[發(fā)明專利]無螺栓襯底支撐件組件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880015101.2 | 申請日: | 2018-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN110352481B | 公開(公告)日: | 2023-04-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郝芳莉;付越虹;陳志剛 | 申請(專利權(quán))人: | 朗姆研究公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司: | 上海勝康律師事務(wù)所 31263 | 代理人: | 樊英如;張華 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 螺栓 襯底 支撐 組件 | ||
1.一種襯底支撐件,其包括:
導(dǎo)電基板,其被布置為支撐陶瓷層,所述導(dǎo)電基板包括沿垂直于由所述導(dǎo)電基板限定的水平平面的軸線延伸的第一腔;和
被布置在所述第一腔內(nèi)的耦合組件,所述耦合組件包括
被布置在所述第一腔內(nèi)并且被配置為圍繞所述軸線旋轉(zhuǎn)的齒輪,和
布置在所述第一腔內(nèi)的銷,所述銷沿所述軸線延伸穿過所述齒輪并進(jìn)入所述導(dǎo)電基板下方的第二腔內(nèi),其中所述齒輪的旋轉(zhuǎn)使所述銷相對于所述導(dǎo)電基板向上或向下移動,其中所述銷在所述齒輪旋轉(zhuǎn)以使所述銷向下移動到所述第二腔內(nèi)時保持在所述第二腔內(nèi),并且其中所述銷不延伸到所述導(dǎo)電基板的上表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支撐件,其中所述第二腔位于(i)布置在所述導(dǎo)電基板下方的絕緣基板和(ii)襯底處理室的下壁中的至少一者內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支撐件,其中所述導(dǎo)電基板布置在絕緣基板上,并且其中所述第二腔位于所述絕緣基板內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支撐件,其中所述導(dǎo)電基板布置在襯底處理室的底表面上,并且其中所述第二腔位于所述襯底處理室的所述底表面下方。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支撐件,其中所述導(dǎo)電基板布置在絕緣基板上,其中所述絕緣基板布置在襯底處理室的底表面上,并且其中所述第二腔延伸穿過所述絕緣基板并在所述襯底處理室的所述底表面下方。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支撐件,其中所述第二腔包括螺母,并且其中所述銷保持在所述第二腔中的所述螺母內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支撐件,其中所述齒輪的旋轉(zhuǎn)引起所述銷的旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支撐件,其中所述銷的外表面、所述齒輪的內(nèi)表面和所述第一腔的內(nèi)表面中的至少一個是帶螺紋的。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支撐件,其中,所述齒輪是錐齒輪。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支撐件,其中,所述耦合組件還包括小齒輪,所述小齒輪布置成與所述齒輪對接,并且其中所述小齒輪的旋轉(zhuǎn)被轉(zhuǎn)換為所述齒輪的旋轉(zhuǎn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的襯底支撐件,其中,所述小齒輪在與所述齒輪的軸線垂直的軸線上旋轉(zhuǎn)。
12.一種襯底支撐件,其包括:
導(dǎo)電基板,其被布置為支撐陶瓷層,所述導(dǎo)電基板包括沿垂直于由所述導(dǎo)電基板限定的水平平面的軸線延伸的第一腔;
絕緣基板,其被布置在所述導(dǎo)電基板與襯底處理室的下壁之間,所述絕緣基板包括第二腔;和
被布置在所述導(dǎo)電基板的所述第一腔內(nèi)的耦合組件,所述耦合組件包括
被布置在所述第一腔內(nèi)并且被配置為圍繞所述軸線旋轉(zhuǎn)的齒輪,和
布置在所述第一腔內(nèi)的銷,所述銷沿所述軸線延伸穿過所述齒輪并進(jìn)入所述絕緣基板的所述第二腔內(nèi),其中所述齒輪的旋轉(zhuǎn)使所述銷相對于所述導(dǎo)電基板向上或向下移動,其中所述銷在所述齒輪旋轉(zhuǎn)以使所述銷向下移動到所述第二腔內(nèi)時保持在所述第二腔內(nèi),并且其中所述銷不延伸到所述導(dǎo)電基板的上表面。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的襯底支撐件,其中所述第二腔包括螺母,并且其中所述銷保持在所述第二腔中的所述螺母內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的襯底支撐件,其中所述齒輪的旋轉(zhuǎn)引起所述銷的旋轉(zhuǎn)。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的襯底支撐件,其中所述銷的外表面、所述齒輪的內(nèi)表面和所述第一腔的內(nèi)表面中的至少一個是帶螺紋的。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的襯底支撐件,其中,所述齒輪是錐齒輪。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于朗姆研究公司,未經(jīng)朗姆研究公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201880015101.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:自動化襯底支架承載裝置
- 下一篇:基板載置臺及其電漿處理裝置以及電漿處理方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





