[發明專利]具有帶有IR反射層以及含有多個層的高折射率氮化電介質膜的低E涂層的涂覆制品

有效

• 申請號: 201880028021.0
• 申請日: 2018-03-08
• 公開（公告）號: CN110573469B
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 丁國文;丹尼爾·施魏格特;明·勒;布倫特·博伊斯
• 申請（專利權）人: 佳殿玻璃有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 李新紅

本發明公開了一種涂覆制品，其包括低發射率(低E)涂層，該低發射率(低E)涂層具有材料諸如銀、金等的至少一個紅外(IR)反射層，和至少一個高折射率電介質多層膜。高折射率電介質多層膜可為或可包括第一高折射率層和第二高折射率層，第一高折射率層為或包含ZrSiN和/或ZrSiAlN，第二高折射率層為或包含氧化鈦(例如，T1O₂)。為或包含ZrSiN和/或ZrSiAlN的第一高折射率層可以是無定形的或基本上無定形的，并且在某些示例性實施方案中，或為或包含氧化鈦的第二高折射率層可以是基本上結晶的。低E涂層可用于應用諸如單片或絕緣玻璃(IG)窗單元、車窗等中。

本發明的示例性實施方案涉及一種涂覆制品，其包括低發射率(低E)涂層，該低發射率(低E)涂層具有材料諸如銀、金等的至少一個紅外(IR)反射層，和至少一個高折射率電介質雙層膜。高折射率電介質雙層膜可為或可包括第一高折射率層和第二高折射率層，第一高折射率層為或包含ZrSiN和/或ZrSiAlN，第二高折射率層為或包含氧化鈦(例如，TiO₂)。為或包含ZrSiN和/或ZrSiAlN的第一高折射率層可以是無定形的或基本上無定形的，并且在某些示例性實施方案中，或為或包含氧化鈦的第二高折射率層可以是基本上結晶的，其中無定形方面有助于低E涂層更好地經受任選的熱處理(HT)諸如熱回火。在某些示例性實施方案中，低E涂層可用于應用諸如單片或絕緣玻璃(IG)窗單元、車窗等中。

背景技術和發明內容

涂覆制品在本領域中已知用于窗應用，諸如絕緣玻璃(IG)窗單元、車窗、單片窗和/或類似應用。

常規的低E涂層公開于例如但不限于美國專利號6,576,349、9,212,417、9,297,197、7,390,572、7,153,579、和9,403,345中，這些專利的公開內容據此以引用方式并入本文。

某些低E涂層利用具有高折射率(n)的氧化鈦(例如，TiO₂)的至少一個透明電介質層，以用于抗反射和/或著色目的。參見例如美國專利號9,212,417、9,297,197、7,390,572、7,153,579、和9,403,345。雖然高折射率電介質材料TiO₂是已知的并且用于低E涂層中，但TiO₂具有非常低的濺射沉積速率并且在熱處理時不是熱穩定的，諸如在約650℃熱回火8分鐘，這是由于在剛沉積或后回火狀態中膜結晶(或結晶度變化)，這繼而可在膜疊堆中的相鄰層上引起熱應力或晶格應力。此類應力還可引起疊堆的物理特性或材料特性的變化，并因此影響Ag層，這導致低E疊堆性能劣化。TiO₂的低濺射沉積速率導致與制備包括此類層的低E涂層相關的顯著高成本。