[實用新型]管路去氣泡裝置

有效

• 申請號: 201822241564.0
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN209216934U
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 黃景山;張弢;蔣德念
• 申請（專利權）人: 上海華力集成電路制造有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 戴廣志

本實用新型提供一種一種管路去氣泡裝置，包含一管路，該管路用以輸送一液體，該液體中帶有一氣體；一去泡器，該去泡器為一容器，用以緩存該液體并將該氣體從該液體中分離、去除；一真空泵，該真空泵與該去泡器連接，用以將該氣體抽除；該去泡器連接在該管路中。并通過連接有控制流體的閥門管路等、控制電氣執行機構的電路等，實現了將管路液體中的攜帶的氣體(形成氣泡)去除，從而使得到達晶圓處的流體成分、流量更加穩定(不因氣泡占據很大的流量)，而且減少了半導體加工機臺因流量變動引起的報警，減少由于夾雜氣泡而導致的停線或廢品產生。

技術領域

本實用新型與半導體加工設備臺機有關，特別是管路去氣泡裝置。

背景技術

半導體加工過程中，容易產生一些污染物，如微粒、有機物、金屬、原生氧化物等。需要用化學原料將其清洗掉。目前常用的清洗劑有，硫酸、過氧化氫(也稱雙氧水)、水混合液，氫氧化銨、過氧化氫、水混合液，氯化氫、過氧化氫、水混合液等。以上各種溶液均包含一些容易產生氣體的成分，且為了混合均勻通常需要采用氮氣來對溶液進行混合。

在銅電鍍時，整片硅片都被鍍上了一層銅膜。為了防止在隨后的化學機械研磨工藝時，硅片邊緣的銅膜不容易磨掉甚至發生銅膜脫落，所以一定要對硅片邊緣的銅膜進行清洗腐蝕掉。不同的產品需要洗掉的銅膜寬度也不一樣。每次洗邊的化學品的用量也很少，所以管路較細，一旦有氣泡就會嚴重影響洗邊的效果，甚至會引起流量開關報警，導致機臺停機，從而使產品受到影響或報廢。由于雙氧水稀釋攪拌用氮氣，且其本身容易分解產生氣泡。

如何能夠去除管路中的氣泡成為半導體清洗、加工工藝中需要考慮的技術問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種管路去氣泡裝置，主要是為了減少管路中氣泡，能夠避免清洗不充分和因流量問題造成機臺報警等目的。

于是，本實用新型提供一種管路去氣泡裝置，包含：

一管路，該管路用以輸送一液體，該液體中帶有一氣體；

一去泡器，該去泡器為一容器，用以緩存該液體并將該氣體從該液體中分離、去除；

一真空泵，該真空泵與該去泡器連接，用以將該氣體抽除；

該去泡器連接在該管路中。

優選地，該液體包含過氧化氫。

優選地，還包含一鼓泡器，該鼓泡器鼓動混合該液體。

優選地，該鼓泡器連接一氮氣，該氮氣鼓動混合該液體。

優選地，還包含一氣動隔膜泵，該氣動隔膜泵與該管路相連，用以將該液體輸送到噴灑位置。

優選地，還包含一閥門一，該閥門一連接在該去泡器和該真空泵之間。

優選地，該氣動隔膜泵包含一開關控制電路一。

優選地，該閥門一包含一開關控制電路二。

優選地，還包含一氣動隔膜泵，該氣動隔膜泵包含一開關控制電路一，該開關控制電路一和該開關控制電路二之間電路連接。用以實現當該開關控制電路一開啟時，該開關控制電路二開啟，當該開關控制電路一關閉時，該開關控制電路二關閉。

優選地，還包含一選擇開關，該真空泵包含一電機一和一開關控制電路三，該氣動隔膜泵包含一電機二，該閥門一包含一電磁鐵一，該開關控制電路一包含一線圈一和一常開觸點一，該開關控制電路二包含一線圈二和一常開觸點二，該開關控制電路三包含一線圈三和一常開觸點三，該選擇開關、該線圈一、該線圈二和該線圈三串聯連接至控制電源兩端，該常開觸點一連接該電機二，該常開觸點二連接該電磁鐵一，該常開觸點三連接該電機一。