[實用新型]真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201822085100.5
• 申請日: 2018-12-12
• 公開（公告）號: CN209178468U
• 公開（公告）日: 2019-07-30
• 發明（設計）人: 胡靜敏;詹秀玲;霍健林;楊富國
• 申請（專利權）人: 佛山科學技術學院
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 四川省成都市天策商標專利事務所 51213
• 代理人: 郭會

本實用新型公開了一種真空鍍膜裝置，涉及真空鍍膜技術領域。本實用新型包括鍍膜機鍍膜室，鍍膜機鍍膜室內壁底部固定有支架，支架頂端固定有下半球蒸發腔，下半球蒸發腔內表面固定有支撐夾具，鍍膜機鍍膜室內壁底部固定有抽真空泵，抽真空泵通過真空抽管與下半球蒸發腔連通，鍍膜機鍍膜室內壁頂部固定有升降機構。本實用新型通過上下半球型的蒸發腔設計，先裝入基體工件，再閉合蒸發腔，通過在球形腔內設置靶材全方位蒸發鍍膜，鍍膜更加均勻，且多余蒸發材料又會重新附著于靶材表面，不僅減小材料損失，且不會造成蒸發腔污染，降低了生產成本和設備維護成本，提高設備鍍膜腔使用壽命。

技術領域

本實用新型屬于真空鍍膜技術領域，特別是涉及一種真空鍍膜裝置。

背景技術

真空鍍膜是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上，也稱為物理氣相沉積(PVD)。目前真空鍍膜技術主要有蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍這三種方法。

現有技術中真空鍍膜設備對鍍膜產品結構的局限性較大，在對具有復雜形狀的鍍膜產品進行鍍膜時，其容易產生鍍膜不均的情況或是無法對復雜形狀鍍膜產品的死角位置進行鍍膜。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種真空鍍膜裝置，解決了現有真空鍍膜設備對鍍膜產品結構的局限性較大，容易產生鍍膜不均或是無法對復雜形狀鍍膜產品的死角位置進行鍍膜的問題。

為解決上述技術問題，本實用新型是通過以下技術方案實現的：

本實用新型為一種真空鍍膜裝置，包括鍍膜機鍍膜室，所述鍍膜機鍍膜室內壁底部固定有支架，所述支架頂端固定有下半球蒸發腔，所述下半球蒸發腔內表面固定有支撐夾具，所述鍍膜機鍍膜室內壁底部固定有抽真空泵，所述抽真空泵通過真空抽管與下半球蒸發腔連通，所述鍍膜機鍍膜室內壁頂部固定有升降機構，所述升降機構底端固定有上半球蒸發腔，所述下半球蒸發腔和上半球蒸發腔閉合形成球形蒸發腔。

進一步地，所述下半球蒸發腔和上半球蒸發腔外壁均圍繞設置有電阻絲，所述下半球蒸發腔和上半球蒸發腔上的電阻絲相互對接形成閉合電路。

進一步地，所述升降機構包括液壓桿、導套和導桿，所述液壓桿兩端分別與鍍膜機鍍膜室內壁頂部、上半球蒸發腔頂部固定連接，所述導套頂端與鍍膜機鍍膜室內壁頂部固定，所述導桿與導套滑動配合，所述導桿底端與上半球蒸發腔固定連接。

進一步地，所述支撐夾具頂端延伸至球形蒸發腔中心位置，所述支撐夾具用于裝夾固定基體。

本實用新型具有以下有益效果：

本實用新型通過上下半球型的蒸發腔設計，先裝入基體工件，再閉合蒸發腔，通過在球形腔內設置靶材全方位蒸發鍍膜，鍍膜更加均勻，且多余蒸發材料又會重新附著于靶材表面，不僅減小材料損失，且不會造成蒸發腔污染，降低了生產成本和設備維護成本，提高設備鍍膜腔使用壽命。

當然，實施本實用新型的任一產品并不一定需要同時達到以上所述的所有優點。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例的技術方案，下面將對實施例描述所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型真空鍍膜裝置的結構示意圖；

圖2為真空鍍膜裝置下半球蒸發腔與上半球蒸發腔分離時的結構示意圖。

附圖中，各標號所代表的部件列表如下：