[發明專利]光照射裝置有效
| 申請號： | 201880019554.2 | 申請日： | 2018-04-10 |
| 公開（公告）號： | CN110462503B | 公開（公告）日： | 2022-09-30 |
| 發明（設計）人： | 新井敏成 | 申請（專利權）人： | 株式會社V技術 |
| 主分類號： | G02F1/1337 | 分類號： | G02F1/1337;G02F1/13 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 佟勝男 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 照射 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種光照射裝置，其沿基板的第一方向以帶狀形成曝光圖案，所述光照射裝置的特征在于，包括：
光源，其射出光；
掩模，其在與光軸不交叉的位置形成有沿所述第一方向的帶狀的透光區域；
準直機構，其使從所述光源射出的光成為大致平行光并向所述掩模照射；以及
復眼透鏡，其配置在所述光源與所述準直機構之間，使向所述掩模照射的光的強度分布均勻，且所述復眼透鏡包括透鏡FE1～FEn，其中，n＝1、2、3或4，
在與所述第一方向大致正交的第二方向上，使所述透光區域以位移量的絕對值向遠離所述光軸的方向平行移動，從而使所述透光區域與所述光軸間的距離為由通過所述透光區域的光形成在所述基板上的曝光圖案與所述光軸間的距離的A倍，其中，A為大于1的數值，
其中，所述位移量＝(FE1的光量×FE1的照射位置偏離量+……+FEn的光量×FEn的照射位置偏離量)/(FE1的光量+……+FEn的光量)。
2.根據權利要求1所述的光照射裝置，其特征在于，包括：
平臺，其載置所述基板；以及
掩模移動部，其使所述掩模沿與所述平臺的上表面大致正交的方向移動。
3.根據權利要求1或2所述的光照射裝置，其特征在于，
所述光源具有射出光的燈和在所述燈的背面側設置的反射鏡，
所述光照射裝置包括使所述燈沿所述光軸移動的燈移動部。
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