[發(fā)明專利]芯片電阻器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880007643.5 | 申請日: | 2018-03-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110199363B | 公開(公告)日: | 2022-05-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吉田則隆;松島賢一 | 申請(專利權(quán))人: | 松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01C7/00 | 分類號(hào): | H01C7/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 韓丁 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 芯片 電阻器 | ||
芯片電阻具備:絕緣基板,由氧化鋁構(gòu)成;一對電極,被設(shè)置于絕緣基板的上表面;玻璃釉層,被設(shè)置于絕緣基板的上表面并由玻璃構(gòu)成;和電阻體,被設(shè)置于玻璃釉層的上表面。電阻體形成于一對電極之間。玻璃釉層的玻璃的軟化點(diǎn)為580℃~760℃。在該芯片電阻中,能夠防止電阻體剝離。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及芯片電阻器。
背景技術(shù)
專利文獻(xiàn)1中公開的現(xiàn)有的芯片電阻器具備:絕緣基板,由氧化鋁構(gòu)成;玻璃層,被設(shè)置于該絕緣基板的上表面的中央部;一對電極,被設(shè)置于絕緣基板的上表面的兩端部;和電阻體,被設(shè)置于玻璃層的上表面,并且形成于一對電極之間。在該芯片電阻器中,在將電阻體燒成時(shí)電阻體可能從玻璃層剝落。
在先技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:JP特開平6-53005號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
芯片電阻具備:絕緣基板,由氧化鋁構(gòu)成;一對電極,被設(shè)置于絕緣基板的上表面;玻璃釉層,被設(shè)置于絕緣基板的上表面并由玻璃構(gòu)成;和電阻體,被設(shè)置于玻璃釉層的上表面。電阻體形成于一對電極之間。玻璃釉層的玻璃的軟化點(diǎn)為580℃~760℃。
在該芯片電阻中,能夠防止電阻體剝離。
附圖說明
圖1是實(shí)施方式中的芯片電阻器的剖視圖。
圖2是表示構(gòu)成實(shí)施方式中的芯片電阻器的玻璃釉層的玻璃的軟化點(diǎn)與電阻體的緊貼性的關(guān)系的圖。
具體實(shí)施方式
圖1是實(shí)施方式中的芯片電阻器501的剖視圖。芯片電阻器501具備:由氧化鋁構(gòu)成的絕緣基板1、被設(shè)置于絕緣基板1的上表面101的兩端部的一對電極12、22、被設(shè)置于絕緣基板1的上表面101的中央部的玻璃釉層3、被設(shè)置于玻璃釉層3的上表面的電阻體4、覆蓋一對電極12、22的一部分和電阻體4的保護(hù)膜5、分別設(shè)置于絕緣基板1的兩端面的一對端面電極16、26、和分別形成于一對端面電極16、26的表面的鍍層17、27。電阻體4形成于一對電極12、22之間并連接于電極12、22。端面電極16、26分別電連接于一對電極12、22。
絕緣基板1由氧化鋁(Al2O3)構(gòu)成,具有矩形形狀。
一對電極12、22通過在絕緣基板1的上表面101印刷并燒成包含銀、銀鈀或者銅的厚膜材料而形成。另外,也可以在絕緣基板1的下表面201的兩端部形成一對下表面電極12a、22a。
玻璃釉層3由玻璃3a、和分散于玻璃3a的填料3b構(gòu)成,被設(shè)置于絕緣基板1的上表面101的中央部。玻璃釉層3的厚度為5μm以上。
玻璃釉層3也可以形成于絕緣基板1的上表面101整面。玻璃釉層3也可以不與一對電極12、22重疊。
玻璃3a的軟化點(diǎn)為580℃~760℃,能夠適合使用包含堿金屬氧化物R2O的SiO2-B2O3-ZnO-R2O系玻璃或者SiO2-B2O3-R2O系玻璃。
對于填料3b,為了使玻璃釉層3的熱膨脹系數(shù)接近于絕緣基板1,氧化鋁粉末是適合的,其含量相對于玻璃釉層3整體優(yōu)選為15vol%~40vol%。
電阻體4被設(shè)置于玻璃釉層3的上表面103,并且形成于一對電極12、22之間。電阻體4由CuNi構(gòu)成,印刷多次含有CuNi的電阻糊膏,在氮?dú)猸h(huán)境中以950℃進(jìn)行燒成而形成。此外,電阻體4的厚度為50μm以上以使得電阻值變低。
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