[實用新型]一種磁控濺射設備

有效

• 申請號: 201821922516.1
• 申請日: 2018-11-21
• 公開（公告）號: CN209412303U
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發明（設計）人: 周興寶
• 申請（專利權）人: 東泰高科裝備科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54;C23C14/56
• 代理公司: 北京維澳專利代理有限公司 11252
• 代理人: 曾晨;周放

本實用新型公開了一種磁控濺射設備，包括柔性連接機構、第一工藝腔、第二工藝腔和控制機構；柔性連接機構包括柔性連接管，柔性連接管的兩端分別與第一工藝腔的腔壁和第二工藝腔的腔壁相連接；控制機構被設置為用于控制柔性連接管伸縮，以改變第一工藝腔和第二工藝腔之間的距離。本公開的磁控濺射設備通過控制機構控制柔性連接管的伸縮，改變了第一工藝腔和第二工藝腔之間的距離。承載靶材的陰極整體腔可與第一工藝腔或第二工藝腔一起移動，使得靶材與基片的距離發生改變，達到調整靶基距的目的。本公開的磁控濺射設備可在不打開工藝腔室的條件下通過柔性連接管的伸縮來改變靶基距，從而可在保持工藝腔室的真空狀態的前提下調整靶基距。

技術領域

本實用新型涉及氣相沉積領域，更具體地，涉及一種磁控濺射設備。

背景技術

磁控濺射鍍膜技術具有濺射速率高、沉積速率高、沉積溫度低、薄膜質量好等優點，是目前鍍膜工業化生產中最主要的技術之一。

在磁控濺射設備領域里，溫度、鍍膜氣壓、鍍膜時間以及靶材與基片距離(即靶基距)等因素均會影響到鍍膜工藝，特別是靶基距的改變會影響到膜層的沉積速率、膜層均勻性、膜層的質量，以及基片沉積溫度等多種工藝參數。

現有磁控濺射設備的靶基距調整需要先打開工藝腔室，然后再進行靶基矩調整操作。這將破壞工藝腔室的真空狀態，導致需要反復地對工藝腔室進行抽真空。

因此，如何提供一種可在保持工藝腔室的真空狀態的同時調整靶基矩的磁控濺射設備成為本領域亟需解決的技術難題。

實用新型內容

本實用新型的一個目的是提供一種可在保持工藝腔室的真空狀態的前提下調整靶基矩的磁控濺射設備的新技術方案。

根據本實用新型的第一方面，提供了一種磁控濺射設備。

該磁控濺射設備包括柔性連接機構、第一工藝腔、第二工藝腔和控制機構；其中，

所述柔性連接機構包括柔性連接管，所述柔性連接管的兩端分別與所述第一工藝腔的腔壁和所述第二工藝腔的腔壁相連接；

所述控制機構被設置為用于控制所述柔性連接管伸縮，以改變所述第一工藝腔和所述第二工藝腔之間的距離。

可選的，所述柔性連接管為波紋管。

可選的，所述柔性連接機構還包括分別設置在所述柔性連接管的兩端的第一柔性連接管法蘭和第二柔性連接管法蘭；

所述第一工藝腔上設有第一連接法蘭，所述第二工藝腔上設有第二連接法蘭；

所述第一柔性連接管法蘭和所述第二柔性連接管法蘭分別與所述第一連接法蘭和所述第二連接法蘭相連接。

可選的，所述控制機構包括驅動桿和驅動單元；

所述第一柔性連接管法蘭和/或所述第一連接法蘭上設有驅動桿孔，所述驅動桿的一端與所述驅動桿孔相配合，所述驅動桿的另一端與所述第二柔性連接管法蘭和/或所述第二連接法蘭相連接；

所述驅動單元被設置為用于驅動所述驅動桿沿著所述驅動桿孔移動，以改變所述第一柔性連接管法蘭和所述第二柔性連接管法蘭之間的距離。

可選的，所述控制機構還包括用于安裝所述驅動單元的驅動單元安裝支架，所述驅動單元安裝支架固定在所述第二柔性連接管法蘭上。

可選的，所述驅動單元安裝支架具有板狀結構，所述驅動單元的外殼與所述驅動單元安裝支架固定連接。

可選的，所述驅動桿沿著所述驅動桿孔的移動行程小于或等于所述第一工藝腔和/或所述第二工藝腔的高度。

可選的，所述控制機構包括兩套，且兩套所述控制機構對稱設置在所述柔性連接管的徑向方向的兩側。