[實(shí)用新型]管路去氣泡裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201822241564.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209216934U | 公開(公告)日: | 2019-08-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃景山;張弢;蔣德念 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華力集成電路制造有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海浦一知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴廣志 |
| 地址: | 201315 上海市浦*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 去泡器 去氣泡裝置 真空泵 去除 緩存 機(jī)臺(tái) 電氣執(zhí)行機(jī)構(gòu) 半導(dǎo)體加工 本實(shí)用新型 閥門管路 管路液體 控制流體 流量變動(dòng) 流體 夾雜 晶圓 停線 廢品 電路 報(bào)警 攜帶 占據(jù) | ||
1.一種管路去氣泡裝置,其特征在于,包含:
一管路,該管路用以輸送一液體,該液體中帶有一氣體;
一去泡器,該去泡器為一容器;
一真空泵,該真空泵與該去泡器連接;
該去泡器連接在該管路中。
2.如權(quán)利要求1所述的管路去氣泡裝置,其特征在于,該液體包含過氧化氫。
3.如權(quán)利要求1或2所述的管路去氣泡裝置,其特征在于,還包含一鼓泡器,該鼓泡器鼓動(dòng)混合該液體。
4.如權(quán)利要求3所述的管路去氣泡裝置,其特征在于,該鼓泡器連接一氮?dú)猓摰獨(dú)夤膭?dòng)混合該液體。
5.如權(quán)利要求1或2所述的管路去氣泡裝置,其特征在于,還包含一氣動(dòng)隔膜泵,該氣動(dòng)隔膜泵與該管路相連,用以將該液體輸送到噴灑位置。
6.如權(quán)利要求1或2所述的管路去氣泡裝置,其特征在于,還包含一閥門一,該閥門一連接在該去泡器和該真空泵之間。
7.如權(quán)利要求5所述的管路去氣泡裝置,其特征在于,該氣動(dòng)隔膜泵包含一開關(guān)控制電路一。
8.如權(quán)利要求6所述的管路去氣泡裝置,其特征在于,該閥門一包含一開關(guān)控制電路二。
9.如權(quán)利要求8所述的管路去氣泡裝置,其特征在于,還包含一氣動(dòng)隔膜泵,該氣動(dòng)隔膜泵包含一開關(guān)控制電路一,該開關(guān)控制電路一和該開關(guān)控制電路二之間電路連接。
10.如權(quán)利要求9所述的管路去氣泡裝置,其特征在于,還包含一選擇開關(guān),該真空泵包含一電機(jī)一和一開關(guān)控制電路三,該氣動(dòng)隔膜泵包含一電機(jī)二,該閥門一包含一電磁鐵一,該開關(guān)控制電路一包含一線圈一和一常開觸點(diǎn)一,該開關(guān)控制電路二包含一線圈二和一常開觸點(diǎn)二,該開關(guān)控制電路三包含一線圈三和一常開觸點(diǎn)三,該選擇開關(guān)、該線圈一、該線圈二和該線圈三串聯(lián)連接至控制電源兩端,該常開觸點(diǎn)一連接該電機(jī)二,該常開觸點(diǎn)二連接該電磁鐵一,該常開觸點(diǎn)三連接該電機(jī)一。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





