[實(shí)用新型]一種用于脈沖X、γ射線劑量測(cè)量的平板電離室

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201822212408.1
• 申請(qǐng)日: 2018-12-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209387885U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-09-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高飛;徐陽(yáng);倪寧;張曦;侯金兵
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)原子能科學(xué)研究院
• 主分類(lèi)號(hào): G01T1/185
• 分類(lèi)號(hào): G01T1/185
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張成新

本實(shí)用新型提供了一種用于脈沖X、γ射線劑量測(cè)量的平板電離室，該平板電離室包括工作氣體、入射窗、保護(hù)環(huán)、平板電極以及基座；其中基座內(nèi)形成有圓柱形的電離室空腔，用以容納工作氣體；入射窗為一端開(kāi)口一端封閉的圓柱體，其外側(cè)壁上設(shè)置有螺紋，開(kāi)口端扣合在所述電離室空腔底部上；所述電離室空腔的內(nèi)側(cè)壁上形成有與入射窗上螺紋相配合的螺紋，以使得入射窗通過(guò)旋鈕的方式固定在基座上；電離室空腔的底部設(shè)置有圓形平板電極，所述平板電極沿其外沿設(shè)置有環(huán)形凹槽，保護(hù)環(huán)設(shè)置在該環(huán)形凹槽中。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種測(cè)量裝置，更特別地涉及一種用于脈沖X、γ射線劑量測(cè)量的平板電離室。

背景技術(shù)

脈沖式電離輻射在工業(yè)探傷、X射線診斷、閃光X射線照相技術(shù)、安檢和科研等領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用。脈沖式電離輻射(以下簡(jiǎn)稱(chēng)脈沖輻射)具有持續(xù)時(shí)間短且瞬時(shí)劑量率高的特點(diǎn)，但在穩(wěn)態(tài)輻射場(chǎng)中刻度過(guò)的主動(dòng)式電子劑量?jī)x(active electronic dosemeters，以下簡(jiǎn)稱(chēng)AED)難以準(zhǔn)確測(cè)量脈沖輻射的劑量。AED廣泛用于輻射場(chǎng)的劑量監(jiān)測(cè)，其直讀式顯示方式和報(bào)警功能給從業(yè)人員提供安全保障。AED在測(cè)量脈沖輻射場(chǎng)劑量時(shí)存在以下幾個(gè)問(wèn)題。首先儀表存在過(guò)響應(yīng)問(wèn)題，這必然影響監(jiān)測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性；其次，AED的兩次測(cè)量周期間隔可達(dá)幾秒，如果脈沖輻射剛好發(fā)生在儀表測(cè)量周期間隔時(shí)間內(nèi)，很可能發(fā)生漏記事件從而極大地影響測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性，造成測(cè)量結(jié)果嚴(yán)重偏低；最后，如果一次大劑量的脈沖剛好發(fā)生在儀表的測(cè)量間隔時(shí)間內(nèi)，必然會(huì)發(fā)生漏報(bào)事件，給射從業(yè)人員帶來(lái)極大地安全隱患。需要針對(duì)毫秒級(jí)脈沖X、γ射線研發(fā)一種平板型電離室，用于脈沖X、γ射線劑量測(cè)量和人員防護(hù)領(lǐng)域。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有脈沖X、γ射線輻射劑量無(wú)法準(zhǔn)確測(cè)量這一技術(shù)難題，提供一種用于脈沖X、γ射線劑量測(cè)量的平板電離室，能夠?yàn)槊}沖X、γ射線劑量率進(jìn)行測(cè)量，解決了毫秒級(jí)脈沖X、γ射線參考輻射需求。

根據(jù)本實(shí)用新型的用于脈沖X、γ射線劑量測(cè)量的平板電離室其特征在于該平板電離室包括工作氣體、入射窗、保護(hù)環(huán)、平板電極以及基座；其中基座內(nèi)形成有圓柱形的電離室空腔，用以容納工作氣體；入射窗為一端開(kāi)口一端封閉的圓柱體，其外側(cè)壁上設(shè)置有螺紋，開(kāi)口端扣合在所述電離室空腔底部上；所述電離室空腔的內(nèi)側(cè)壁上形成有與入射窗上螺紋相配合的螺紋，以使得入射窗通過(guò)旋鈕的方式固定在基座上；電離室空腔的底部設(shè)置有圓形平板電極，所述平板電極沿其外沿設(shè)置有環(huán)形凹槽，保護(hù)環(huán)設(shè)置在該環(huán)形凹槽中。

優(yōu)選地，所述入射窗由聚甲基丙烯酸甲酯或聚甲醛熱塑性結(jié)晶聚合物制成。

優(yōu)選地，所述平板電極的工作表面上噴涂有石墨涂層或者鋁涂層。

優(yōu)選地，所述平板電極由聚甲基丙烯酸甲酯或聚甲醛熱塑性結(jié)晶聚合物制成。

優(yōu)選地，所述保護(hù)環(huán)的高度與電離室高度相當(dāng)，所述保護(hù)環(huán)的寬度在2-6mm范圍內(nèi)；所述保護(hù)環(huán)由PEEK聚醚醚酮樹(shù)脂制成。

優(yōu)選地，所述涂層的厚度在在0.002-0.008mm范圍內(nèi)。

優(yōu)選地，其特征在于，所述電離室內(nèi)側(cè)壁上形成有石墨層，厚度為0.002-0.1mm。

本實(shí)用新型中涉及的裝置能夠?yàn)槊}沖X、γ射線劑量率進(jìn)行測(cè)量，解決了毫秒級(jí)脈沖X、γ射線參考輻射需求。且該裝置能夠有效縮短極間距，在相同的工作電壓下，次級(jí)電子能夠更好的加速，使其收集速率達(dá)到微秒量級(jí)；其次，該電離室采取了能量補(bǔ)償措施，內(nèi)壁噴涂的鋁層能夠有效提升電離室對(duì)低能光子的響應(yīng)，使得平板電離室的能量測(cè)量下限達(dá)到了20keV；最后，電離室收集極設(shè)計(jì)有2mm的保護(hù)環(huán)，用于提高電場(chǎng)的均勻性。

附圖說(shuō)明

圖1為根據(jù)本實(shí)用新型的平板型空腔電離室結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為根據(jù)本實(shí)用新型的電離室進(jìn)行測(cè)量時(shí)電離室的等勢(shì)線分布圖。