[實用新型]一種薄膜制備設備

有效

• 申請號: 201822245710.7
• 申請日: 2018-12-27
• 公開（公告）號: CN209836303U
• 公開（公告）日: 2019-12-24
• 發明（設計）人: 曾雄;惠述偉;張升飛
• 申請（專利權）人: 華夏易能(廣東)新能源科技有限公司
• 主分類號: C23C18/00
• 分類號: C23C18/00
• 代理公司: 11489 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 陳超

本實用新型公開了一種薄膜制備設備，包括：將注入反應液進行化學沉積反應的反應槽(10)；設置在反應槽(10)外部的循環裝置(20)，循環裝置(20)的一端與反應槽(10)底部連通，另一端與反應槽(10)上部連通，循環裝置(20)將經反應槽(10)上部溢出的反應液輸送至外部加熱器加熱，然后經反應槽(10)底部的注液口注入該反應液，還包括：至少一個加熱裝置(30)，設置在反應槽(10)下部或底部外側，用于非接觸地對反應槽(10)內的反應液加熱；測溫儀(40)，設置在反應槽(10)上部出口附近，用于檢測反應槽(10)溢流反應液的溫度。采用本實施方案，有效地解決加熱時延問題，并使反應槽(10)內反應液迅速升溫的同時溫度均勻分布。

技術領域

本實用新型涉及化學水浴沉積設備領域，具體涉及一種化學水浴沉積薄膜制備設備領域。

背景技術

化學水浴沉積法(CBD)是利用化學反應在襯底表面沉積成膜的一種方法，現有技術是通過泵將反應液混合于反應槽內，經槽頂部的溢流口溢出至外部加熱器加熱，后于槽底注液口往槽內輸送反應液，以此來調控反應槽內反應液的溶度和溫度，繼而在玻璃襯底表面沉積上一層均勻、致密的硫化鎘薄膜。

但是現有加熱方式的存在以下缺陷：

1、無法使反應槽內反應液溫度分布均勻，導致反應槽下部分的溫度高于反應槽上部分；

2、加熱時間長，反應槽內的反應液具有一定的時延性；

3、反應液上下溫度的不均勻會直接影響到成膜質量，外觀存在色差，膜層不均勻，進而降低薄膜的性能。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種能夠使反應槽內反應液快速升溫、并且其溫度均勻分布、提高成膜質量的薄膜制備設備。

為解決上述問題，本實用新型的提供了一種薄膜制備設備，包括：用于注入反應液進行化學沉積反應以制備薄膜的反應槽；設置在所述反應槽外部的循環裝置，所述循環裝置的一端與所述反應槽底部連通，其另一端與所述反應槽上部連通，所述循環裝置將經反應槽上部的溢流口溢出的反應液輸送至外部加熱器加熱，然后通過反應槽底部的注液口向所述反應槽內注入加熱后的反應液，其特征在于，還包括：至少一個加熱裝置，設置在所述反應槽下部或底部外側，用于非接觸地對所述反應槽內的反應液加熱；測溫儀，設置在所述反應槽上部出口附近，用于檢測所述反應槽上部的溢流反應液的溫度。

進一步的，溫控儀，其電連接到所述加熱裝置，用于控制所述加熱裝置的開關和輸出功率，進而控制反應液溫度。

進一步的，控制裝置，電連接到所述測溫儀和所述溫控儀，用于根據所述測溫儀反饋的反應液溫度，通過所述溫控儀控制所述熱裝置的開關和輸出功率，進而控制反應液溫度。

進一步的，其中，當所述測溫儀檢測到溢流反應液溫度達到設定值時，所述控制裝置發出指令降低加熱裝置的輸出功率并保持工作狀態，配合所述循環裝置以維持反應液溫度在設定值；當所述測溫儀檢測到溢流反應液溫度高于設定值時，所述控制裝置控制所述加熱裝置關閉，所述循環裝置繼續工作，維持所述反應槽內反應液溫度、濃度均勻。進一步的，其中，當所述測溫儀檢測到溢流反應液溫度低于設定值時，所述控制裝置控制所述加熱裝置30開啟或增高輸出功率，所述循環裝置持續工作，以增加所述反應槽內反應液溫度。

進一步的，所述反應槽的注液口設置在其下部或底部；所述反應槽的多個注液口與所述至少一個加熱裝置間隔設置。

進一步的，所述循環裝置包括至少一個循環泵。

進一步的，所述加熱裝置是微波加熱裝置、紅外加熱裝置或電加熱裝置。

進一步的，所述反應槽形成為雙層殼體，包括金屬外層和塑料內層。

進一步的，所述反應槽與所述加熱裝置一體形成。

本實用新型的上述技術方案具有如下有益的技術效果：