[實用新型]一種光刻機有效
| 申請號： | 201822271064.1 | 申請日： | 2018-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN209433182U | 公開（公告）日： | 2019-09-24 |
| 發明（設計）人： | 孫飛磊;蔡亮;吳鵬 | 申請（專利權）人： | 上海華力集成電路制造有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭四華 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 硅片 平坦度檢測裝置 承片臺 光刻機 晶背 偵測 本實用新型 產品良率 曝光硅片 問題硅片 有效檢測 曝光 平坦度 承片 凸起 檢測 保證 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻機，其特征在于，包括：
一承片臺，用于放置待曝光的硅片；以及
一平坦度檢測裝置，所述平坦度檢測裝置位于所述承片臺下方，用于檢測待曝光的硅片置于承片臺的一側的平坦度。
2.根據權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述平坦度檢測裝置包括一發射器和一接收器，所述發射器用于發射光至所述待曝光的硅片的背部，所述接收器用于接收所述待曝光的硅片的背部反射，或反射及折射的光。
3.根據權利要求2所述的光刻機，其特征在于，所述發射器和所述接收器對稱地位于所述待曝光的硅片的兩側。
4.根據權利要求2所述的光刻機，其特征在于，所述發射器包括至少一排LED燈。
5.根據權利要求2所述的光刻機，其特征在于，所述發射器發射至所述待曝光的硅片的背部的光為多束均勻光束。
6.根據權利要求2所述的光刻機，其特征在于，所述接收器包括判斷裝置，所述判斷裝置用于判斷接收的光的光強差是否大于一設定值。
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