[實用新型]一種防止燒結DBC半導體基板氮氣爐爐管變形的裝置有效
| 申請號: | 201822133785.6 | 申請日: | 2018-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN209926855U | 公開(公告)日: | 2020-01-10 |
| 發明(設計)人: | 陳書生;劉瑞生;田茂標;楊海蓉;游炯;周偉;曾潔;鄧小燕;胡杰;龔俊紅 | 申請(專利權)人: | 成都萬士達瓷業有限公司 |
| 主分類號: | F27B17/00 | 分類號: | F27B17/00;H01L35/34 |
| 代理公司: | 51211 成都天嘉專利事務所(普通合伙) | 代理人: | 蘇丹;鄭發志 |
| 地址: | 611332 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高溫氮氣爐 爐管 支撐件 保溫層 半導體基板 本實用新型 燒結 變形的 氮氣爐 | ||
1.一種防止燒結DBC半導體基板氮氣爐爐管變形的裝置,其特征在于包括:高溫氮氣爐管(1)、爐管支撐件(2)、保溫層(3),所述高溫氮氣爐內設置有多個爐管支撐件(2),所述高溫氮氣爐內設置有兩根高溫氮氣爐管(1),所述爐管支撐件(2)與高溫氮氣爐管(1)相接觸,所述爐管支撐件(2)設置在保溫層(3)上。
2.根據權利要求1所述一種防止燒結DBC半導體基板氮氣爐爐管變形的裝置,其特征在于:所述保溫層(3)為剛玉莫來石層。
3.根據權利要求1所述一種防止燒結DBC半導體基板氮氣爐爐管變形的裝置,其特征在于:所述高溫氮氣爐內至少設置有10個爐管支撐件(2)。
4.根據權利要求1所述一種防止燒結DBC半導體基板氮氣爐爐管變形的裝置,其特征在于:所述每根高溫氮氣爐管(1)至少與10個爐管支撐件(2)相連接。
5.根據權利要求1所述一種防止燒結DBC半導體基板氮氣爐爐管變形的裝置,其特征在于:所述爐管支撐件(2)的間距為10-20厘米。
6.根據權利要求1所述一種防止燒結DBC半導體基板氮氣爐爐管變形的裝置,其特征在于:所述兩根高溫氮氣爐管(1)之間的間距至少為30-50厘米。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于成都萬士達瓷業有限公司,未經成都萬士達瓷業有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201822133785.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種有利于操作的富氧強化熔煉爐的排放裝置
- 下一篇:一種低氮燃燒分解爐下錐





