[發(fā)明專利]一種放療設(shè)備及其控制方法和裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880006254.0
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN111194183B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 昝鵬;閆浩
• 申請（專利權(quán)）人: 西安大醫(yī)集團股份有限公司;深圳市奧沃醫(yī)學新技術(shù)發(fā)展有限公司
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03;A61N5/00
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種放療設(shè)備，其特征在于，包括：可繞中心軸旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機架和多能成像裝置；所述多能成像裝置包括成像源和成像器；

所述成像源和所述成像器正對設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)機架上；

所述成像源用于產(chǎn)生至少兩種能量級的X射線，并發(fā)射所述至少兩種能量級的X射線穿過病患的待治療部位；

所述成像器用于接收穿過所述待治療部位的所述至少兩種能量級的X射線并根據(jù)所述至少兩種能量級的X射線生成所述待治療部位的至少兩種能量級的X射線圖像，以使得所述放療設(shè)備的控制裝置獲取目標X射線圖像，所述目標X射線圖像為所述待治療部位的至少兩種能量級的X射線圖像中的至少一個圖像；

其中，當所述旋轉(zhuǎn)機架旋轉(zhuǎn)預設(shè)角度時，所述成像源產(chǎn)生的X射線產(chǎn)生改變；所述至少兩種能量級的X射線至少包括：第一能量級X射線和第二能量級X射線；所述預設(shè)角度包括至少兩個預設(shè)子角度，所述至少兩個預設(shè)子角度至少包括：第一預設(shè)子角度和第二預設(shè)子角度；當所述旋轉(zhuǎn)機架旋轉(zhuǎn)所述第一預設(shè)子角度時，所述成像源產(chǎn)生所述第一能量級X射線；當所述旋轉(zhuǎn)機架旋轉(zhuǎn)第二預設(shè)子角度時，所述成像源產(chǎn)生所述第二能量級X射線。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述成像源包括以下至少一種：切換靶式成像源和切換電壓式成像源。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述放療設(shè)備還包括成像源控制裝置；所述成像源包括至少兩個子成像源，所述至少兩個子成像源至少包括：第一子成像源和第二子成像源；

所述至少兩種能量級的X射線至少包括：第一能量級X射線和第二能量級X射線；

所述第一子成像源用于產(chǎn)生所述第一能量級X射線，所述第二子成像源用于產(chǎn)生所述第二能量級X射線；

所述成像源控制裝置用于控制切換發(fā)射穿過病患的待治療部位的X射線的子成像源。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述成像器至少包括：第一子成像器和第二子成像器；

所述第一子成像器用于接收穿過所述待治療部位的第一能量級X射線并根據(jù)所述第一能量級X射線生成所述待治療部位的第一能量級X射線圖像；

所述第二子成像器用于接收穿過所述待治療部位的第二能量級X射線并根據(jù)所述第二能量級X射線生成所述待治療部位的第二能量級X射線圖像，以對所述病患的待治療部位進行定位。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)機架包括以下任一種：環(huán)形機架和C形機架。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述至少兩種能量級的X射線至少包括一種千伏級的X射線和一種兆伏級的X射線。

7.一種如權(quán)利要求1-6任一項所述的放療設(shè)備的控制方法，其特征在于，包括：

控制所述成像源結(jié)合所述成像器獲取目標X射線圖像，所述目標X射線圖像為所述待治療部位的至少兩種能量級的X射線圖像中的至少一個圖像；

將所述目標X射線圖像和預存的基準圖像進行配準；

根據(jù)所述目標X射線圖像和所述基準圖像的配準結(jié)果獲取所述待治療部位的位置偏差。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的放療設(shè)備的控制方法，其特征在于，所述控制所述成像源結(jié)合所述成像器獲取目標X射線圖像包括：

控制所述成像源發(fā)射至少兩個能量級的X射線穿過病患的待治療部位，以使所述成像器根據(jù)穿過所述待治療部位的所述至少兩個能量級的X射線生成至少兩個能量級的X射線圖像；根據(jù)預存的所述待治療部位的信息從所述至少兩個能量級的X射線圖像中選取目標X射線圖像。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的放療設(shè)備的控制方法，其特征在于，控制所述成像源發(fā)射預設(shè)X射線穿過病患的待治療部位時，還包括：

控制所述旋轉(zhuǎn)機架旋轉(zhuǎn)至少兩個不同的成像角度，以使所述成像器根據(jù)每一種能量級的X射線生成的X射線圖像中均存在至少兩個分別對應(yīng)不同的成像角度的X射線圖像；

所述預設(shè)X射線為所述至少兩個能量級的X射線。