[實用新型]一種用于脈沖X、γ射線劑量測量的平板電離室

有效

• 申請號: 201822212408.1
• 申請日: 2018-12-26
• 公開（公告）號: CN209387885U
• 公開（公告）日: 2019-09-13
• 發明（設計）人: 高飛;徐陽;倪寧;張曦;侯金兵
• 申請（專利權）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: G01T1/185
• 分類號: G01T1/185
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張成新

1.一種用于脈沖X、γ射線劑量測量的平板電離室，其特征在于該平板電離室包括工作氣體、入射窗、保護環、平板電極以及基座；其中基座內形成有圓柱形的電離室空腔，用以容納工作氣體；入射窗為一端開口一端封閉的圓柱體，其外側壁上設置有螺紋，開口端扣合在所述電離室空腔底部上；所述電離室空腔的內側壁上形成有與入射窗上螺紋相配合的螺紋，以使得入射窗通過旋鈕的方式固定在基座上；電離室空腔的底部設置有圓形平板電極，所述平板電極沿其外沿設置有環形凹槽，保護環設置在該環形凹槽中。

2.根據權利要求1所述的平板電離室，其特征在于，所述入射窗由聚甲基丙烯酸甲酯或聚甲醛熱塑性結晶聚合物制成。

3.根據權利要求1所述的平板電離室，其特征在于，所述平板電極的工作表面上噴涂有石墨涂層或者鋁涂層。

4.根據權利要求3所述的平板電離室，其特征在于，所述平板電極由聚甲基丙烯酸甲酯或聚甲醛熱塑性結晶聚合物制成。

5.根據權利要求1所述的平板電離室，其特征在于，所述保護環的高度與電離室高度相當，所述保護環的寬度在2-6mm范圍內；所述保護環由聚醚醚酮樹脂制成。

6.根據權利要求3所述的平板電離室，其特征在于，所述涂層的厚度在0.002-0.008mm范圍內。

7.根據權利要求1所述的平板電離室，其特征在于，所述電離室內側壁上形成有石墨層，厚度為0.002-0.1mm。