[實(shí)用新型]濺射陽(yáng)極罩和濺射裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201822123930.2
• 申請(qǐng)日: 2018-12-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209778982U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-12-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李仕軍;高文波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東生波爾光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 44327 中山市捷凱專利商標(biāo)代理事務(wù)所(特殊普通合伙)
• 代理人: 石仁

本實(shí)用新型公開(kāi)一種濺射陽(yáng)極罩和濺射裝置，其中，濺射陽(yáng)極罩包括罩體以及冷卻裝置，冷卻裝置包括冷卻管，冷卻管貼附于罩體上。本實(shí)用新型濺射陽(yáng)極罩通過(guò)設(shè)置冷卻裝置，使得冷卻管貼附在罩體上，則在濺射過(guò)程中，冷卻管能夠帶走罩體的大部分或者幾乎全部的熱量，則能夠有效的防止濺射陽(yáng)極罩成為熱源，避免濺射陽(yáng)極罩的熱輻射造成基材的溫升，從而提高基體鍍膜的均勻性及穩(wěn)定性。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及磁控濺射鍍膜設(shè)計(jì)領(lǐng)域，特別涉及一種濺射陽(yáng)極罩濺射裝置。

背景技術(shù)

磁控濺射鍍膜是指在真空狀態(tài)充入惰性氣體，并在基材和金屬靶材之間加上高壓直流電，由于輝光放電產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體，產(chǎn)生等離子體，等離子體將金屬靶材的原子轟出，并沉積在基材上。隨著各類柔性產(chǎn)品及高端顯示產(chǎn)品的廣泛推出，對(duì)于鍍膜過(guò)程中基片表面的溫度控制要求越來(lái)越高，柔性基片不耐高溫，另外一些產(chǎn)品雖然基片本身可以耐高溫，但是由于制程當(dāng)中涉及到很多道鍍膜，前一道工序的材料不耐高溫，也就導(dǎo)致后續(xù)的鍍膜也必須在低溫下完成，因此要求鍍膜過(guò)程中必須采用低溫鍍膜。

通常在靶材和基體之間設(shè)置一個(gè)陽(yáng)極罩，主要作用是吸收二次電子和散亂的濺射靶原子。然而目前同類連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線或單體鍍膜機(jī)中的陽(yáng)極罩，在連續(xù)鍍膜過(guò)程中會(huì)導(dǎo)致陽(yáng)極罩的溫度上升，使得陽(yáng)極罩成為熱源，進(jìn)而導(dǎo)致被鍍基體表面的溫升，這種現(xiàn)象會(huì)對(duì)一些自身對(duì)溫度敏感的基材或者膜層材料產(chǎn)生破壞，導(dǎo)致基材受損或者膜層性能下降，使得需要在低溫環(huán)境下進(jìn)行鍍膜的產(chǎn)品達(dá)不到要求的性能。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的主要目的是提出一種濺射陽(yáng)極罩，旨在實(shí)現(xiàn)改善鍍膜基體溫升的目的。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提出的濺射陽(yáng)極罩，包括罩體以及冷卻裝置，冷卻裝置包括冷卻管，所述冷卻管貼附于所述罩體上。

可選地，所述罩體包括層疊設(shè)置的內(nèi)罩和外罩，所述冷卻裝置夾設(shè)于所述內(nèi)罩及所述外罩之間。

可選地，所述冷卻管呈彎折設(shè)置。

可選地，所述冷卻管包括多個(gè)水循環(huán)模塊，多個(gè)所述水循環(huán)模塊分布于所述罩體的濺射孔的周邊。

可選地，所述外罩包括設(shè)有濺射孔的頂板及設(shè)于所述頂板相對(duì)兩側(cè)的側(cè)板，所述側(cè)板與所述頂板的內(nèi)側(cè)面均設(shè)有所述冷卻管。

可選地，每一所述水循環(huán)模塊包括側(cè)冷卻管、頂冷卻管和連接所述側(cè)冷卻管和頂冷卻管的連接管，所述側(cè)冷卻管貼附于所述側(cè)板的內(nèi)壁面，所述頂冷卻管貼附于所述頂板的內(nèi)壁面。

可選地，所述濺射陽(yáng)極罩還包括管道壓板，所述管道壓板與所述外罩的內(nèi)壁面固定連接，以將所述冷卻管壓緊固定在所述外罩的內(nèi)壁面上。

可選地，所述濺射陽(yáng)極罩還包括法蘭，所述冷卻管的進(jìn)水端及出水端穿設(shè)所述法蘭的法蘭孔，并與所述法蘭焊接連接。

可選地，所述濺射陽(yáng)極罩還包括擋板，所述擋板可拆卸的設(shè)于所述內(nèi)罩的內(nèi)表面，以部分遮擋罩體的濺射孔。

本實(shí)用新型還提出一種濺射裝置，包括罩體以及冷卻裝置，冷卻裝置包括冷卻管，所述冷卻管貼附于所述罩體上。

本實(shí)用新型濺射陽(yáng)極罩通過(guò)設(shè)置冷卻裝置，使得冷卻管貼附在罩體上，則在濺射過(guò)程中，冷卻管能夠帶走罩體的大部分或者幾乎全部的熱量，則能夠有效的防止濺射陽(yáng)極罩成為熱源，避免濺射陽(yáng)極罩的熱輻射造成基材的溫升，從而提高基體鍍膜的均勻性及穩(wěn)定性。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。

圖1為本實(shí)用新型濺射陽(yáng)極罩一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；