[實用新型]硅片表面除塵裝置和硅片表面除塵系統

有效

• 申請號: 201821954512.1
• 申請日: 2018-11-26
• 公開（公告）號: CN209829761U
• 公開（公告）日: 2019-12-24
• 發明（設計）人: 錢海龍;費正洪
• 申請（專利權）人: 鹽城阿特斯協鑫陽光電力科技有限公司;阿特斯陽光電力集團有限公司
• 主分類號: B08B6/00
• 分類號: B08B6/00
• 代理公司: 32278 蘇州攜智匯佳專利代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 錢偉

本實用新型提供了一種硅片表面除塵裝置和硅片表面除塵系統。所述硅片表面除塵裝置包括除塵組件和集塵組件，所述除塵組件包括靜電吸附輥和驅動所述靜電吸附輥轉動的電機；所述靜電吸附輥用于對硅片表面的灰塵進行吸附；所述集塵組件包括集塵管，所述集塵管的一端與所述靜電吸附輥接觸，用以對吸附在所述靜電吸附輥表面的灰塵進行收集。本實用新型的硅片表面除塵裝置通過設置具有靜電環的靜電吸附輥，使得硅片表面的灰塵在靜電的作用下被吸附并可被集塵組件收集，進一步使得本實用新型的硅片表面除塵系統具有較佳的除塵效果和實用性，適于推廣及使用。

技術領域

本實用新型涉及一種硅片表面除塵裝置和硅片表面除塵系統，屬于光伏電池硅片除塵技術領域。

背景技術

硅片是光伏電池片的核心器件，可以通過光伏特效應將太陽能直接轉化為電能進行儲存和應用。在光伏電池片的實際生產過程中，為提升硅片的性能，需在硅片的表面制備一層減反射膜。在實際生產過程中，受到加工設備自身結構的影響，設備中的灰塵或小顆粒將散落在硅片的表面，影響硅片表面減反射膜的成膜效果；繼而，在后續加工過程中造成印刷時的漏漿及網版損害。

為解決上述問題，現有技術中通常采用氣流去除硅片表面的灰塵或小顆粒。然而，在使用氣流去除硅片表面的灰塵或小顆粒時，灰塵或小顆粒將直接逸散在車間中，影響車間的生產環境；同時，使用氣流去除硅片表面的灰塵或小顆粒時，需嚴格監控氣流的強度，一方面防止氣流過大將硅片吹歪，導致硅片的傳輸異常；另一方面，防止氣流過小，影響氣流去除硅片表面灰塵或小顆粒的效果。

有鑒于此，確有必要提供一種新的硅片表面除塵裝置和硅片表面除塵系統，以解決上述問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種硅片表面除塵裝置，以在保證去除硅片表面的灰塵效果的同時，對硅片表面的灰塵進行收集，以防止硅片表面的灰塵逸散到外界環境中，對外界環境造成污染。

為實現上述實用新型目的，本實用新型提供了一種硅片表面除塵裝置，包括除塵組件和集塵組件，所述除塵組件包括靜電吸附輥和驅動所述靜電吸附輥轉動的電機；所述靜電吸附輥包括靜電環，用于對硅片表面的灰塵進行吸附；所述集塵組件包括集塵管，所述集塵管的一端與所述靜電吸附輥中的所述靜電環接觸，用以對吸附在所述靜電吸附輥表面的灰塵進行收集。

作為本實用新型的進一步改進，所述靜電吸附輥還包括主體，所述靜電環貼覆在所述主體的外表面，所述電機用于驅動所述主體轉動，以帶動所述靜電環轉動。

作為本實用新型的進一步改進，所述靜電環上開設有缺口，以使得所述靜電環呈C型設置。

作為本實用新型的進一步改進，定義所述缺口在主體周向上的開口距離為所述缺口的缺口寬度，所述缺口寬度為所述主體的周長的1/8。

作為本實用新型的進一步改進，所述除塵組件還包括基板，所述集塵管貫穿所述基板并沿所述靜電吸附輥的中軸線延伸設置，所述集塵管與所述靜電吸附輥貼近的一端設有集塵口，所述集塵口抵在所述靜電吸附輥的外表面，以對靜電吸附輥外表面的灰塵進行集中和收集。

作為本實用新型的進一步改進，所述集塵管與所述靜電吸附輥貼近的一端設置成尖端，以在所述靜電吸附輥轉動時，所述尖端將所述靜電吸附輥外表面的灰塵集中至集塵口處。

作為本實用新型的進一步改進，所述電機收容在所述主體的中心，以控制所述主體相對于所述主體的中軸線順時針/逆時針轉動。

作為本實用新型的進一步改進，所述電機與所述靜電環通過導線連接。

作為本實用新型的進一步改進，所述集塵組件還包括與集塵管相連的集塵機構，所述集塵機構為真空負壓集塵機構。