[發明專利]透明光學膜的制造方法及透明多層膜的制造方法

有效

• 申請號: 201880018079.7
• 申請日: 2018-02-01
• 公開（公告）號: CN110418855B
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: 中村誠吾;梅田賢一;板井雄一郎;園田慎一郎
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: C23C14/14
• 分類號: C23C14/14;C23C14/58;G02B1/116;B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B15/20;B32B33/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 薛海蛟

1.一種透明光學膜的制造方法，其具有以下工序：

成膜工序，包含將厚度為6nm以下的銀層通過真空蒸鍍進行成膜的銀蒸鍍工序、及將由作為標準電極電位大于銀的金屬的高標準電極電位金屬構成的層即高標準電極電位金屬層通過真空蒸鍍進行成膜的高標準電極電位金屬蒸鍍工序，并且在基材上至少將所述銀層和所述高標準電極電位金屬層進行層疊成膜；以及

合金化工序，通過在200℃以上且400℃以下的溫度下實施加熱處理，在所述銀層中使所述高標準電極電位金屬擴散來形成銀合金層，

所述成膜工序包含將由表面能小于銀的錨金屬構成的錨金屬層在比所述銀層更靠所述基材側通過真空蒸鍍進行成膜的錨金屬蒸鍍工序，

作為所述錨金屬，使用選自鉍、鉛、鎂、鎵、鍺的至少一種，

作為所述高標準電極電位金屬，使用金，

在所述成膜工序中，依次實施所述錨金屬蒸鍍工序、所述高標準電極電位金屬蒸鍍工序和所述銀蒸鍍工序，

所述透明光學膜的制造方法制造包含所述銀合金層的透明光學膜。

2.一種透明光學膜的制造方法，其具有以下工序：

成膜工序，包含將厚度為6nm以下的銀層通過真空蒸鍍進行成膜的銀蒸鍍工序、及將由作為標準電極電位大于銀的金屬的高標準電極電位金屬構成的層即高標準電極電位金屬層通過真空蒸鍍進行成膜的高標準電極電位金屬蒸鍍工序，并且在基材上至少將所述銀層和所述高標準電極電位金屬層進行層疊成膜；以及

合金化工序，通過在200℃以上且400℃以下的溫度下實施加熱處理，在所述銀層中使所述高標準電極電位金屬擴散來形成銀合金層，

所述成膜工序包含將由表面能小于銀的錨金屬構成的錨金屬層在比所述銀層更靠所述基材側通過真空蒸鍍進行成膜的錨金屬蒸鍍工序，

作為所述錨金屬，使用選自鉍、鉛、鎂、鎵、鍺的至少一種，

作為所述高標準電極電位金屬，使用金，

在所述成膜工序中，依次實施所述高標準電極電位金屬蒸鍍工序、所述錨金屬蒸鍍工序和所述銀蒸鍍工序，

所述透明光學膜的制造方法制造包含所述銀合金層的透明光學膜。

3.根據權利要求1所述的透明光學膜的制造方法，其中，

經由所述錨金屬蒸鍍工序、所述銀蒸鍍工序及所述高標準電極電位金屬蒸鍍工序來將所述錨金屬層、所述銀層及所述高標準電極電位金屬層進行層疊成膜后，在含有氧的環境氣體下實施所述合金化工序，由此實施氧化工序，所述氧化工序中，在形成所述銀合金層的同時使所述錨金屬的至少一部分氧化。

4.根據權利要求2所述的透明光學膜的制造方法，其中，

經由所述錨金屬蒸鍍工序、所述銀蒸鍍工序及所述高標準電極電位金屬蒸鍍工序來將所述錨金屬層、所述銀層及所述高標準電極電位金屬層進行層疊成膜后，在含有氧的環境氣體下實施所述合金化工序，由此實施氧化工序，所述氧化工序中，在形成所述銀合金層的同時使所述錨金屬的至少一部分氧化。

5.一種透明光學膜的制造方法，其具有以下工序：

成膜工序，包含將厚度為6nm以下的銀層通過真空蒸鍍進行成膜的銀蒸鍍工序、及將由作為標準電極電位大于銀的金屬的高標準電極電位金屬構成的層即高標準電極電位金屬層通過真空蒸鍍進行成膜的高標準電極電位金屬蒸鍍工序，并且在基材上至少將所述銀層和所述高標準電極電位金屬層進行層疊成膜；以及

合金化工序，通過在200℃以上且400℃以下的溫度下實施加熱處理，在所述銀層中使所述高標準電極電位金屬擴散來形成銀合金層，

所述成膜工序包含將由表面能小于銀的錨金屬構成的錨金屬層在比所述銀層更靠所述基材側通過真空蒸鍍進行成膜的錨金屬蒸鍍工序，

作為所述錨金屬，使用選自鉍、鉛、鎂、鎵、鍺的至少一種，

作為所述高標準電極電位金屬，使用金，

依次實施所述錨金屬蒸鍍工序和所述銀蒸鍍工序來在所述基材上依次層疊所述錨金屬層及所述銀層后，實施氧化工序，所述氧化工序中，在含有氧的環境氣體下進行加熱處理，由此使所述錨金屬的至少一部分氧化，

在該氧化工序之后，實施所述高標準電極電位金屬蒸鍍工序，

所述透明光學膜的制造方法制造包含所述銀合金層的透明光學膜。