[發明專利]通過圖案形成裝置上的有限厚度的結構確定輻射的散射的方法

有效

• 申請號: 201880013152.1
• 申請日: 2018-02-13
• 公開（公告）號: CN110337614B
• 公開（公告）日: 2021-12-10
• 發明（設計）人: 劉鵬;羅亞;曹宇;盧彥文
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G06F30/392;G06N3/08
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種訓練神經網絡的方法，包括：

獲得設計布局的一部分的特性的值；

確定包括或構成所述部分的圖案形成裝置的掩模3D效應的特性的值；和

通過硬件計算機，使用包括樣本的訓練數據訓練神經網絡，所述樣本的特征向量包括所述部分的特性并且所述樣本的監督信號包括掩模3D效應的特性。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述設計布局是二元設計布局或連續色調設計布局。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述部分的特性包括所述部分中的圖案的幾何特性、所述部分中的圖案的統計特性、所述部分的參數化、或從所述部分導出的圖像。

4.根據權利要求3所述的方法，其中，所述部分的特性包括所述部分的參數化，并且所述部分的所述參數化是所述部分在一個或更多個基礎函數上的投影。

5.根據權利要求3所述的方法，其中，所述部分的特性包括從所述部分導出的圖像，并且其中所述圖像是像素化圖像、二元圖像或連續色調圖像。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，掩模3D效應的特性包括所述圖案形成裝置的掩模3D效應掩模透射函數的參數。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，基于所述部分確定掩模3D效應的特性。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，使用計算模型確定掩模3D效應的特性。

9.根據權利要求1所述的方法，還包括根據使用所述圖案形成裝置的圖案化過程的結果確定掩模3D效應的特性的值，和/或

其中所述結果為由所述圖案化過程形成在襯底上的圖像、或所述圖像的特性。

10.根據權利要求1所述的方法，其中，所述部分的特性包括所述部分的幾何分量、或所述幾何分量的連續色調渲染。

11.一種訓練神經網絡的方法，包括：

獲得設計布局的一部分的特性的值；

獲得使用包括或構成所述部分的圖案形成裝置的圖案化過程的特性的值；

確定所述圖案化過程的結果的特性的值；和

通過硬件計算機，使用包括樣本的訓練數據訓練神經網絡，所述樣本的特征向量包括所述部分的特性和所述圖案化過程的特性，并且所述樣本的監督信號包括所述結果的特性，其中所述神經網絡被配置成輸出包括或構成所述部分的圖案形成裝置的掩模3D效應的特性。

12.一種非暫時性計算機可讀介質，包括其中的指令，所述指令在由計算機系統執行時配置成引起所述計算機系統至少：

獲得設計布局的一部分的特性的值；

獲得使用包括或構成所述部分的圖案形成裝置的圖案化過程的特性的值；

確定所述圖案化過程的結果的特性的值；和

通過硬件計算機，使用包括樣本的訓練數據訓練神經網絡，所述樣本的特征向量包括所述部分的特性和所述圖案化過程的特性，并且所述樣本的監督信號包括所述結果的特性，其中所述神經網絡被配置成輸出包括或構成所述部分的圖案形成裝置的掩模3D效應的特性。

13.根據權利要求12所述的計算機可讀介質，其中，所述設計布局是二元設計布局或連續色調設計布局。

14.根據權利要求12所述的計算機可讀介質，其中，所述部分的特性包括所述部分中的圖案的幾何特性、所述部分中的圖案的統計特性、所述部分的參數化、或從所述部分導出的圖像。

15.根據權利要求14所述的計算機可讀介質，其中，所述部分的特性包括所述部分的參數化，并且所述部分的參數化是所述部分在一個或更多個基礎函數上的投影，和/或

其中所述部分的特性包括從所述部分導出的圖像，并且所述圖像是像素化圖像、二元圖像或連續色調圖像。