[實用新型]一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置

有效

• 申請號: 201822071709.7
• 申請日: 2018-12-11
• 公開（公告）號: CN209162189U
• 公開（公告）日: 2019-07-26
• 發明（設計）人: 左雪芹;陸雪強;潘曉霞
• 申請（專利權）人: 江蘇邁納德微納技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/458;C23C16/52
• 代理公司: 無錫市才標專利代理事務所(普通合伙) 32323
• 代理人: 張天翔

本實用新型公開了一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，包括反應室、前驅體源輸送系統、真空系統、臭氧發生器、控制系統、反應室外壁、前驅體源入口、抽氣勻氣裝置、樣品進入口、勻氣噴淋裝置、真空系統接口和樣品臺，所述控制系統的內部設置有真空系統，控制系統的下方設置有臭氧發生器，本實用新型一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，樣品臺同時具有加熱功能，樣品臺尺寸不同規格，增加多樣性，通過勻氣噴淋裝置勻氣后吸附在樣品表面，在垂直流動式反應室的底部增加抽氣勻氣裝置，防止氣流迅速的從中間抽走，可提高薄膜的均勻性，對于非理想的ALD過程并不敏感，且反應室比較橫向流動式要大，可以生長一些尺度大的三維樣品。

技術領域

本實用新型涉及反應室技術領域，具體為一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置。

背景技術

子層沉積技術是序列前驅體脈沖交替進入反應室發生自限制的表面化學吸附反應。前驅體的運輸、在反應腔中的擴散以及反應腔溫場的均勻性對鍍膜的質量影響很大。常見的ALD反應室氣流方式有：橫向流動式、垂直流動式。其中橫向流動式反應室結構緊湊，腔室的高度很低，一般是毫米級別。它的優點是腔室比較小，提高前驅體源的使用效率，反應時間短，清洗殘留前驅體的時間短。缺點是對非理想的ALD過程教為敏感，會導致薄膜的不均勻性，另外對于一些尺度大三維樣品并不合適。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，使用方便，樣品臺同時具有加熱功能，樣品臺尺寸不同規格，增加多樣性，通過勻氣噴淋裝置勻氣后吸附在樣品表面，在垂直流動式反應室的底部增加抽氣勻氣裝置，防止氣流迅速的從中間抽走，可提高薄膜的均勻性，對于非理想的ALD過程并不敏感，且反應室比較橫向流動式要大，可以生長一些尺度大的三維樣品，解決了現有技術中的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，包括反應室、前驅體源輸送系統、真空系統、臭氧發生器、控制系統、反應室外壁、前驅體源入口、抽氣勻氣裝置、樣品進入口、勻氣噴淋裝置、真空系統接口、樣品臺和壓力監測系統接口，所述控制系統的內部設置有真空系統，控制系統的下方設置有臭氧發生器，控制系統的上方安裝有反應室和前驅體源輸送系統，前驅體源輸送系統上安裝有反應室外壁，所述反應室的內部設置有反應室外壁，反應室外壁內部設置有樣品臺，反應室外壁的上方連接有勻氣噴淋裝置，勻氣噴淋裝置的上方連接有前驅體源入口，所述反應室外壁的外側安裝有樣品進入口，反應室外壁的下方連接有抽氣勻氣裝置，抽氣勻氣裝置的下方設置有真空系統接口和壓力監測系統接口。

優選的，所述前驅體源入口與驅體源輸送系統連接。

優選的，所述真空系統接口與真空系統連接。

優選的，所述壓力監測系統接口的一端接入壓力監測系統。

優選的，所述樣品臺的尺寸非同一種規格。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果如下：

1、本實用新型一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，反應室的內部設置有反應室外壁，反應室外壁內部設置有樣品臺，樣品臺的尺寸非同一種規格，樣品臺同時具有加熱功能，樣品臺尺寸不同規格，2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、10英寸大小規格硅片，以及其他在250mm以內的任意形狀的樣品，增加多樣性。