[發明專利]光照射裝置

有效

• 申請號: 201880019554.2
• 申請日: 2018-04-10
• 公開（公告）號: CN110462503B
• 公開（公告）日: 2022-09-30
• 發明（設計）人: 新井敏成
• 申請（專利權）人: 株式會社V技術
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G02F1/13
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 佟勝男

本發明涉及一種光照射裝置，該光照射裝置能夠使原本應形成曝光圖案的位置與實際曝光的曝光圖案的位置一致。在與第一方向(x方向)大致正交的第二方向(y方向)上，在掩模(32)上形成的透光區域(32a)與光軸(Ax)間的距離為由通過透光區域(32a)的光形成在基板(W)上的曝光圖案與光軸(Ax)間的距離的A(A為1以上的數值)倍。

技術領域

本發明涉及光照射裝置。

背景技術

專利文獻1中公開了一種光照射裝置，其將從燈放出的光以橢圓聚光鏡聚光，使其通過輸入透鏡、偏振元件、積分器透鏡、準直透鏡等，將準直透鏡射出的平行光經由掩模向工件照射，按劃分像素進行光取向。

專利文獻2中公開了一種曝光裝置，其包括：光源，其向工件照射光；偏振元件，其使從光源向工件照射的光對應于偏振光成分分支；第一均勻化部，其設置在光源與偏振元件之間，使從光源射入的光的光強度分布均勻；第一平行化部，其設置在第一均勻化部與偏振元件之間，使得通過第一均勻化部使光強度分布均勻的光成為平行光；第二均勻化部，其設置在第一平行化部與偏振元件之間，為了接收通過第一平行化部成為平行光的均勻的光強度分布的光并使射入針對偏振元件的各入射點的光的射入角均勻，使聚焦于各入射點的多個入射光的光強度均勻；以及第二平行化部，其設置在第二均勻化部與偏振元件之間，使得通過第二均勻化部使多個入射光的光強度均勻的光成為平行光。第一均勻化部及第二均勻化部使用復眼透鏡，第一平行化部及第二平行化部使用聚光透鏡。

在先技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平11-194345號公報

專利文獻2：日本特開2013-167832號公報

發明內容

發明要解決的課題

在專利文獻1所記載的光照射裝置中，利用橢圓聚光鏡聚光后的光的強度分布并不均勻，通過準直透鏡的光沒有嚴格地成為平行光，相對于光軸傾斜的光被照射到工件上。圖17是說明照射相對于光軸傾斜的光時的曝光圖案的位置偏移的圖。相對于光軸傾斜的光L2在通過光掩模111的掩模圖案的開口部111a時，在工件W上曝光的曝光圖案的位置P2相對于原本應形成的位置P1(平行于光軸的光L1通過開口部111a時在工件W上曝光的曝光圖案的位置)偏移。特別地，在針對高分辨率顯示器用的基板進行光取向時，即使曝光圖案的位置偏移很小也會出現問題。

在專利文獻2所記載的發明中，由于使用第一均勻化部、第一平行化部、第二均勻化部及第二平行化部使光的強度分布均勻化并向工件照射平行光，因此能夠使原本應形成曝光圖案的位置與實際曝光的曝光圖案的位置一致。但是，在專利文獻2所記載的發明中，由于必須使用兩個均勻化部(復眼透鏡)，因此導致裝置大型化且制造成本增加。

本發明是鑒于這種情況提出的，目的在于提供一種能夠僅以一組均勻化部及平行化部使原本應形成曝光圖案的位置與實際曝光的曝光圖案的位置一致的光照射裝置。

用于解決課題的方案

為了解決上述課題，本發明的光照射裝置例如沿基板的第一方向以帶狀形成曝光圖案，其特征在于，包括：光源，其射出光；掩模，其在與光軸不交叉的位置形成有沿所述第一方向的帶狀的透光區域；準直機構，其使從所述光源射出的光成為平行光并向所述掩模照射；以及復眼透鏡，其配置在所述光源與所述準直機構之間，使向所述掩模照射的光的強度分布均勻，在與所述第一方向大致正交的第二方向上，所述透光區域與所述光軸間的距離為由通過所述透光區域的光形成在所述基板上的曝光圖案與所述光軸間的距離的A(A為1以上的數值)倍。