[實用新型]一種薄膜制備設備

有效

• 申請號: 201822245710.7
• 申請日: 2018-12-27
• 公開（公告）號: CN209836303U
• 公開（公告）日: 2019-12-24
• 發明（設計）人: 曾雄;惠述偉;張升飛
• 申請（專利權）人: 華夏易能(廣東)新能源科技有限公司
• 主分類號: C23C18/00
• 分類號: C23C18/00
• 代理公司: 11489 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 陳超

1.一種薄膜制備設備，包括：用于注入反應液進行化學沉積反應以制備薄膜的反應槽(10)；設置在所述反應槽(10)外部的循環裝置(20)，所述循環裝置(20)的一端與所述反應槽(10)底部連通，其另一端與所述反應槽(10)上部連通，所述循環裝置(20)將經反應槽(10)上部的溢流口溢出的反應液輸送至外部加熱器加熱，然后通過反應槽(10)底部的注液口向所述反應槽內(10)注入加熱后的反應液，其特征在于，還包括：

至少一個加熱裝置(30)，設置在所述反應槽(10)下部或底部外側，用于非接觸地對所述反應槽(10)內的反應液加熱；

測溫儀(40)，設置在所述反應槽(10)上部出口附近，用于檢測所述反應槽(10)上部的溢流反應液的溫度。

2.根據權利要求1所述的薄膜制備設備，其特征在于，進一步包括：

溫控儀(31)，其電連接到所述加熱裝置(30)，用于控制所述加熱裝置(30)的開關和輸出功率，進而控制反應液溫度。

3.根據權利要求2所述的薄膜制備設備，其特征在于，進一步包括：

控制裝置，電連接到所述測溫儀(40)和所述溫控儀(31)，用于根據所述測溫儀(40)反饋的反應液溫度，通過所述溫控儀(31)控制所述熱裝置(30)的開關和輸出功率，進而控制反應液溫度。

4.根據權利要求3所述的薄膜制備設備，其特征在于，其中，

當所述測溫儀(40)檢測到溢流反應液溫度達到設定值時，所述控制裝置發出指令降低加熱裝置(30)的輸出功率并保持工作狀態，配合所述循環裝置(20)以維持反應液溫度在設定值；

當所述測溫儀(40)檢測到溢流反應液溫度高于設定值時，所述控制裝置控制所述加熱裝置(30)關閉，所述循環裝置(20)繼續工作，維持所述反應槽(10)內反應液溫度、濃度均勻。

5.根據權利要求4所述的薄膜制備設備，其特征在于，其中，

當所述測溫儀(40)檢測到溢流反應液溫度低于設定值時，所述控制裝置控制所述加熱裝置(30)開啟或增高輸出功率，所述循環裝置(20)持續工作，以增加所述反應槽(10)內反應液溫度。

6.根據權利要求5所述的薄膜制備設備，其特征在于，所述反應槽(10)的注液口設置在其下部或底部；所述反應槽(10)的多個注液口與所述至少一個加熱裝置(30)間隔設置。

7.根據權利要求4所述的薄膜制備設備，其特征在于，所述循環裝置(20)包括至少一個循環泵(50)。

8.根據權利要求6所述的薄膜制備設備，其特征在于，所述加熱裝置(30)是微波加熱裝置、紅外加熱裝置或電加熱裝置。

9.根據權利要求6所述的薄膜制備設備，其特征在于，所述反應槽(10)形成為雙層殼體，包括金屬外層和塑料內層。

10.根據權利要求9所述的薄膜制備設備，其特征在于，所述反應槽(10)與所述加熱裝置(30)一體形成。