[發明專利]真空泵的排氣系統、裝備于真空泵的排氣系統的真空泵、吹掃氣體供給裝置、溫度傳感器單元及真空泵的排氣方法有效
| 申請號: | 201880015710.8 | 申請日: | 2018-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN110366640B | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發明(設計)人: | 樺澤剛志 | 申請(專利權)人: | 埃地沃茲日本有限公司 |
| 主分類號: | F04D19/04 | 分類號: | F04D19/04;F04C25/02 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱美紅;傅永霄 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空泵 排氣 系統 裝備 氣體 供給 裝置 溫度傳感器 單元 方法 | ||
實現精度良好地測量旋轉部的溫度的真空泵的排氣系統、真空泵、吹掃氣體供給裝置、溫度傳感器單元及真空泵的排氣方法。在有關本實施方式的真空泵的排氣系統中,真空泵至少在旋轉部的溫度測量時,供給以下的某一方的量的吹掃氣體:在比溫度傳感器單元靠下游側的至少一部分、吹掃氣體的流速比倒流的氣體的流速快的量;或溫度傳感器單元周圍的氣體壓力成為中間流或粘性流的量。進而,本實施方式的排氣系統具有能夠對向真空泵導入的吹掃氣體的流量進行控制的吹掃氣體供給裝置。通過該結構,在溫度測量時在溫度傳感器單元周圍,防止工藝氣體的倒流而防止成分結構變化,能夠精度良好地測量旋轉部的溫度。
技術領域
本發明涉及真空泵的排氣系統、裝備于真空泵的排氣系統的真空泵、吹掃氣體(purge gas)供給裝置、溫度傳感器單元及真空泵的排氣方法,更詳細地講,涉及精度良好地測量真空泵的旋轉部的溫度的構造。
背景技術
在通過使旋轉部高速旋轉來進行排氣的真空泵的排氣系統中,有真空泵的旋轉部達到超過100度的高溫的情況。如果在這樣旋轉部成為高溫的狀態下繼續高速旋轉,則由蠕變(creep)現象帶來的旋轉部的耐久性成為問題。
從將這樣的蠕變狀態防止于未然的觀點,需要測量、監視旋轉部的溫度。此外,由于旋轉部進行高速旋轉,所以需要使用非接觸式的溫度傳感器(溫度傳感器單元)進行測量。
圖7是用來說明以往的真空泵的排氣系統2000的圖。
在裝備于以往的真空泵的排氣系統2000的真空泵中,在定子柱2020的下游側的外徑部配設溫度傳感器單元2019而計測旋轉部10的內徑部的溫度。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:WO2010/021307
專利文獻2:日本特開平11-37087號
專利文獻3:日本特許3201348號。
發明內容
發明要解決的課題
在專利文獻1中,記載有配設多個溫度傳感器、根據各個溫度傳感器的溫度差來推定旋轉葉片(旋轉部)的溫度的方法。更詳細地講,公開了以下的方法:在形成在真空泵(渦輪分子泵)的旋轉葉片的內側的吹掃氣體的路徑在兩處設置溫度傳感器,根據由經由吹掃氣體傳遞的熱量產生的溫度差,來推測旋轉葉片的溫度。在該測量方法的情況下,為了精度良好地測量溫度,溫度傳感器的周圍的氣體環境優選的是吹掃氣體100%。
這里,一般吹掃氣體的流量為20sccm(1分鐘20cc)左右,所以吹掃氣體流動的速度(流速)較小。例如,在旋轉葉片的內徑為200mm、吹掃氣體的流路的寬度為5mm、壓力為2Torr的情況下,吹掃氣體的平均速度以每秒4cm左右的非常慢的流速流動。
因此,在半導體制造裝置等中使用的熱傳導不好的工藝氣體倒流來的情況下,吹掃氣體不能將該工藝氣體推壓流動(推回)。結果,有工藝氣體混入到溫度傳感器周圍的情況。
在此情況下,因氣體的組成變化,有溫度傳感器的測量誤差增加的課題。
另一方面,在不是如上述的半導體制造時那樣將大量的氣體用真空泵排氣、而是在如蒸鍍作業時那樣氣體的流量非常少的情況下,溫度傳感器周圍的氣體壓力較低。
在此情況下,如果溫度傳感器周圍的吹掃氣體的壓力為較低的原狀,則不是成為希望的粘性流的狀態,而是成為中間流或分子流的狀態。因此,沒有被傳遞充分的熱量,有溫度傳感器的測量誤差增加的課題。
在專利文獻2中,記載了以下的技術:借助涂層等提高作為被測量對象的旋轉葉片和作為溫度傳感器的一部分的受熱部的兩者的輻射率,以便在因氣體的流量較少而氣體壓力較低的情況下也能得到傳熱量。
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