[實用新型]晶片電性測量裝置有效
| 申請號: | 201822061610.9 | 申請日: | 2018-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN209327514U | 公開(公告)日: | 2019-08-30 |
| 發明(設計)人: | 胡泰祥 | 申請(專利權)人: | 元茂光電科技(武漢)有限公司 |
| 主分類號: | G01R31/26 | 分類號: | G01R31/26;G01R1/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 430020 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空控制閥 吸附平臺 電性測量 閉合板 晶圓片 下槽體 導管 本實用新型 真空通孔 晶片 連通 真空發生裝置 待測晶圓片 電極對位 密封盒體 真空負壓 裝置結構 作業效率 通氣孔 滑動 上端 側壁 蓋設 滑臺 取放 吸附 種晶 制造 | ||
1.一種晶片電性測量裝置,其特征在于,包括吸附平臺、真空控制閥、導管及點測探頭;
所述吸附平臺包括下槽體和上閉合板;所述下槽體為上端敞口的盒體結構,其側壁設有真空通孔;所述上閉合板蓋設于所述下槽體上端使吸附平臺形成密封盒體結構,所述上閉合板設有多個通氣孔;
所述真空控制閥通過導管與所述真空通孔連通,且所述真空控制閥通過另一導管與真空發生裝置連通;
所述點測探頭設于所述吸附平臺上方。
2.根據權利要求1所述的晶片電性測量裝置,其特征在于,還包括滑臺;所述滑臺包括平板和滑塊導軌機構;所述平板設于所述吸附平臺下方;所述滑塊導軌機構設于平板下方用于驅動平板在水平面內做橫向移動和/或縱向移動。
3.根據權利要求2所述的晶片電性測量裝置,其特征在于,所述滑臺還包括調節旋鈕;所述滑塊導軌機構包括絲桿和滑塊;所述調節旋鈕設于所述絲桿末端用于旋轉絲桿以驅動滑塊移動;所述滑塊與平板連接。
4.根據權利要求1所述的晶片電性測量裝置,其特征在于,所述上閉合板與下槽體通過粘膠劑密封連接。
5.根據權利要求1所述的晶片電性測量裝置,其特征在于,所述真空控制閥包括出氣孔、排氣孔、進氣孔和真空閥旋鈕;所述出氣孔通過導管與真空發生裝置連通;所述排氣孔通過另一導管與真空通孔連通;所述進氣孔與外部連通;所述真空閥旋鈕用于控制出氣孔、排氣孔和進氣孔的開閉。
6.根據權利要求1所述的晶片電性測量裝置,其特征在于,所述下槽體內還設有豎直的支撐筋;所述支撐筋上端與所述上閉合板連接或抵接。
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