[實用新型]一種光罩保護膜貼合裝置有效
| 申請號: | 201821916682.0 | 申請日: | 2018-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN208937905U | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發明(設計)人: | 徐文權 | 申請(專利權)人: | 廣州仕元光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/48 | 分類號: | G03F1/48 |
| 代理公司: | 廣州德科知識產權代理有限公司 44381 | 代理人: | 萬振雄;林玉旋 |
| 地址: | 510730 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜版 貼合裝置 貼膜機構 裝夾機構 本實用新型 光罩保護膜 上下移動 保護膜 膜框 半導體器件 保護膜貼合 光掩模技術 定位放置 定位夾緊 升降機構 貼合面 嚴密性 朝上 光罩 膜片 貼膜 下夾 粘結 平行 驅動 自由 保證 | ||
本實用新型涉及半導體器件的加工工藝中的光掩模技術領域,公開了一種光罩保護膜貼合裝置,其中的保護膜包括粘結在一起的膜框和膜片,前述的貼合裝置包括:裝夾機構,用于定位夾緊光罩的掩膜版,掩膜版的被保護面朝下夾緊在裝夾機構上,裝夾機構對著掩膜版的被保護面的欲貼膜區域空出;貼膜機構,用于定位放置保護膜,貼膜機構可以上下移動,膜框的自由貼合面朝上且和掩膜版的被保護面始終保持平行;升降機構,用于驅動貼膜機構上下移動。本實用新型的貼合裝置可以更好的保證掩膜版和保護膜貼合后的嚴密性。
技術領域
本實用新型涉及半導體器件的加工工藝中的光掩模技術領域,更具體地是涉及一種光罩保護膜貼合裝置。
背景技術
光罩是光刻工藝中重要的制程元件。光罩一般采用透明玻璃作為基板,在基板上經過噴涂、光刻、蝕刻、顯影等一系列工藝制作出圖案形成掩膜版。為了防止塵埃顆粒等污染物落在掩膜版上影響后續工藝,通常在掩膜版上罩有保護膜。保護膜一般包括粘結在一起的膜框和膜片。例如名稱為用于掩膜板的防塵保護裝置,申請號為201220521265.2的中國實用新型專利公開的技術方案中的掩膜版就貼合有保護膜。
將保護膜貼合在掩膜版上時要貼合嚴密牢固,現有技術一般會采用手動貼合裝置。例如名稱為一種光掩模板貼膜裝置,申請號為201320468817.2的中國實用新型專利公開了一種將保護膜貼合在掩膜版上的手動貼合裝置。該貼膜裝置方案的主要原理是將保護膜固定,用彈性支點將掩膜版支撐在保護膜上方,利用定軸旋轉的活動壓板將掩膜版壓下使保護膜和掩膜版貼在一起。
但是該貼膜裝置方案存在以下問題:
1)從理論上講掩膜版和保護膜貼合過程相對平行移動靠近才能確保貼合緊密,但是該方案在貼合過程中活動壓板定位掩膜版的四邊來帶動掩膜版移動,而活動壓板相對于保護膜而言是定軸轉動,這樣就無法實現掩膜版和保護膜相對平行移動靠近,所以實際貼合過程中很容易產生縫隙,貼合不嚴密;
2)彈簧是彈性鋼加工而成,該方案采用彈簧直接支撐掩膜版,很容易在掩膜版的支撐位置造成劃傷,而且活動壓板要克服彈簧的彈力下壓掩膜版,嚴重情況下會導致掩膜版直接爆裂損毀;
3)保護膜的位置是固定的,活動壓板相對于保護膜而言是在繞著水平軸轉動的,雖然可調支架可以調整位置,但是最后貼合時又通過活動壓板的四個斜面限定掩膜版的水平位置,這樣在實際操作中,掩膜版和保護膜在最后貼合時可能會導致掩膜版的位置發生水平移動,貼合后掩膜版和保護膜的位置不準確。
實用新型內容
本實用新型為克服上述現有技術中的不足,提供了一種光罩保護膜貼合裝置。
本實用新型通過以下技術方案來實現上述目的。
一種光罩保護膜貼合裝置,其中的保護膜包括粘結在一起的膜框和膜片,前述的貼合裝置包括:
裝夾機構,用于定位夾緊光罩的掩膜版,掩膜版的被保護面朝下夾緊在裝夾機構上,裝夾機構對著掩膜版的被保護面的欲貼膜區域空出;
貼膜機構,用于定位放置保護膜,貼膜機構可以上下移動,膜框的自由貼合面朝上且和掩膜版的被保護面始終保持平行;
升降機構,用于驅動貼膜機構上下移動。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





