振動的矩形形狀的振動部的工序,
與其它的區(qū)域相比由振動引起的位移較大的上述區(qū)域是上述振動部的四個角的區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求4~6中任意一項所述的諧振裝置的制造方法,其中,
形成上述調(diào)整膜的工序包含使上述基底膜氧化形成上述調(diào)整膜的工序。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的諧振裝置的制造方法,其中,
形成上述振動部的工序還包含在上述第二電極層的表面形成保護膜,并在該保護膜上形成上述基底膜的工序。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的諧振裝置的制造方法,其中,
形成上述振動部的工序還包含使上述基底膜與上述第一電極層或者上述第二電極層電連接的工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求4~7中任意一項所述的諧振裝置的制造方法,其中,
形成上述振動部的工序還包含在上述第二電極層形成保護膜的工序,
形成上述調(diào)整膜的工序還包含使上述調(diào)整膜與上述第一電極層或者上述第二電極層電連接的工序。
11.根據(jù)權(quán)利要求1~10中任意一項所述的諧振裝置的制造方法,其中,還包含:
準備下蓋的工序;以及
配置上蓋以使其夾著上述諧振器與上述下蓋對置的工序。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的諧振裝置的制造方法,其中,
調(diào)整上述頻率的工序通過在配置上述上蓋的工序之后使激光通過上述上蓋照射到上述調(diào)整膜來進行。
13.一種諧振器,具備:
振動部,根據(jù)施加給電極的電壓進行振動;
保持部,設(shè)置在上述振動部的周圍的至少一部分;
保持臂,設(shè)置在上述振動部與上述保持部之間,一端與上述振動部連接,另一端與上述保持部連接;
基底膜,設(shè)置于上述振動部中的與其它的區(qū)域相比由振動引起的位移較大的區(qū)域,由鉬構(gòu)成;以及
多個斑點狀的調(diào)整膜,在上述振動部中的與其它的區(qū)域相比由振動引起的位移較大的區(qū)域中,形成于上述基底膜的表面,由氧化鉬構(gòu)成。
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