[發明專利]優化用于產品單元的多階段處理的裝置有效
| 申請號: | 201880021072.0 | 申請日: | 2018-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN110494865B | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發明(設計)人: | J·尼杰;A·雅瑪;D·格科勞;G·特斯洛吉安尼斯;R·J·范維杰克;陳子超;F·R·斯佩林格;S·羅伊;C·D·格勞維斯特拉 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 呂世磊 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 優化 用于 產品 單元 階段 處理 裝置 | ||
1.一種優化用于襯底的多階段處理的裝置的方法,所述方法包括:
(a)接收對象數據,所述對象數據表示在不同階段在多個襯底上測量的一個或多個參數;
(b)確定跨所述多個襯底中的每個襯底的所述對象數據的變化的指印,所述指印與相應的不同階段相關聯;
(c)分析所述指印在所述不同階段的共性以產生共性結果;以及
(d)基于所述共性結果優化用于處理襯底的所述裝置。
2.根據權利要求1所述的方法,其中確定指印的步驟(b)包括:將所述對象數據分解成用于每個相應的不同階段的成分。
3.根據權利要求2所述的方法,其中分解包括:使用所述對象數據的主成分分析來獲得正交主成分。
4.根據權利要求1所述的方法,其中分析共性的步驟(c)包括:標識所述指印中的在所述不同階段共同的至少一個指印。
5.根據權利要求4所述的方法,其中分析所述指印的共性的步驟(c)包括:渲染控制板,所述控制板示出通過階段布置的所確定的指印,以及接收用戶輸入,所述用戶輸入標識所述指印中的在所述不同階段共同的所述至少一個指印。
6.根據權利要求1所述的方法,其中優化用于處理襯底的裝置的步驟(d)包括:優化用于處理用于在其多階段處理的后續階段從其測量所述對象數據的所述襯底的裝置。
7.根據權利要求2所述的方法,其中所述成分接收屬性數據。
8.根據權利要求7所述的方法,其中所述屬性數據指示以下中的一項或多項:解釋跨所述襯底的對象數據的變化的所述成分的相關性、所述成分的可靠性、以及在遵守所述成分的情況下工藝的預期產量。
9.根據權利要求7所述的方法,其中優化用于處理所述襯底的所述裝置的步驟(d)基于所述共性結果和所述屬性數據。
10.根據權利要求1所述的方法,還包括接收上下文數據的步驟(e),所述上下文數據表示所述襯底的所述不同階段的處理的一個或多個參數,其中優化用于后續階段的處理的裝置的步驟(d)基于所標識的至少一個指印和所述上下文數據。
11.根據權利要求10所述的方法,其中優化用于后續階段的處理的裝置的步驟(d)包括:使所標識的至少一個指印與所接收的上下文數據相關,以標識用于后續階段的處理的特定裝置。
12.根據權利要求11所述的方法,其中優化用于后續階段的處理的裝置的步驟(d)包括:基于所標識的至少一個指印和所接收的上下文數據來預測跨襯底的產品性能變化,以確定要應用于所述裝置以用于后續階段的處理的工藝校正。
13.根據權利要求1所述的方法,還包括對性能數據集進行排序的步驟,所述對性能數據集進行排序的步驟包括:
(a)確定與第一性能數據集相關聯的第一概率密度函數,所述第一性能數據集是通過對在根據權利要求1的步驟(d)優化用于處理襯底的所述裝置之前處理的襯底的測量而獲得的;
(b)確定與第二性能數據集相關聯的第二概率密度函數,所述第二性能數據集是通過對在根據權利要求1的步驟(d)優化用于處理襯底的所述裝置之后處理的襯底的測量而獲得的;以及
(c)基于所述第一概率密度函數和所述第二概率密度函數對所述性能數據集進行排序。
14.一種計算機程序存儲介質,包括計算機可讀指令,所述計算機可讀指令當在計算機設備上運行時引起所述計算機設備執行根據權利要求1所述的方法。
15.一種計算設備,包括根據權利要求14所述的計算機程序存儲介質。
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