[實(shí)用新型]一種10管高產(chǎn)能PECVD設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201822156352.2
• 申請(qǐng)日: 2018-12-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209568142U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-11-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔慧敏;林罡;王鵬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 無(wú)錫華源晶電科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/458
• 分類號(hào): C23C16/458;C23C16/513
• 代理公司: 無(wú)錫嘉馳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32388
• 代理人: 盛際豐

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種10管高產(chǎn)能PECVD設(shè)備，包括氣源柜、主機(jī)、密封爐門機(jī)構(gòu)和工作臺(tái)，氣源柜的一側(cè)固定連接有主機(jī)，且主機(jī)遠(yuǎn)離氣源柜的一側(cè)固定連接有密封爐門機(jī)構(gòu)，密封爐門機(jī)構(gòu)遠(yuǎn)離主機(jī)的一側(cè)固定連接有工作臺(tái)，工作臺(tái)內(nèi)壁的一側(cè)固定連接有上下料機(jī)械手。該高產(chǎn)能PECVD設(shè)備，通過(guò)氣源柜的一側(cè)固定連接有主機(jī)，通過(guò)該結(jié)構(gòu)設(shè)備的創(chuàng)新，使得單位面積的產(chǎn)能提高了50%，降低了晶片的生產(chǎn)成本，給企業(yè)帶來(lái)更高的效益，通過(guò)工作臺(tái)的內(nèi)部滑動(dòng)連接有石墨舟，新的石墨舟載片量達(dá)到600片，石墨舟形成兩個(gè)回路，避免了電場(chǎng)的衰減，增大石墨舟的載片能力，不僅帶來(lái)高產(chǎn)能，也能優(yōu)化PECVD工藝指標(biāo)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及PECVD設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種10管高產(chǎn)能PECVD設(shè)備。

背景技術(shù)

PECVD( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition )是指等離子體增強(qiáng)化學(xué)的氣相沉積法，借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜，為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積，是太陽(yáng)能電池片中比較重要的工序，也是體現(xiàn)一個(gè)企業(yè)太陽(yáng)能電池片效率的一個(gè)重要指標(biāo)，鍍膜技術(shù)是整個(gè)光伏行業(yè)比較重視的技術(shù)，太陽(yáng)能電池的效率提升可以通過(guò)鍍膜技術(shù)的提升來(lái)實(shí)現(xiàn)，光在硅表面的反射損失率高達(dá)35%左右，減反膜可以極高地提高電池片對(duì)太陽(yáng)光的利用率，提高光電轉(zhuǎn)換效率。

因?yàn)槊恳慌姵仄夹枰O(jiān)測(cè)，所以PECVD工序一般較忙，現(xiàn)在的設(shè)備生產(chǎn)狀態(tài)下，原先的設(shè)備量已經(jīng)無(wú)法滿足產(chǎn)能的需求，而通過(guò)增加設(shè)備數(shù)量來(lái)提高產(chǎn)能，又會(huì)帶來(lái)占地面積的問(wèn)題，并且大多數(shù)電池片生產(chǎn)廠家的設(shè)備用地已經(jīng)達(dá)到飽和，在這種情況下，提高設(shè)備本身的產(chǎn)能就成了迫切的需求。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種10管高產(chǎn)能PECVD設(shè)備，解決了原先的設(shè)備量已經(jīng)無(wú)法滿足產(chǎn)能的需求，而通過(guò)增加設(shè)備數(shù)量來(lái)提高產(chǎn)能，又會(huì)帶來(lái)占地面積的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：一種10管高產(chǎn)能PECVD設(shè)備，包括氣源柜、主機(jī)、密封爐門機(jī)構(gòu)和工作臺(tái)，所述氣源柜的一側(cè)固定連接有主機(jī)，且主機(jī)遠(yuǎn)離氣源柜的一側(cè)固定連接有密封爐門機(jī)構(gòu)，所述密封爐門機(jī)構(gòu)遠(yuǎn)離主機(jī)的一側(cè)固定連接有工作臺(tái)，所述工作臺(tái)內(nèi)壁的一側(cè)固定連接有上下料機(jī)械手，所述工作臺(tái)內(nèi)壁的一側(cè)固定連接有間歇臺(tái)，所述工作臺(tái)一側(cè)的正面與背面均傳動(dòng)連接有自動(dòng)送取料系統(tǒng)，所述工作臺(tái)的正面與背面均固定連接有控制操作臺(tái)。

優(yōu)選的，所述工作臺(tái)的內(nèi)部設(shè)置有推拉舟，所述工作臺(tái)的內(nèi)部滑動(dòng)連接有石墨舟。

優(yōu)選的，所述密封爐門機(jī)構(gòu)的內(nèi)部設(shè)置有真空系統(tǒng)，所述氣源柜一側(cè)的正面與背面均設(shè)置有恒溫箱。

優(yōu)選的，所述氣源柜的頂部設(shè)置有變壓器，所述密封爐門機(jī)構(gòu)的頂部設(shè)置有排毒箱。

優(yōu)選的，所述主機(jī)的頂部固定連接有水流開(kāi)關(guān)。

優(yōu)選的，所述工作臺(tái)的內(nèi)部設(shè)置有Sic槳。

有益效果

本實(shí)用新型提供了一種10管高產(chǎn)能PECVD設(shè)備。與現(xiàn)有技術(shù)相比具備以下有益效果：

（1）、該高產(chǎn)能PECVD設(shè)備，通過(guò)氣源柜的一側(cè)固定連接有主機(jī)，且主機(jī)遠(yuǎn)離氣源柜的一側(cè)固定連接有密封爐門機(jī)構(gòu)，密封爐門機(jī)構(gòu)遠(yuǎn)離主機(jī)的一側(cè)固定連接有工作臺(tái)，工作臺(tái)內(nèi)壁的一側(cè)固定連接有上下料機(jī)械手，工作臺(tái)內(nèi)壁的一側(cè)固定連接有間歇臺(tái)，工作臺(tái)一側(cè)的正面與背面均傳動(dòng)連接有自動(dòng)送取料系統(tǒng)，工作臺(tái)的正面與背面均固定連接有控制操作臺(tái)，通過(guò)該結(jié)構(gòu)設(shè)備的創(chuàng)新，使得單位面積的產(chǎn)能提高了50%，降低了晶片的生產(chǎn)成本，給企業(yè)帶來(lái)更高的效益。