[實(shí)用新型]蒸鍍裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201822007055.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209456549U | 公開(公告)日: | 2019-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 星野孝雄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佳能特機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 鄧宗慶 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蒸發(fā)源 蒸發(fā)源移動(dòng) 維護(hù)位置 蒸鍍裝置 本實(shí)用新型 蒸鍍 室內(nèi) 操作手柄 室內(nèi)移動(dòng) 蒸鍍材料 基體板 位置處 蒸鍍膜 基板 拉出 外拉 載置 隔壁 破損 收容 | ||
本實(shí)用新型涉及蒸鍍裝置。該蒸鍍裝置具有:收容蒸鍍材料的蒸發(fā)源、以及載置所述蒸發(fā)源以使所述蒸發(fā)源在腔室內(nèi)移動(dòng)的蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于,在所述腔室內(nèi)存在蒸鍍位置和維護(hù)位置,所述蒸鍍位置是向基板上形成蒸鍍膜的位置,僅在所述蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)位于所述維護(hù)位置時(shí),能夠從所述蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)拉出所述蒸發(fā)源。根據(jù)本實(shí)用新型的如上所述的結(jié)構(gòu),能夠防止作業(yè)者在維護(hù)位置之外的其他位置處向外拉出蒸發(fā)源而導(dǎo)致基體板或操作手柄與腔室內(nèi)的隔壁接觸而產(chǎn)生破損。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及蒸鍍裝置。
背景技術(shù)
用于在基板上形成蒸鍍膜的蒸鍍裝置具有蒸發(fā)源,該蒸發(fā)源設(shè)置于蒸鍍裝置的腔室內(nèi)。通過利用加熱裝置對(duì)蒸發(fā)源所收容的蒸鍍材料進(jìn)行加熱,使該蒸鍍材料蒸發(fā)或升華,從而在與蒸發(fā)源相向配置的基板上形成蒸鍍膜。當(dāng)需要對(duì)蒸發(fā)源進(jìn)行維護(hù)作業(yè)時(shí),例如蒸發(fā)源所收容的蒸鍍材料用盡而需要補(bǔ)充新的蒸鍍材料,或更換為不同種類的蒸鍍材料來進(jìn)行蒸鍍時(shí),需要從收容蒸發(fā)源的腔室中拉出蒸發(fā)源。通常,在對(duì)蒸發(fā)源進(jìn)行上述那樣的維護(hù)作業(yè)時(shí),先將蒸發(fā)源移動(dòng)至維護(hù)位置,再從蒸發(fā)源的維護(hù)位置起拉出蒸發(fā)源。上述操作通常由作業(yè)者通過手動(dòng)來進(jìn)行操作。然而,有時(shí)作業(yè)者并不知曉只能在維護(hù)位置處拉出蒸發(fā)源而在維護(hù)位置之外的其他位置處拉拽操作手柄以便將蒸發(fā)源拉出。或者,即便作業(yè)者知曉上述情況但在實(shí)際進(jìn)行操作時(shí)有時(shí)誤在維護(hù)位置之外的其他位置處拉拽操作手柄以便將蒸發(fā)源拉出。若如上所述在維護(hù)位置之外的其他位置處向外拉出蒸發(fā)源,則有可能會(huì)導(dǎo)致載置并收納蒸發(fā)源的基體板或供作業(yè)者拉拽的上述操作手柄與腔室的隔壁接觸而產(chǎn)生破損。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型是為了解決上述問題而作出的,其主要目的在于提供一種蒸鍍裝置,該蒸鍍裝置能夠防止誤在維護(hù)位置之外的其他位置向外拉出蒸發(fā)源而導(dǎo)致載置并收納蒸發(fā)源的基體板或供作業(yè)者拉拽的上述操作手柄與腔室的隔壁接觸而產(chǎn)生破損。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:
一種蒸鍍裝置,該蒸鍍裝置具有:收容蒸鍍材料的蒸發(fā)源、以及載置所述蒸發(fā)源以使所述蒸發(fā)源在腔室內(nèi)移動(dòng)的蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于,
在所述腔室內(nèi)存在蒸鍍位置和維護(hù)位置,所述蒸鍍位置是向基板上形成蒸鍍膜的位置,僅在所述蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)位于所述維護(hù)位置時(shí),能夠從所述蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)拉出所述蒸發(fā)源。
優(yōu)選地,在所述蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置有載置所述蒸發(fā)源并相對(duì)于構(gòu)成蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)主體的基體板的上表面能夠滑動(dòng)的滑動(dòng)板,在所述基體板設(shè)置有為了使所述滑動(dòng)板停留在所述蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)主體的所述基體板的上表面而對(duì)所述滑動(dòng)板進(jìn)行阻擋的阻擋機(jī)構(gòu)。
優(yōu)選地,在所述滑動(dòng)板上設(shè)置有孔,在所述阻擋機(jī)構(gòu)設(shè)置有銷,在對(duì)所述滑動(dòng)板進(jìn)行阻擋時(shí),所述銷的前端的至少一部分處于所述孔內(nèi)。
優(yōu)選地,所述滑動(dòng)板的所述孔的直徑比所述銷的最大直徑小且比所述銷的前端面的直徑大。
優(yōu)選地,所述銷的前端呈越趨向前端面直徑越小的錐形。
優(yōu)選地,在所述蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)位于所述蒸鍍位置時(shí),所述銷的前端的至少一部分處于所述孔內(nèi)。
優(yōu)選地,在所述蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)位于所述維護(hù)位置時(shí),所述銷相對(duì)于所述孔能夠出入,以便對(duì)所述滑動(dòng)板進(jìn)行阻擋或解除對(duì)所述滑動(dòng)板進(jìn)行阻擋。
優(yōu)選地,通過作為驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的氣缸或電動(dòng)機(jī)的動(dòng)作來進(jìn)行所述銷相對(duì)于所述孔的出入。
優(yōu)選地,在所述蒸發(fā)源移動(dòng)機(jī)構(gòu)從所述蒸鍍位置移動(dòng)到了所述維護(hù)位置時(shí),通過所述氣缸或電動(dòng)機(jī)的動(dòng)作,所述銷從所述孔中退出以便解除對(duì)所述滑動(dòng)板進(jìn)行阻擋。
優(yōu)選地,在所述滑動(dòng)板從所述腔室的外部被推回到了所述維護(hù)位置時(shí),通過所述氣缸或電動(dòng)機(jī)的動(dòng)作,所述銷的前端的至少一部分進(jìn)入所述孔內(nèi)以便對(duì)所述滑動(dòng)板進(jìn)行阻擋。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





