[實用新型]真空鍍膜裝置有效
| 申請號： | 201822085100.5 | 申請日： | 2018-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN209178468U | 公開（公告）日： | 2019-07-30 |
| 發明（設計）人： | 胡靜敏;詹秀玲;霍健林;楊富國 | 申請（專利權）人： | 佛山科學技術學院 |
| 主分類號： | C23C14/26 | 分類號： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 四川省成都市天策商標專利事務所 51213 | 代理人： | 郭會 |
| 地址： | 528000 廣東省佛山*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 蒸發腔 鍍膜機 鍍膜 本實用新型 室內壁 下半球 真空鍍膜裝置 抽真空泵 設備維護成本 真空鍍膜技術 靶材表面 材料損失 基體工件 上下半球 升降機構 使用壽命 真空抽管 蒸發材料 蒸發鍍膜 支撐夾具 支架頂端 重新附著 閉合 鍍膜腔 鍍膜室 內表面 球形腔 靶材 減小 支架 裝入 生產成本 連通 污染 | ||
1.一種真空鍍膜裝置，包括鍍膜機鍍膜室(1)，其特征在于：所述鍍膜機鍍膜室(1)內壁底部固定有支架(2)，所述支架(2)頂端固定有下半球蒸發腔(3)，所述下半球蒸發腔(3)內表面固定有支撐夾具(4)，所述鍍膜機鍍膜室(1)內壁底部固定有抽真空泵(5)，所述抽真空泵(5)通過真空抽管(6)與下半球蒸發腔(3)連通，所述鍍膜機鍍膜室(1)內壁頂部固定有升降機構，所述升降機構底端固定有上半球蒸發腔(7)，所述下半球蒸發腔(3)和上半球蒸發腔(7)閉合形成球形蒸發腔。
2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于，所述下半球蒸發腔(3)和上半球蒸發腔(7)外壁均圍繞設置有電阻絲(8)，所述下半球蒸發腔(3)和上半球蒸發腔(7)上的電阻絲(8)相互對接形成閉合電路。
3.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于，所述升降機構包括液壓桿(9)、導套(10)和導桿(11)，所述液壓桿(9)兩端分別與鍍膜機鍍膜室(1)內壁頂部、上半球蒸發腔(7)頂部固定連接，所述導套(10)頂端與鍍膜機鍍膜室(1)內壁頂部固定，所述導桿(11)與導套(10)滑動配合，所述導桿(11)底端與上半球蒸發腔(7)固定連接。
4.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于，所述支撐夾具(4)頂端延伸至球形蒸發腔中心位置，所述支撐夾具(4)用于裝夾固定基體。
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