[實用新型]一種光罩保護膜貼合裝置有效
| 申請號: | 201821916682.0 | 申請日: | 2018-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN208937905U | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發明(設計)人: | 徐文權 | 申請(專利權)人: | 廣州仕元光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/48 | 分類號: | G03F1/48 |
| 代理公司: | 廣州德科知識產權代理有限公司 44381 | 代理人: | 萬振雄;林玉旋 |
| 地址: | 510730 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜版 貼合裝置 貼膜機構 裝夾機構 本實用新型 光罩保護膜 上下移動 保護膜 膜框 半導體器件 保護膜貼合 光掩模技術 定位放置 定位夾緊 升降機構 貼合面 嚴密性 朝上 光罩 膜片 貼膜 下夾 粘結 平行 驅動 自由 保證 | ||
1.一種光罩保護膜貼合裝置,其中的保護膜包括粘結在一起的膜框和膜片,其特征在于,所述的貼合裝置包括:
裝夾機構,用于定位夾緊光罩的掩膜版,掩膜版的被保護面朝下夾緊在裝夾機構上,裝夾機構對著掩膜版的被保護面的欲貼膜區域空出;
貼膜機構,用于定位放置保護膜,貼膜機構可以上下移動,膜框的自由貼合面朝上且和掩膜版的被保護面始終保持平行;
升降機構,用于驅動貼膜機構上下移動。
2.根據權利要求1所述的光罩保護膜貼合裝置,其特征在于,所述的貼合裝置還包括底座,底座包括帶有平整的上臺面的臺板;所述的裝夾機構包括框形支架,框形支架連接在臺板的上臺面,框形支架包括相對且相互平行的頂面和底面,框形支架的中空區域夾在頂面和底面之間,框形支架的底面貼合于臺板的上臺面,框形支架的頂面用于定位放置掩膜版,框形支架的頂面設有用于定位掩膜版的定位柱,掩膜版定位放置在框形支架的頂面時掩膜版的欲貼膜區域對著框形支架的中空區域;所述的貼膜機構包括貼膜動塊,貼膜動塊的上面設有用于定位放置保護膜的模槽,貼膜動塊和臺板滑動連接,貼膜動塊的滑動方向和臺板的上臺面垂直,且貼膜動塊在框形支架的中空區域內滑動;所述的升降機構包括固定連接在貼膜動塊的下面的被動斜楔塊和沿臺板的上臺面往復移動的主動斜楔塊,主動斜楔塊和被動斜楔塊斜面配合,主動斜楔塊在臺板的上臺面移動時通過斜面配合驅動貼膜動塊向上滑動,主動斜楔塊穿過框形支架。
3.根據權利要求2所述的光罩保護膜貼合裝置,其特征在于,所述的框形支架為方形框,框形支架上放置有用于抵在掩膜版上面的后置壓板,框形支架的頂面設有用于定位搭放后置壓板的限位塊,框形支架的兩個相對的邊框上分別設有T形滑槽,兩個T形滑槽的走向和框形支架的邊框的長度方向垂直,兩個T形滑槽的槽口位于框形支架的頂面,兩個T形滑槽內分別滑動連接有夾座,夾座包括與T形滑槽滑動配合的T形滑塊和連接在T形滑塊上的夾塊,朝向邊框的內側滑動夾座可以使夾塊的下面抵在后置壓板的上面,朝向邊框的外側滑動夾座可以使夾塊脫離后置壓板。
4.根據權利要求3所述的光罩保護膜貼合裝置,其特征在于,所述的掩膜版、膜框和膜片均為方形,所述的后置壓板為透明的,所述的框形支架沿著臺板的上臺面移動式連接在臺板上,臺板的上臺面相對設置有兩個防脫座,兩個防脫座布置在框形支架的兩個相對的側面的外側,防脫座的側面外伸出限位部,限位部的下面抵著框形支架的頂面,臺板的上臺面設置有復數多個調節座,調節座布置在框形支架的四個側面的外側,框形支架的每個側面的外側至少布置兩個調節座,一半數量的調節座上螺紋連接有調節螺桿,另一半數量的調節座上滑動連接有頂銷,調節螺桿和頂銷成對且相對設置,調節螺桿和頂銷的頭部都是外凸的球形面且都朝著框形支架,框形支架的四個側面都設有導向槽,導向槽的走向和臺板的上臺面平行,導向槽內滑動連接有調節滑塊,調節滑塊和調節座成對配置,調節滑塊外露于導向槽的側面設有球形凹槽,調節滑塊的球形凹槽和調節螺桿或頂銷的球形面球面配合,頂銷的外側套有用于驅動頂銷的頭部趨向框形支架的壓縮彈簧。
5.根據權利要求2所述的光罩保護膜貼合裝置,其特征在于,所述的臺板上螺紋連接有帶手柄的螺栓,帶手柄的螺栓的軸心和臺板的上臺面垂直,帶手柄的螺栓位于框形支架的外側,主動斜楔塊上設有腰型孔,帶手柄的螺栓的螺桿部穿過主動斜楔塊的腰型孔。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





