[實用新型]一種真空蒸鍍設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822221620.4 | 申請日: | 2018-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN209702838U | 公開(公告)日: | 2019-11-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳曉;顏峰;廖良生;周讓林;陳敏 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州方昇光電股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 32102 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 范丹丹<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址: | 215021 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 擋板組件 第二擋板 第一擋板 驅(qū)動組件 蓋板 防污 真空蒸鍍設(shè)備 閉合 開口 支撐組件 翻轉(zhuǎn) 蒸發(fā)源 本實用新型 可控制擋板 傳動連接 生產(chǎn)效率 平面的 蒸鍍室 蒸鍍 遮擋 匹配 室內(nèi) 驅(qū)動 節(jié)約 | ||
本實用新型揭示了提供一種真空蒸鍍設(shè)備,該真空蒸鍍設(shè)備包括蒸鍍室,設(shè)置在蒸鍍室內(nèi)的支撐組件,扣合在所述支撐組件上的防污蓋板,安裝在防污蓋板下方的擋板組件,及與擋板組件相連接的驅(qū)動組件,所述防污蓋板上設(shè)置有開口。所述擋板組件與所述開口相匹配,所述擋板組件包括能夠翻轉(zhuǎn)并相互閉合的第一擋板及第二擋板;所述驅(qū)動組件與所述第一擋板及第二擋板傳動連接,所述驅(qū)動組件能夠驅(qū)動所述第一擋板與第二擋板翻轉(zhuǎn)閉合,遮擋所述開口。該裝置提高了生產(chǎn)效率和精度,節(jié)約了成產(chǎn)成本;減少了蒸發(fā)源平面的空間,有利于在同一臺設(shè)備上布置更多的蒸發(fā)源;且該裝置在使用過程中可控制擋板的關(guān)閉與開啟速度。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種真空蒸鍍設(shè)備,屬于蒸鍍設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
目前OLED顯示技術(shù)具有自發(fā)光、廣視角、幾乎無窮高的對比度、較低耗電、極高反應(yīng)速度等優(yōu)點,大有取代傳統(tǒng)液晶屏的趨勢。真空鍍膜設(shè)備作為OLED產(chǎn)業(yè)鏈的上游產(chǎn)業(yè),每年都有大量的市場需求。國內(nèi)的真空鍍膜設(shè)備相比國外結(jié)構(gòu)原理較為簡單,機構(gòu)運用也較少。真空鍍膜設(shè)備的設(shè)計提出可有效增強國內(nèi)設(shè)備的合理性與機械性能,該設(shè)備在使用過程中不但提高了生產(chǎn)效率,也提高了產(chǎn)品同進口設(shè)備的競爭力。
在OLED進行蒸鍍生產(chǎn)時,為了提高生產(chǎn)效率與精度,節(jié)約材料成本,在連續(xù)蒸鍍或蒸鍍結(jié)束時均需要對蒸發(fā)源進行遮擋以防止材料的進一步蒸鍍而影響膜厚的準確性。現(xiàn)有技術(shù)普遍采用以下三種解決方案:
1、使用磁流體在基片盤下方通過對稱旋轉(zhuǎn)的方式對蒸發(fā)源進行遮擋;
2、使用電機通過旋轉(zhuǎn)葉片的方式對蒸發(fā)源進行遮擋;
3、使用氣缸帶動金屬片旋轉(zhuǎn)升降的方式對蒸發(fā)源進行遮擋。
以上幾種方式在使用過程中,其擋板占用平面面積大,工作效率低下,精度不夠精準,因此研究一種可提高精度和能控制擋板開啟與關(guān)閉速度的真空蒸鍍設(shè)備構(gòu)就成為亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的就是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題,提出一種真空蒸鍍設(shè)備。
本實用新型的目的將通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn):一種真空蒸鍍設(shè)備,包括蒸鍍室,設(shè)置在蒸鍍室內(nèi)的支撐組件,扣合在所述支撐組件上的防污蓋板,安裝在防污蓋板下方的擋板組件,及與擋板組件相連接的驅(qū)動組件,所述防污蓋板上設(shè)置有開口;所述擋板組件與所述開口相匹配,所述擋板組件包括能夠相互配合封閉所述開口的第一擋板及第二擋板;所述驅(qū)動組件與所述第一擋板及第二擋板傳動連接,所述驅(qū)動組件能夠驅(qū)動所述第一擋板與第二擋板翻轉(zhuǎn)閉合,遮擋所述開口。
優(yōu)選地,所述支撐組件包括固定設(shè)置在蒸鍍室內(nèi)壁上的多個支撐塊,及固定設(shè)置在支撐塊上的防污折彎板,所述防污折彎板與所述蒸鍍室的內(nèi)側(cè)壁密封貼合。
優(yōu)選地,所述擋板組件還包括分別與所述第一擋板及第二擋板的一端固定連接的第一轉(zhuǎn)軸和第二轉(zhuǎn)軸,所述第一轉(zhuǎn)軸及第二轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述支撐塊上,所述驅(qū)動組件分別與所述第一轉(zhuǎn)軸和第二轉(zhuǎn)軸傳動連接。
優(yōu)選地,所述第一擋板與第二擋板鏡像對稱設(shè)置,所述驅(qū)動組件包括分別與第一轉(zhuǎn)軸及第二轉(zhuǎn)軸傳動連接的兩個驅(qū)動結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選地,所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在蒸鍍室外部的連桿組件及氣缸,兩個驅(qū)動結(jié)構(gòu)的所述連桿組件分別將氣缸伸縮桿的直線運動轉(zhuǎn)化成第一轉(zhuǎn)軸及第二轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)運動。
優(yōu)選地,所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)還包括磁流體密封件,兩個所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)的連桿組件分別通過磁流體密封件與所述第一轉(zhuǎn)軸及第二轉(zhuǎn)軸連接,所述磁流體密封件貫穿設(shè)置在蒸鍍室的腔壁上。
優(yōu)選地,所述支撐組件還包括固定設(shè)置在所述支撐塊上的多個軸套,所述第一轉(zhuǎn)軸及第二轉(zhuǎn)軸的兩端轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述軸套內(nèi)。
優(yōu)選地,所述第一擋板與所述第二擋板的對接處具有相互匹配的臺階狀結(jié)構(gòu),使所述第一擋板與所述第二擋板對接后能夠閉合擋板間的縫隙。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





