[實用新型]一種研磨機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201822213535.3
• 申請日: 2018-12-27
• 公開（公告）號: CN209319541U
• 公開（公告）日: 2019-08-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳李剛;張宇平;曾慧;毛榮昌;朱國強;紀(jì)步成
• 申請（專利權(quán)）人: 衢州晶哲電子材料有限公司
• 主分類號: B24B37/10
• 分類號: B24B37/10;B24B57/02
• 代理公司: 衢州維創(chuàng)維邦專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33282
• 代理人: 慈程麟

本實用新型涉及一種研磨機，包括研磨機架和設(shè)置在研磨機架上的下研磨臺，研磨機架上且位于下研磨臺的一側(cè)設(shè)置有固定架，固定架頂部設(shè)有驅(qū)動氣缸，驅(qū)動氣缸輸出端連接有驅(qū)動桿，驅(qū)動桿一端沿豎直方向連接有上研磨臺，上研磨臺相對設(shè)在下研磨臺正上方，下研磨臺上側(cè)壁上設(shè)有研磨槽，研磨槽中轉(zhuǎn)動設(shè)有轉(zhuǎn)動臺，研磨機架上設(shè)有用于驅(qū)動轉(zhuǎn)動臺轉(zhuǎn)動的驅(qū)動組件，轉(zhuǎn)動臺上表面沿周向轉(zhuǎn)動設(shè)有若干轉(zhuǎn)動座，轉(zhuǎn)動座上設(shè)有晶片放置槽；上研磨臺上方設(shè)有內(nèi)置下料腔的下料板，下料板上沿周向設(shè)有若干導(dǎo)出管，上研磨臺上沿周向設(shè)有若干通孔，若干導(dǎo)出管一端分別與若干通孔對接。本實用新型提供了一種研磨效率高、研磨效果好且研磨液加入均勻的研磨機。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及晶片加工技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種研磨機。

背景技術(shù)

晶片作為成像設(shè)備的一種透光器材，在加工過程中需要對晶片的表面進行研磨拋光處理，在對晶片進行研磨拋光處理時，通常需要用到研磨機，現(xiàn)有的研磨機研磨效率較低，單位時間內(nèi)的晶片研磨處理量不能滿足日益提高的生產(chǎn)產(chǎn)量要求，研磨液加入不均勻，導(dǎo)致研磨的效果受到影響，影響晶片的生產(chǎn)質(zhì)量，因此需要進行改進。

實用新型內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種研磨效率高、研磨效果好且研磨液加入均勻的研磨機。

本實用新型的技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的：一種研磨機，其特征在于：包括研磨機架和設(shè)置在研磨機架上的下研磨臺，所述研磨機架上且位于下研磨臺的一側(cè)設(shè)置有固定架，所述固定架頂部設(shè)置有驅(qū)動氣缸，所述驅(qū)動氣缸的輸出端連接有驅(qū)動桿，所述驅(qū)動桿遠(yuǎn)離驅(qū)動氣缸的一端沿豎直方向連接有上研磨臺，所述上研磨臺相對設(shè)置在下研磨臺正上方，所述下研磨臺相對上研磨臺的一側(cè)側(cè)壁上開設(shè)有研磨槽，所述研磨槽中轉(zhuǎn)動設(shè)置有轉(zhuǎn)動臺，所述研磨機架上設(shè)置有用于驅(qū)動轉(zhuǎn)動臺轉(zhuǎn)動的驅(qū)動組件，所述驅(qū)動組件包括設(shè)置在研磨機架上的第一驅(qū)動電機和中心轉(zhuǎn)軸，所述中心轉(zhuǎn)軸的一端與轉(zhuǎn)動臺底部中心位置處連接，所述中心轉(zhuǎn)軸側(cè)壁上設(shè)置有中心齒盤，所述第一驅(qū)動電機的輸出端連接有第一轉(zhuǎn)動軸，所述第一轉(zhuǎn)動軸側(cè)壁上設(shè)置有與中心齒盤相適配的第一齒盤，所述第一轉(zhuǎn)動軸通過第一齒盤和中心齒盤相配合與中心轉(zhuǎn)軸傳動連接，所述轉(zhuǎn)動臺上表面沿周向轉(zhuǎn)動設(shè)置有若干轉(zhuǎn)動座，所述轉(zhuǎn)動座上表面開設(shè)有供晶片放置的放置槽；所述驅(qū)動桿側(cè)壁上且位于上研磨臺上方設(shè)置有內(nèi)置下料腔的下料板，所述下料板側(cè)壁上連接有用于通入研磨液的導(dǎo)入管，所述下料板朝向上研磨臺的一側(cè)側(cè)壁上沿周向設(shè)置有若干導(dǎo)出管，所述上研磨臺上且位于研磨槽的正上方沿周向上下貫穿設(shè)置有若干通孔，若干導(dǎo)出管遠(yuǎn)離下料板的一端分別與若干通孔對接。

通過采用上述技術(shù)方案，在對晶片進行研磨時，將晶片放置在轉(zhuǎn)動座上表面開設(shè)的放置槽中，由設(shè)置在固定架上方的驅(qū)動氣缸驅(qū)動其輸出端連接的驅(qū)動桿伸縮，并帶動驅(qū)動桿下端連接的上研磨臺蓋到下方的下研磨臺上，在下研磨臺相對上研磨臺的一側(cè)側(cè)壁上開設(shè)有研磨槽，研磨槽中轉(zhuǎn)動設(shè)置有轉(zhuǎn)動臺，研磨機架上設(shè)置有用于驅(qū)動轉(zhuǎn)動臺轉(zhuǎn)動的驅(qū)動組件，驅(qū)動組件包括設(shè)置在研磨機架上的第一驅(qū)動電機和中心轉(zhuǎn)軸，中心轉(zhuǎn)軸的一端與轉(zhuǎn)動臺底部中心位置處連接，中心轉(zhuǎn)軸側(cè)壁上設(shè)置有中心齒盤，在第一驅(qū)動電機的驅(qū)動下，其輸出端連接的第一轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動，并帶動設(shè)置在第一轉(zhuǎn)動軸側(cè)壁上的第一齒盤轉(zhuǎn)動，第一齒盤和中心齒盤相互配合，第一轉(zhuǎn)動軸和中心轉(zhuǎn)軸傳動連接，從而中心轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動并帶動轉(zhuǎn)動臺轉(zhuǎn)動，使轉(zhuǎn)動設(shè)置在轉(zhuǎn)動臺上表面的若干轉(zhuǎn)動座相對上研磨臺公轉(zhuǎn)并研磨晶片，在公轉(zhuǎn)的過程中，若干轉(zhuǎn)動座沿周向轉(zhuǎn)動設(shè)置在轉(zhuǎn)動臺上表面，從而轉(zhuǎn)動座相對轉(zhuǎn)動臺產(chǎn)生相對的自轉(zhuǎn)，提高研磨效果的同時，提高了研磨的效率，在晶片研磨的過程中，研磨液從導(dǎo)入管進入到設(shè)置在驅(qū)動桿側(cè)壁上且位于上研磨臺上方下料板的下料腔中，下料板朝向上研磨臺的一側(cè)側(cè)壁上沿周向設(shè)置有若干導(dǎo)出管，上研磨臺上且位于研磨槽的正上方沿周向上下貫穿設(shè)置有若干通孔，若干導(dǎo)出管遠(yuǎn)離下料板的一端分別與若干通孔對接，進入到下料腔中的研磨液隨著若干導(dǎo)出管分別從設(shè)置在上研磨臺上的若干通孔進入到研磨槽中，并在晶片研磨的過程中實時的均勻加入，保證研磨液的進入效果，提供晶片研磨所需要的研磨液，本實用新型提供了一種研磨效率高、研磨效果好且研磨液加入均勻的研磨機。