[實(shí)用新型]化學(xué)氣相沉積用隔離室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201822142924.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209397264U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 范繼良 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 黃劍鳴 |
| 主分類號(hào): | C23C16/54 | 分類號(hào): | C23C16/54 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 張艷美;王志 |
| 地址: | 中國(guó)香港新界大埔*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)香港;81 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 沉積室 隔離腔體 輥軸組件 抽氣腔 化學(xué)氣相沉積 本實(shí)用新型 從動(dòng)輥軸 中空結(jié)構(gòu) 主動(dòng)輥軸 隔離室 抽氣裝置 密封對(duì)接 柔性結(jié)構(gòu) 相切設(shè)置 依次連通 正對(duì)設(shè)置 抽氣口 硅膠層 連通 隔離 阻擋 擴(kuò)散 貫穿 延伸 | ||
1.一種化學(xué)氣相沉積用隔離室,適用于設(shè)置在第一沉積室和第二沉積室之間,其特征在于,所述化學(xué)氣相沉積用隔離室包括呈中空結(jié)構(gòu)的隔離腔體及輥軸組件,所述中空結(jié)構(gòu)形成抽氣腔,所述隔離腔體一側(cè)延伸出與所述第一沉積室密封對(duì)接的第一通道,所述隔離腔體的另一側(cè)延伸出與所述第二沉積室密封對(duì)接的第二通道,所述第一通道與所述第二通道正對(duì)設(shè)置,所述第一通道、抽氣腔及第二通道依次連通,所述隔離腔體上貫穿開(kāi)設(shè)有用于與外界抽氣裝置連通的抽氣口,所述輥軸組件設(shè)置于所述抽氣腔內(nèi),所述輥軸組件包括呈上下相切設(shè)置的從動(dòng)輥軸和主動(dòng)輥軸,所述主動(dòng)輥軸連接一驅(qū)動(dòng)其轉(zhuǎn)動(dòng)的輥軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述主動(dòng)輥軸和所述從動(dòng)輥軸外均具有呈柔性結(jié)構(gòu)的硅膠層,所述主動(dòng)輥軸與所述從動(dòng)輥軸相切處正對(duì)所述第一通道和所述第二通道。
2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積用隔離室,其特征在于,所述主動(dòng)輥軸和所述從動(dòng)輥軸的硅膠層的側(cè)壁與所述隔離腔體的內(nèi)側(cè)壁相接觸,所述從動(dòng)輥軸的硅膠層的頂壁與所述隔離腔體的內(nèi)頂壁之間具有間隙。
3.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積用隔離室,其特征在于,所述抽氣口設(shè)置于所述隔離腔體的頂部。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





