[發(fā)明專利]研磨用組合物有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880020117.2 | 申請日： | 2018-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN110431210B | 公開（公告）日： | 2022-09-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 伊藤康昭;織田博之;野口直人 | 申請（專利權(quán)）人： | 福吉米株式會社 |
| 主分類號： | C09K3/14 | 分類號： | C09K3/14;C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 研磨 組合 | ||
本發(fā)明提供一種研磨用組合物，其能有效地提高研磨速率。根據(jù)本發(fā)明，提供一種用于對研磨對象材料進(jìn)行研磨的研磨用組合物。該研磨用組合物包含水、氧化劑和研磨促進(jìn)劑，且不含磨粒。作為研磨促進(jìn)劑，包含選自由堿金屬鹽及堿土金屬鹽組成的組中的至少1種金屬鹽。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及研磨用組合物。詳細(xì)而言，涉及研磨對象材料的研磨中所用的研磨用組合物。本申請基于2017年3月23日申請的日本專利申請2017-57610號主張優(yōu)先權(quán)，該申請的全部內(nèi)容作為參照而并入到本說明書中。
背景技術(shù)
對于金剛石、藍(lán)寶石(氧化鋁)、碳化硅、碳化硼、碳化鎢、氮化硅、氮化鈦等研磨對象材料的表面，通常通過對研磨壓盤供給金剛石磨粒而進(jìn)行的打磨(lapping)來進(jìn)行加工。然而，在使用金剛石磨粒的打磨中，由于劃痕的產(chǎn)生、殘留等，容易產(chǎn)生缺陷、變形。因此，正在研究在使用了金剛石磨粒的打磨后、或代替該打磨而進(jìn)行的研磨(拋光，polishing)，所述研磨使用研磨墊，向該研磨墊與研磨對象物之間供給研磨漿料而進(jìn)行。作為公開這種現(xiàn)有技術(shù)的文獻(xiàn)，可舉出專利文獻(xiàn)1～3。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1：國際公開第2013/051555號
專利文獻(xiàn)2：日本專利申請公開2011-159998號公報
專利文獻(xiàn)3：日本專利申請公開2012-253259號公報
發(fā)明內(nèi)容
近年來，關(guān)于碳化硅等研磨對象物表面的拋光中所用的研磨用組合物，從減少劃痕等凹坑缺陷及以形態(tài)(morphology)觀察所無法檢測出的潛在傷痕等觀點來看，要求盡量不使用磨粒。然而，若不使用磨粒，則有研磨速率(每單位時間去除研磨對象物的表面的量)降低的問題。關(guān)于這點，上述專利文獻(xiàn)1中提出了通過在不含磨粒的研磨用組合物中對氧化劑等含有成分進(jìn)行研究來改善研磨速率。然而，即使通過這樣的技術(shù)，也不足以滿足研磨速率相關(guān)的實用的要求水平，還有改善的余地。
本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的。其主要目的在于提供一種研磨用組合物，所述研磨用組合物在研磨對象物的研磨中有效地提高研磨速率、能減少劃痕等凹坑缺陷及以形態(tài)觀察所無法檢測出的潛在傷痕。相關(guān)的其他目的在于提供一種使用上述研磨用組合物來對研磨對象物進(jìn)行研磨的方法。
根據(jù)本發(fā)明，提供一種研磨用組合物，其用于研磨對象物的研磨。該研磨用組合物包含水、氧化劑和研磨促進(jìn)劑，且不含磨粒。作為前述研磨促進(jìn)劑，包含選自由堿金屬鹽及堿土金屬鹽組成的組中的至少1種金屬鹽。通過如此使用包含堿金屬鹽和/或堿土金屬鹽的研磨用組合物作為研磨促進(jìn)劑，對于不含磨粒的研磨用組合物，可大幅提高研磨速率。
此處公開的研磨用組合物的優(yōu)選的一方式中，pH為5.5以上。pH處于上述范圍的研磨用組合物中，可更適宜地發(fā)揮本發(fā)明的應(yīng)用效果。
此處公開的研磨用組合物的優(yōu)選的一方式中，前述研磨用組合物中的前述金屬鹽的濃度C1[摩爾/L]與前述氧化劑的濃度C2[摩爾/L]之比(C1/C2)為0.001～70的范圍內(nèi)。通過以成為特定的濃度比的方式組合使用上述研磨促進(jìn)劑與氧化劑，可更適宜地發(fā)揮研磨速率提高效果。
此處公開的研磨用組合物的優(yōu)選的一方式中，前述研磨對象物的構(gòu)成材料具有1500Hv以上的維氏硬度。對于研磨對象材料為高硬度材料的研磨用組合物，可更適宜地發(fā)揮本發(fā)明的應(yīng)用效果。
此處公開的研磨用組合物的優(yōu)選的一方式中，前述研磨對象物的構(gòu)成材料為碳化硅。對于研磨對象材料為碳化硅的研磨用組合物，可更適宜地發(fā)揮本發(fā)明的應(yīng)用效果。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于福吉米株式會社，未經(jīng)福吉米株式會社許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201880020117.2/2.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
