[實用新型]一種卷對卷真空鍍膜設備

有效

• 申請號: 201821978496.X
• 申請日: 2018-11-26
• 公開（公告）號: CN209260195U
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 張俊峰;趙子東;許春立;張大劍
• 申請（專利權）人: 上海子創鍍膜技術有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種卷對卷真空鍍膜設備，它涉及真空鍍膜設備技術領域，包括依次相連的放卷室、前張力控制室、進口狹縫室、進口過渡室、前離子清洗室、工藝室、后離子清洗室、出口過渡室、出口狹縫室、后張力控制室和收卷室，所述的放卷室內設置有放卷輥、第一糾偏輥、第二張力輥和第一導向輥，放卷輥與第一糾偏輥、第一張力輥和第一導向輥依次相連，所述的前張力控制室與第一旋片真空泵相連；所述的進口狹縫室與第二旋片真空泵相連；所述的進口過渡室通過第一羅茨真空泵與第二旋片真空泵相連。本實用新型結構設計合理，操作方便可靠，模塊化組裝，安裝簡單便捷，實用性強。

技術領域

本實用新型涉及的是真空鍍膜設備技術領域，具體涉及一種卷對卷真空鍍膜設備。

背景技術

隨著我國電子行業、包裝行業的快速發展，國內對高檔真空鍍膜設備的需求越來越大，隨著其自動化程度和復雜程度的不斷提高，其工藝要求也越來高，目前卷繞式真空鍍膜機的設計和制造不斷向大卷、寬幅、高度、多工藝、微機控制自動化方向發展；國內的卷繞鍍膜設備，在柔性材料的更換過程中，需要對整個真空鍍膜系統破真空，更換完畢重新抽真空鍍膜。在破真空抽真空的過程中，耗費大量的生產時間，嚴重影響生產效率，另外最主要的是目前國內的卷繞設備放磁控濺射陰極的位置和數量有限，也就是說鍍膜的工藝有限，很難實現多層鍍膜工藝，目前業界對更換柔性材料及多工藝鍍膜并沒有一個完整的解決方法。

卷繞鍍膜設備主要在如PET、PE、PI 、不銹鋼帶材、鋁帶材、銅帶材等柔性材料，柔性高分子材料、炭質材料等帶狀基材上鍍制功能膜的產品，在現代工業和高技術領域用途廣泛，在帶狀基材上鍍覆功能膜多采用卷繞鍍膜方式。

綜上所述，本實用新型設計了一種卷對卷真空鍍膜設備。

發明內容

針對現有技術上存在的不足，本實用新型目的是在于提供一種卷對卷真空鍍膜設備，結構設計合理，操作方便可靠，模塊化組裝，安裝簡單便捷，實用性強。

為了實現上述目的，本實用新型是通過如下的技術方案來實現：一種卷對卷真空鍍膜設備，包括依次相連的放卷室、前張力控制室、進口狹縫室、進口過渡室、前離子清洗室、工藝室、后離子清洗室、出口過渡室、出口狹縫室、后張力控制室和收卷室，所述的放卷室內設置有放卷輥、第一糾偏輥、第二張力輥和第一導向輥，放卷輥與第一糾偏輥、第一張力輥和第一導向輥依次相連，所述的前張力控制室與第一旋片真空泵相連；所述的進口狹縫室與第二旋片真空泵相連；所述的進口過渡室通過第一羅茨真空泵與第二旋片真空泵相連。

作為優選，所述的前離子清洗室通過第一深冷吸附阱與第三旋片真空泵相連，前離子清洗室上還設置有第一陽極層離子源。

作為優選，所述的工藝室包括平面濺射陰極、C-MAG雙旋轉濺射陰極、磁懸浮真空分子泵組、第二深冷吸附阱、第二羅茨真空泵和第四旋片真空泵，磁懸浮真空分子泵組之間設置有平面濺射陰極、C-MAG雙旋轉濺射陰極，平面濺射陰極與第二深冷吸附阱相連，第二深冷吸附阱、第二羅茨真空泵和第四旋片真空泵依次相連。

作為優選，所述的后離子清洗室包括第五旋片真空泵、第三深冷吸附阱和第二陽極層離子源，后離子清洗室上設置有第二陽極層離子源，后離子清洗室與第三深冷吸附阱、第五旋片真空泵依次相連。

作為優選，所述的出口過渡室包括第六旋片真空泵和第三羅茨真空泵，出口過渡室與第三羅茨真空泵、第六旋片真空泵依次相連。

作為優選，所述的出口狹縫室與第七旋片真空泵相連。

作為優選，所述的后張力控制室與第八旋片真空泵相連。

作為優選，所述的收卷室內設置有依次相連的收卷輥、第二糾偏輥、第二張力輥和第二導向輥。

本實用新型具有以下有益效果：