[實用新型]一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置

有效

• 申請號: 201822071709.7
• 申請日: 2018-12-11
• 公開（公告）號: CN209162189U
• 公開（公告）日: 2019-07-26
• 發明（設計）人: 左雪芹;陸雪強;潘曉霞
• 申請（專利權）人: 江蘇邁納德微納技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/458;C23C16/52
• 代理公司: 無錫市才標專利代理事務所(普通合伙) 32323
• 代理人: 張天翔

1.一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，包括反應室(1)、前驅體源輸送系統(2)、真空系統(3)、臭氧發生器(4)、控制系統(5)、反應室外壁(6)、前驅體源入口(7)、抽氣勻氣裝置(8)、樣品進入口(9)、勻氣噴淋裝置(10)、真空系統接口(11)、樣品臺(12)和壓力監測系統接口(13)，其特征在于：所述控制系統(5)的內部設置有真空系統(3)，控制系統(5)的下方設置有臭氧發生器(4)，控制系統(5)的上方安裝有反應室(1)和前驅體源輸送系統(2)，前驅體源輸送系統(2)上安裝有反應室外壁(6)，所述反應室(1)的內部設置有反應室外壁(6)，反應室外壁(6)內部設置有樣品臺(12)，反應室外壁(6)的上方連接有勻氣噴淋裝置(10)，勻氣噴淋裝置(10)的上方連接有前驅體源入口(7)，所述反應室外壁(6)的外側安裝有樣品進入口(9)，反應室外壁(6)的下方連接有抽氣勻氣裝置(8)，抽氣勻氣裝置(8)的下方設置有真空系統接口(11)和壓力監測系統接口(13)。

2.根據權利要求1所述的一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，其特征在于：所述前驅體源入口(7)與驅體源輸送系統(2)連接。

3.根據權利要求1所述的一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，其特征在于：所述真空系統接口(11)與真空系統(3)連接。

4.根據權利要求1所述的一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，其特征在于：所述壓力監測系統接口(13)的一端接入壓力監測系統。

5.根據權利要求1所述的一種用于垂直流動式反應室的ALD裝置，其特征在于：所述樣品臺(12)的尺寸非同一種規格。