[實用新型]一種卷對卷真空鍍膜設備

有效

• 申請號: 201821978496.X
• 申請日: 2018-11-26
• 公開（公告）號: CN209260195U
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 張俊峰;趙子東;許春立;張大劍
• 申請（專利權）人: 上海子創鍍膜技術有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種卷對卷真空鍍膜設備，其特征在于，包括依次相連的放卷室(1)、前張力控制室(2)、進口狹縫室(3)、進口過渡室(4)、前離子清洗室(5)、工藝室(6)、后離子清洗室(7)、出口過渡室(8)、出口狹縫室(9)、后張力控制室(10)和收卷室(11)，所述的放卷室(1)內設置有放卷輥(101)、第一糾偏輥(102)、第二張力輥(103)和第一導向輥(104)，放卷輥(101)與第一糾偏輥(102)、第一張力輥(103)和第一導向輥(104)依次相連，所述的前張力控制室(2)與第一旋片真空泵(201)相連；所述的進口狹縫室(3)與第二旋片真空泵(301)相連；所述的進口過渡室(4)通過第一羅茨真空泵(402)與第二旋片真空泵(401)相連。

2.根據權利要求1所述的一種卷對卷真空鍍膜設備，其特征在于，所述的前離子清洗室(5)通過第一深冷吸附阱(502)與第三旋片真空泵(501)相連，前離子清洗室(5)上還設置有第一陽極層離子源(503)。

3.根據權利要求1所述的一種卷對卷真空鍍膜設備，其特征在于，所述的工藝室(6)包括平面濺射陰極(601)、C-MAG雙旋轉濺射陰極(602)、磁懸浮真空分子泵組(603)、第二深冷吸附阱(604)、第二羅茨真空泵(605)和第四旋片真空泵(606)，磁懸浮真空分子泵組(603)之間設置有平面濺射陰極(601)、C-MAG雙旋轉濺射陰極(602)，平面濺射陰極(601)與第二深冷吸附阱(604)相連，第二深冷吸附阱(604)、第二羅茨真空泵(605)和第四旋片真空泵(606)依次相連。

4.根據權利要求1所述的一種卷對卷真空鍍膜設備，其特征在于，所述的后離子清洗室(7)包括第五旋片真空泵(701)、第三深冷吸附阱(702)和第二陽極層離子源(703)，后離子清洗室(7)上設置有第二陽極層離子源(703)，后離子清洗室(7)與第三深冷吸附阱(702)、第五旋片真空泵(701)依次相連。

5.根據權利要求1所述的一種卷對卷真空鍍膜設備，其特征在于，所述的出口過渡室(8)包括第六旋片真空泵(801)和第三羅茨真空泵(802)，出口過渡室(8)與第三羅茨真空泵(802)、第六旋片真空泵(801)依次相連。

6.根據權利要求1所述的一種卷對卷真空鍍膜設備，其特征在于，所述的出口狹縫室(9)與第七旋片真空泵(901)相連。

7.根據權利要求1所述的一種卷對卷真空鍍膜設備，其特征在于，所述的后張力控制室(10)與第八旋片真空泵(1001)相連。

8.根據權利要求1所述的一種卷對卷真空鍍膜設備，其特征在于，所述的收卷室(11)內設置有依次相連的收卷輥(1101)、第二糾偏輥(1102)、第二張力輥(1103)和第二導向輥(1104)。