[發明專利]靜電消除裝置以及等離子體發生裝置

有效

• 申請號: 201880024348.0
• 申請日: 2018-11-28
• 公開（公告）號: CN110574500B
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 野村信雄;最上智史;峯村和樹;神田大樹;森下貴都;細田聰史;國中均
• 申請（專利權）人: 春日電機株式會社;國立研究開發法人宇宙航空研究開發機構
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24;H05F3/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;樸秀玉

該靜電消除裝置具備：真空室，能在內部設置帶電體，且具備進行蒸鍍的高真空處理部；以及等離子體發生裝置，向所述真空室的內部供給由電子回旋共振產生的等離子體。所述等離子體發生裝置具備：等離子體源，產生所述等離子體；以及法蘭，將所述等離子體源設置于所述真空室的內部。

技術領域

本發明涉及靜電消除裝置以及等離子體發生裝置。

本申請基于2018年9月12日在日本提出申請的日本特愿2018-170898號主張優先權，并將其內容援引于此。

背景技術

以往，具備真空室的靜電消除裝置中存在對真空室內的帶電體進行真空蒸鍍等處理和靜電消除的靜電消除裝置。這種靜電消除裝置的真空室內需要具有兩個空間：用于真空蒸鍍等處理的空間且真空度高的空間即高真空區域；以及用于靜電消除的空間且真空度低的空間即低真空區域。這種靜電消除裝置在進行了抽真空的真空室內朝向作為靜電消除對象的帶電體噴出氣體，由此對帶電體進行靜電消除(參照專利文獻1)。更具體而言，這種靜電消除裝置通過使帶電體被動地放電而對帶電體進行靜電消除。這種靜電消除裝置例如，使氬氣等氣體經由氣體導入管流向進行靜電消除的低真空區域，通過直流電源產生等離子體，使靜電消除對象與等離子體接觸，由此對帶電體進行靜電消除(參照專利文獻2)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2009-181938號公報

專利文獻2：日本特開平10-298758號公報

發明內容

發明所要解決的問題

然而，這種靜電消除裝置需要具備高真空區域和低真空區域，因此存在裝置大型化的問題。

鑒于上述情況，本發明的目的在于提供一種無需具備高真空區域和低真空區域的靜電消除裝置。

用于解決問題的方案

本發明的一個方案是一種靜電消除裝置，具備：真空室，能在內部設置帶電體，且具備高真空處理部；以及等離子體發生裝置，向所述真空室的內部供給由電子回旋共振產生的等離子體，所述等離子體發生裝置具備：等離子體源，產生所述等離子體；以及法蘭，將所述等離子體源設置于所述真空室的內部。

發明效果

通過本發明，能提供一種無需具備高真空區域和低真空區域的靜電消除裝置。

附圖說明

圖1是表示實施方式的靜電消除裝置100的構成的一個例子的圖。

圖2是表示實施方式的等離子體發生裝置500的構成的一個例子的圖。

圖3是實施方式中的等離子體源501的示意性的剖視圖。

圖4是實施方式中的等離子體源501的示意性的頂視圖。

圖5是對實施方式中的等離子體源501的動作進行說明的示意性的剖視圖。

圖6是表示實施方式中的噴嘴部60具有多個開口部610的情況下的開口部610的配置的一個例子的圖。

圖7是表示實驗結果的圖，所述實驗結果示出通過實施方式中的引出電極507將等離子體從等離子體源501引出的效果。

圖8是表示變形例中的阻礙件101的一個例子的圖。

圖9是對表示變形例中的阻礙件101的效果的實驗的實驗環境進行說明的說明圖。

圖10是表示實驗結果的一個例子的圖，所述實驗結果示出變形例中的阻礙件101的效果。

具體實施方式