[發明專利]粒子表征

有效

• 申請號: 201880018559.3
• 申請日: 2018-03-20
• 公開（公告）號: CN110431398B
• 公開（公告）日: 2023-03-21
• 發明（設計）人: 賈森·科比特;亞歷克斯·馬爾姆
• 申請（專利權）人: 馬爾文帕納科公司
• 主分類號: G01N15/02
• 分類號: G01N15/02;G01N15/00
• 代理公司: 成都超凡明遠知識產權代理有限公司 51258
• 代理人: 王暉;吳莎

1.一種表征樣品中的粒子的方法，包括：

獲得散射測量，所述散射測量包括來自檢測器的對散射光的測量的時間序列，所述散射光通過照射光束與所述樣品的相互作用產生；

產生經校正的散射測量，包括通過使所述散射測量的至少一些時間段中的散射強度減少來補償來自污染物的散射貢獻；

根據所述經校正的散射測量確定粒子特性；

其中，減少所述散射強度包括確定來自污染物的散射貢獻的模型，并且然后從所述散射測量中減去所述模型，其中，確定所述模型包括：對所述散射測量進行低通濾波或平滑和/或執行對所述散射測量中的一個或更多個尖峰的擬合。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，減少所述散射強度包括修改記錄的散射測量。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中，減少所述散射強度包括對所述散射測量進行高通濾波。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其中，減少所述散射強度包括根據所述散射測量確定污染物參數，其中，減少所述散射強度的步驟對所述污染物參數為響應性的。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述污染物參數包括用于濾波操作的截止頻率。

6.根據權利要求4所述的方法，其中，確定所述污染物參數包括在所述散射測量的頻譜內容中尋找統計離群值。

7.根據權利要求1或2所述的方法，其中，產生經校正的散射測量包括：通過將從未經校正的散射測量得出的原始自相關函數的一部分與從經調整的散射測量得出的經調整的自相關函數的一部分相組合，來產生復合自相關函數，在所述經調整的散射測量中，已使至少一個時間段中的散射強度減少以補償來自污染物的散射貢獻。

8.根據權利要求7所述的方法，其中，所述原始自相關函數的一部分與比所選擇的延遲時間短或與所選擇的延遲時間相等的延遲時間對應，并且所述經調整的自相關函數的一部分與比所述所選擇的延遲時間長或與所述所選擇的延遲時間相等的延遲時間對應。

9.根據權利要求8所述的方法，包括：使所述原始自相關函數歸一化，使得所述復合自相關函數在所述所選擇的延遲時間處是連續的。

10.根據權利要求8或9所述的方法，其中，所述所選擇的延遲時間在50至200微秒的范圍內。

11.根據權利要求8或9所述的方法，其中，所述所選擇的延遲時間被確定成使得在所述所選擇的時間延遲處所述原始自相關函數的線性區域的梯度與所述經調整的自相關函數的相同線性區域的梯度匹配。

12.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述散射測量包括光子脈沖序列，并且減少所述散射強度包括從所述序列中刪除光子脈沖。

13.根據權利要求12所述的方法，其中，從所述序列中刪除光子脈沖包括：將所述光子脈沖序列分筐，并且通過從每個所選擇的筐中刪除一數量的光子脈沖來校正該所選擇的筐。

14.根據權利要求13所述的方法，其中，減少所述散射強度包括：確定來自污染物的散射貢獻的模型，所述模型包括對每個筐中由于來自污染物的散射而引起的光子脈沖的數量進行估計，并且校正所述所選擇的筐包括基于對每個所選擇的筐的所述估計刪除該數量的光子脈沖。

15.一種用于表征粒子的設備，包括：光源、樣品池、檢測器和處理器；其中，

所述光源能操作以用光束照射所述樣品池內的樣品，以便通過所述光束與所述樣品的相互作用產生散射光；

所述檢測器被配置為檢測所述散射光并產生測量的時間序列；并且

所述處理器被配置為：

獲得散射測量，所述散射測量包括來自所述檢測器的對所述散射光的測量的時間序列；

產生經校正的散射測量，包括通過使所述散射測量的至少一些時間段中的散射強度減少來補償來自污染物的散射貢獻；

根據所述經校正的散射測量確定粒子特性；

其中，減少所述散射強度包括確定來自污染物的散射貢獻的模型，并且然后從所述散射測量中減去所述模型，其中，確定所述模型包括：對所述散射測量進行低通濾波或平滑和/或執行對所述散射測量中的一個或更多個尖峰的擬合。