[實(shí)用新型]晶片電性測(cè)量裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201822061610.9 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209327514U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-08-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡泰祥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 元茂光電科技(武漢)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01R31/26 | 分類號(hào): | G01R31/26;G01R1/04 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 430020 湖北省*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空控制閥 吸附平臺(tái) 電性測(cè)量 閉合板 晶圓片 下槽體 導(dǎo)管 本實(shí)用新型 真空通孔 晶片 連通 真空發(fā)生裝置 待測(cè)晶圓片 電極對(duì)位 密封盒體 真空負(fù)壓 裝置結(jié)構(gòu) 作業(yè)效率 通氣孔 滑動(dòng) 上端 側(cè)壁 蓋設(shè) 滑臺(tái) 取放 吸附 種晶 制造 | ||
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種晶片電性測(cè)量裝置,包括吸附平臺(tái)、真空控制閥、導(dǎo)管及點(diǎn)測(cè)探頭;吸附平臺(tái)包括下槽體和上閉合板;下槽體側(cè)壁設(shè)有真空通孔;上閉合板蓋設(shè)于下槽體上端使吸附平臺(tái)形成密封盒體結(jié)構(gòu),上閉合板設(shè)有多個(gè)通氣孔;真空控制閥通過(guò)導(dǎo)管與所述真空通孔連通,且真空控制閥通過(guò)另一導(dǎo)管與真空發(fā)生裝置連通。本實(shí)用新型提出的晶片電性測(cè)量裝置,通過(guò)吸附平臺(tái)實(shí)現(xiàn)真空負(fù)壓以吸附待測(cè)晶圓片,使晶圓片無(wú)法滑動(dòng),有效提高了點(diǎn)測(cè)效率;通過(guò)滑臺(tái)的作用,方便改變晶圓片電極對(duì)位方式,提高作業(yè)效率;通過(guò)真空控制閥的作用,晶圓片的取放更方便;且整個(gè)裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,制造和使用成本低,更易于推廣運(yùn)用。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及晶片測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域,具體地涉及一種晶片電性測(cè)量裝置。
背景技術(shù)
現(xiàn)有技術(shù)中,對(duì)晶片(晶圓片)的電性測(cè)量方式通常是將晶片放置于PVC板上,測(cè)量晶片上下左中右(五點(diǎn))電性時(shí)需不斷用手推動(dòng)PVC至合適位置進(jìn)行測(cè)量;這種缺陷在于芯粒電極較小,用手調(diào)整,極難保證電極與探針位置重合;晶圓片放置于PVC上,較易滑動(dòng),點(diǎn)測(cè)時(shí)無(wú)法保證有效點(diǎn)測(cè)。另外,市場(chǎng)上還出現(xiàn)有一種采用靜電卡盤的測(cè)量裝置,利用靜電卡盤將晶片吸附固定以完成測(cè)量,但由于靜電卡盤價(jià)格高昂,維護(hù)使用成本高,難以推廣。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。為此,本實(shí)用新型提出了一種晶片電性測(cè)量裝置,包括吸附平臺(tái)、真空控制閥、導(dǎo)管及點(diǎn)測(cè)探頭;
所述吸附平臺(tái)包括下槽體和上閉合板;所述下槽體為上端敞口的盒體結(jié)構(gòu),其側(cè)壁設(shè)有真空通孔;所述上閉合板蓋設(shè)于所述下槽體上端使吸附平臺(tái)形成密封盒體結(jié)構(gòu),所述上閉合板設(shè)有多個(gè)通氣孔;
所述真空控制閥通過(guò)導(dǎo)管與所述真空通孔連通,且所述真空控制閥通過(guò)另一導(dǎo)管與真空發(fā)生裝置連通;
所述點(diǎn)測(cè)探頭設(shè)于所述吸附平臺(tái)上方。
進(jìn)一步,還包括滑臺(tái);所述滑臺(tái)包括平板和滑塊導(dǎo)軌機(jī)構(gòu);所述平板設(shè)于所述吸附平臺(tái)下方;所述滑塊導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)設(shè)于平板下方用于驅(qū)動(dòng)平板在水平面內(nèi)做橫向移動(dòng)和/或縱向移動(dòng)。
進(jìn)一步,所述滑臺(tái)還包括調(diào)節(jié)旋鈕;所述滑塊導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)包括絲桿和滑塊;所述調(diào)節(jié)旋鈕設(shè)于所述絲桿末端用于旋轉(zhuǎn)絲桿以驅(qū)動(dòng)滑塊移動(dòng);所述滑塊與平板連接。
進(jìn)一步,所述上閉合板與下槽體通過(guò)粘膠劑密封連接。
進(jìn)一步,所述真空控制閥包括出氣孔、排氣孔、進(jìn)氣孔和真空閥旋鈕;所述出氣孔通過(guò)導(dǎo)管與真空發(fā)生裝置連通;所述排氣孔通過(guò)另一導(dǎo)管與真空通孔連通;所述進(jìn)氣孔與外部連通;所述真空閥旋鈕用于控制出氣孔、排氣孔和進(jìn)氣孔的開(kāi)閉。
進(jìn)一步,所述下槽體內(nèi)還設(shè)有豎直的支撐筋;所述支撐筋上端與所述上閉合板連接或抵接。
本實(shí)用新型提出的晶片電性測(cè)量裝置,通過(guò)吸附平臺(tái)實(shí)現(xiàn)真空負(fù)壓以吸附待測(cè)晶圓片,使晶圓片無(wú)法滑動(dòng),有效提高了點(diǎn)測(cè)效率;通過(guò)滑臺(tái)的作用,方便改變晶圓片電極對(duì)位方式,提高作業(yè)效率;通過(guò)真空控制閥的作用,晶圓片的取放更方便;且整個(gè)裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,制造和使用成本低,更易于推廣運(yùn)用。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型晶片電性測(cè)量裝置的吸附平臺(tái)上設(shè)有晶圓片后的立體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型晶片電性測(cè)量裝置的下槽體的俯視立體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型晶片電性測(cè)量裝置的上閉合板的俯視立體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為圖1的真空控制閥的主視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為圖4的左視結(jié)構(gòu)示意圖;
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G01R 測(cè)量電變量;測(cè)量磁變量
G01R31-00 電性能的測(cè)試裝置;電故障的探測(cè)裝置;以所進(jìn)行的測(cè)試在其他位置未提供為特征的電測(cè)試裝置
G01R31-01 .對(duì)相似的物品依次進(jìn)行測(cè)試,例如在成批生產(chǎn)中的“過(guò)端—不過(guò)端”測(cè)試;測(cè)試對(duì)象多點(diǎn)通過(guò)測(cè)試站
G01R31-02 .對(duì)電設(shè)備、線路或元件進(jìn)行短路、斷路、泄漏或不正確連接的測(cè)試
G01R31-08 .探測(cè)電纜、傳輸線或網(wǎng)絡(luò)中的故障
G01R31-12 .測(cè)試介電強(qiáng)度或擊穿電壓
G01R31-24 .放電管的測(cè)試





