[發(fā)明專利]具有包含TaC的涂層的碳材料及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880028002.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110573476B | 公開(公告)日: | 2022-08-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曺東完 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 韓國(guó)東海炭素株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C16/32 | 分類號(hào): | C23C16/32;C04B41/87;C04B35/52;C04B38/00;C04B41/45;C04B41/50;C04B41/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋融冰 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 包含 tac 涂層 材料 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明涉及在碳基材上形成有包含TaC(碳化鉭)的涂層的碳材料及其制造方法,本發(fā)明的具有包含TaC的涂層的碳材料包括碳基材;及在所述碳基材上形成的,由XRD分析的X線回折所發(fā)生的(111)面的回折峰值為最大值的包含TaC的涂層。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在碳基材上形成有包含TaC(碳化鉭)的涂層的碳材料及其制造方法
背景技術(shù)
在各個(gè)領(lǐng)域正進(jìn)行著,通過(guò)在基材表面采用不同種類的薄膜,提高材料的耐磨性、耐腐蝕性等的研究。其中,由于包含(TaC)的素材涂料技術(shù)在耐熱性、耐磨性及抗內(nèi)氣體蝕刻性等方面具有比薄膜材料更優(yōu)異的特征,特別備受關(guān)注。目前,在各種各樣的產(chǎn)業(yè)現(xiàn)場(chǎng),將包含TaC的涂層的碳材料形成于碳基材上的碳素材料,被使用于半導(dǎo)體用單晶制造裝置部材、精密機(jī)床、引擎用部件等。
此時(shí),所形成的包含TaC的涂層,由于與基材具有附著力,往往出現(xiàn)問(wèn)題。因此,許多企業(yè)及研究機(jī)構(gòu)對(duì)于在碳基材上具有高度附著力的包含TaC的涂層的形成技術(shù),正進(jìn)行著各種嘗試。
最近,可控制具有TaC素材的涂層的硬度或表面耐磨性的技術(shù)備受關(guān)注。如果能考慮到所需素材的用處,預(yù)測(cè)所需涂層的物性,并按其可形成具有合理程度物性的包含TaC的涂層,可在產(chǎn)業(yè)界的多種領(lǐng)域適用TaC素材。但是,到目前為止,因?yàn)闆](méi)有可精確預(yù)測(cè)表面刮傷值等物性的技術(shù),在形成包含TaC的涂層的過(guò)程中,難以精確預(yù)測(cè)出將要形成的涂層的物性。此外,為了控制表面硬度、表面刮傷值等,將何種變數(shù)要調(diào)整至什么程度,是在產(chǎn)業(yè)現(xiàn)場(chǎng)還未解決的一個(gè)不確定性問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)課題
本發(fā)明著眼于解決所述問(wèn)題,用于形成碳基材的附著力優(yōu)異,并具有包含高硬度和高表面刮痕值的TaC涂層的碳材料。
此外,本發(fā)明的另一個(gè)目的為在制造包含TaC的涂層的碳材料方面,為應(yīng)付所需水平的產(chǎn)品物性規(guī)格,提供一種將可控制變數(shù)(碳基材的選定、包含TaC的涂層的結(jié)晶粒大小、回避性特征、X線回折強(qiáng)度等)控制到適當(dāng)程度的技術(shù)。
但是,在本發(fā)明要解決的課題并不局限于如上所述的課題,且未提及的其它課題可通過(guò)如下說(shuō)明,為所屬領(lǐng)域具有通常知識(shí)的人提供理解上的幫助。
問(wèn)題解決手段
本發(fā)明的包含TaC的涂層的碳材料包括碳基材;及在所述碳基材上形成的,由XRD分析的X線回折所發(fā)生的(111)面的回折峰值為最大值的包含TaC的涂層。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述包含TaC的涂層的由X線回折發(fā)生的(111)面回折峰值與(200)面回折峰值之比可在0.40以下。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述包含TaC的涂層的XRD分析的回折線的半寬度可在0.15°以下。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述包含TaC的涂層的表面硬度可根據(jù)以下數(shù)學(xué)式1計(jì)算,
數(shù)學(xué)式1
表面硬度值(GPa)=-38A2+12A+14至17
A:XRD分析時(shí)包含TaC的涂層的(200)面的回折峰值/(111)面的回折峰值。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述包含TaC的涂層,平均結(jié)晶粒大小可為10μm-50μm。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述包含TaC的涂層的表面硬度可在15GPa以上。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述包含TaC的涂層的表面刮痕實(shí)驗(yàn)值可在3.5N以上。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,自所述碳基材表面深度為80μm-150μm的區(qū)域的TaC含量可為15vol%至20vol%。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述包含TaC的涂層的表面刮痕值可根據(jù)以下數(shù)學(xué)式2計(jì)算,
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于韓國(guó)東海炭素株式會(huì)社,未經(jīng)韓國(guó)東海炭素株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201880028002.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





