[發明專利]透明光學膜的制造方法及透明多層膜的制造方法

有效

• 申請號: 201880018079.7
• 申請日: 2018-02-01
• 公開（公告）號: CN110418855B
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: 中村誠吾;梅田賢一;板井雄一郎;園田慎一郎
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: C23C14/14
• 分類號: C23C14/14;C23C14/58;G02B1/116;B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B15/20;B32B33/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 薛海蛟

本發明提供一種有效地制造包含透明且為極薄膜的銀合金層的透明光學膜的透明光學膜的制造方法及使用了透明光學膜的制造方法的透明多層膜的制造方法。具有以下工序：成膜工序，包含將厚度為6nm以下的銀層通過真空蒸鍍進行成膜的銀蒸鍍工序、及將由標準電極電位大于銀的高標準電極電位金屬構成的高標準電極電位金屬層通過真空蒸鍍進行成膜的高標準電極電位金屬蒸鍍工序，并且在基材上至少將銀層和高標準電極電位金屬層進行層疊成膜；以及合金化工序，通過在50℃以上且400℃以下的溫度下進行加熱處理，在銀層中使高標準電極電位金屬擴散來形成銀合金層。

技術領域

本發明涉及一種防反射膜及透明導電膜等所具備的透明光學膜的制造方法、及使用該制造方法的透明多層膜的制造方法。

背景技術

以往，在使用玻璃以及塑料等透光性部件的透鏡(透明基材)中，為了減少基于表面反射的透射光的損失而在光入射面上設置有防反射膜。

作為相對于可見光顯示出極低的反射率的防反射膜，已知有在最上層具備比可見光的波長短的間距的微細凹凸結構、或形成有大量孔而成的多孔結構的結構。若使用將微細凹凸結構或多孔結構等結構層作為低折射率層而在最上層上具有的防反射膜，則在可見光區域的寬波長頻帶內能夠獲得0.2％以下的超低反射率。然而，這種防反射膜由于在表面上具有微細結構，因此存在機械強度小，且極不耐于擦拭等外力這種缺點。因此，在作為照相機透鏡等而使用的組透鏡的最表面(第1透鏡表面以及最終透鏡背面)等用戶所接觸的位置上，無法實施具備結構層的超低反射率涂層。

另一方面，作為在表面不具備構造層的防反射膜，在日本特開2007-206146號公報及日本特開2013-238709號公報等中提出有在多個電介質膜的層疊體中包含金屬層的防反射膜。

在日本特開2007-206146號公報中，記載有作為防反射膜中所含的金屬層的構成物質優選銀，但銀會因環境中的污染物質、水、氧、堿金屬鹵化物……等而劣化、凝集，因此也記載有優選在銀中含有一種以上的金、白金、鈀……等的在環境中穩定的貴金屬或稀土類等金屬的合金的內容。并且，在日本特開2007-206146號公報中記載有優選設置防止在防反射膜的表面上附著污垢的防污層的內容，作為防污層，可舉出有機氟化合物等。

在日本特開2013-238709號公報中，為了實現更低的反射率，提出有具備在低折射率層和高折射率層交替層疊而成的層疊體與具有露出到空氣的表面的電介質層之間含有銀的金屬層的結構。

發明內容

發明要解決的技術課題

在日本特開2013-238709號公報中記載的防反射膜實現非常良好的防反射性能。然而，銀容易被氧化，尤其鹽水等的鹵耐性低。水分或氯離子主要從防反射膜的空氣曝露面入侵并到達包含銀的金屬層，使銀氧化。若銀被氧化，則防反射膜的防反射功能下降。在日本特開2013-238709號公報中記載的防反射膜未采取用于抑制銀的劣化的對策。因此，認為存在耐久性的課題。

在日本特開2007-206146號公報中，公開有在最表面設置防污層的內容，但該防污層僅為了防止表面的污垢而設置，關于與抑制銀的劣化相關的內容并無敘述。并且，實際上，即使設置防污層，也并非一定能夠獲得充分的抑制銀的劣化的效果。

而且，在日本特開2007-206146號公報中提出為了使在環境中不穩定的銀穩定化而使用由包含一種以上的貴金屬或稀土類金屬的合金構成的金屬薄膜層的內容，且敘述有為了形成金屬薄膜層，能夠采用濺射、離子鍍、真空蒸鍍、電鍍等以往公知的方法中的任一種。

然而，在日本特開2007-206146號公報的實施例中，未明確記載有作為金屬薄膜層而將AgAu合金進行成膜的具體的成膜方法。