[實用新型]一種新型氧化擴散爐系統(tǒng)用進氣管

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201822048691.9
• 申請日: 2018-12-07
• 公開（公告）號: CN209508452U
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發(fā)明（設計）人: 張忠恕
• 申請（專利權）人: 張忠恕
• 主分類號: C30B31/16
• 分類號: C30B31/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及一種新型氧化擴散爐系統(tǒng)用進氣管，包括前后連接的彎折通氣管和直通氣管，所述彎折通氣管和直通氣管均由石英管制成，所述彎折通氣管與進氣端連接，所述直通氣管與出氣端連通，所述直通氣管靠近彎折通氣管的下方具有開口與高壓進氣管連通，所述高壓進氣管與彎折通氣管外壁通過膠接固定設置高壓進氣管，可以實現(xiàn)進氣端的進氣與高壓進氣管的進氣之間的加速混合，實現(xiàn)擴散原子的均勻分布，同時可以實現(xiàn)出氣端輸出氣體壓力的微量調節(jié)，避免現(xiàn)有技術中對進氣端整體氣體壓力的調節(jié)引起的出氣端氣體壓力的過大波動，有效提高擴散加工工藝的穩(wěn)定性。

技術領域

本實用新型涉及氧化擴散爐裝置領域，具體是一種新型氧化擴散爐系統(tǒng)用進氣管。

背景技術

現(xiàn)有常壓擴散爐進氣方式為爐尾進氣，通過尾氣管從爐口出氣，在爐內形成氣體流場，中國實用新型專利CN206736407U公開了一種擴散爐用石英爐管，爐門上設置底面呈球面的導流槽，進氣管穿過管體內部，在爐口處與爐門相對設置，當氣體從進氣管進入管體后，氣體從進氣管內噴出，直接噴向導流槽的底面，導流槽的底面為球面，噴向導流槽的氣體經過導流槽底面的反彈后充滿整個管體，并向爐尾流動，最終從爐尾中間的尾氣管排出，摻雜原子在反應室內分布更均勻，但仍具有如下缺點：現(xiàn)有進氣方式氣體流場不均勻，摻雜原子在反應室內分布不均勻，爐尾氣體濃度偏高，爐口氣體濃度偏低，容易造成擴散后硅片片內與片間的均勻性相對較差，其主要原因在于采用反彈式氣體流動方式，雖然局部實現(xiàn)了摻雜原子分布均勻的目的，但其是以犧牲進氣管進氣氣體的壓力為代價，從而導致爐尾氣體濃度偏高，爐口氣體濃度偏低的現(xiàn)象發(fā)生。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種新型氧化擴散爐系統(tǒng)用進氣管，以解決現(xiàn)有技術中存在的缺陷。

本實用新型解決上述技術問題的技術方案如下：

一種新型氧化擴散爐系統(tǒng)用進氣管，包括前后連接的彎折通氣管和直通氣管，所述彎折通氣管和直通氣管均由石英管制成，所述彎折通氣管與進氣端連接，所述直通氣管與出氣端連通，所述直通氣管靠近彎折通氣管的下方具有開口與高壓進氣管連通，所述高壓進氣管與彎折通氣管外壁通過膠接固定。

進一步的，所述彎折通氣管上設置有固定用的乳白法蘭二，所述直通氣管的末端設置有固定用乳白法蘭一；

本實用新型的有益效果是：高壓進氣管可以實現(xiàn)進氣端的進氣與高壓進氣管的進氣之間的加速混合，實現(xiàn)擴散原子的均勻分布，必要時可以實現(xiàn)出氣端輸出氣體壓力的微量調節(jié)，有效提高擴散加工工藝的穩(wěn)定性。

附圖說明

圖1為本實用新型結構示意圖；

附圖標記說明如下：

1、進氣端，2、乳白法拉二，3、高壓進氣管，4、彎折通氣管，5、出氣端，6、乳白法蘭一，7、直通氣管；

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型的原理和特征進行描述，所舉實例只用于解釋本實用新型，并非用于限定本實用新型的范圍。

如圖1所示，一種新型氧化擴散爐系統(tǒng)用進氣管，包括前后連接的彎折通氣管4和直通氣管7，所述彎折通氣管4和直通氣管7均由石英管制成，所述彎折通氣管4與進氣端1連接，所述直通氣管7與出氣端5連通，所述直通氣管7靠近彎折通氣管4的下方具有開口與高壓進氣管3連通，所述高壓進氣管3與彎折通氣管4外壁通過膠接固定。

更具體的，所述彎折通氣管4上設置有固定用的乳白法蘭二2，所述直通氣管7的末端設置有固定用乳白法蘭一6；

具體工作原理：