[實用新型]石英掩膜結構體

有效

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• 申請日: 2018-11-19
• 公開（公告）號: CN209412300U
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發(fā)明（設計）人: 代瑞娜;張曉軍;李炳坤;胡凱;陳志強;方安安;姜鷺;潘恒;王巖;王峻嶺
• 申請（專利權）人: 深圳市矩陣多元科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C16/04
• 代理公司: 深圳市華優(yōu)知識產權代理事務所(普通合伙) 44319
• 代理人: 余薇

本實用新型涉及薄膜加工技術領域，公開了一種石英掩膜結構體。所述石英掩膜結構體包括第一石英掩膜框、第二石英掩膜框以及石英掩膜板，所述第二石英掩膜框底部設置有收容所述石英掩膜板的凹槽，所述第一石英掩膜框設置有多個基底孔，所述第二石英掩膜框對應設置有多個正對所述第一石英掩膜板的基底孔的鍍膜孔，用于通過脈沖激光對收容在所述基底孔內的基底進行鍍膜。本方案可批量對小面積的基底進行鍍膜而生成小面積的薄膜材料，避免了現(xiàn)有掩膜板在薄膜生長時邊緣模糊效果和重影效果，同時也避免了現(xiàn)有沉積薄膜材料切割成小面積薄膜材料時容易被損壞和污染的情況，提升了薄膜制造的質量、操作便捷性和工作效率。

技術領域

本實用新型涉及薄膜加工技術領域，尤其涉及一種石英掩膜結構體。

背景技術

在制造薄膜材料時，薄膜基底加熱使現(xiàn)有鋼質掩膜板變形而無法與基底緊密貼合，導致形成鍍膜形狀邊緣模糊(鍍膜材料的散射)，同時從不同角度鍍膜時掩膜板與基底的距離也會導致形成的鍍膜有重影效果(鍍膜材料的投影)，影響鍍膜制造的質量和工作效率。同時，現(xiàn)有薄膜材料在測試切割成小面積薄膜材料時容易被損壞和污染，導致薄膜制造的質量、操作便捷性和工作效率不佳。

實用新型內容

鑒于此，本實用新型提供一種石英掩膜結構體，解決現(xiàn)有掩膜板受高溫影響形成鍍膜形狀邊緣模糊、重影和薄膜切割容易被損壞污染而導致薄膜制造的質量、操作便捷性和工作效率不佳的技術問題。

根據本實用新型的實施例，提供一種石英掩膜結構體，包括第一石英掩膜框、第二石英掩膜框以及設置在所述第一石英掩膜框和第二第一石英掩膜框之間的石英掩膜板，所述第二石英掩膜框底部設置有收容所述石英掩膜板的凹槽，所述第一石英掩膜框設置有多個用于剛好收容多個小面積基底的基底孔，所述第二石英掩膜框對應設置有多個正對所述第一石英掩膜板的基底孔的鍍膜孔，用于通過脈沖激光對收容在所述基底孔內的基底進行鍍膜，所述石英掩膜板設置有掩膜板孔，所述鍍膜孔的尺寸略小于所述石英掩膜板的尺寸。

優(yōu)選的，所述鍍膜孔和基底孔呈網格排列。

優(yōu)選的，所述第一石英掩膜框和第二石英掩膜框的邊緣還對應設置有用于所述基底孔和鍍膜孔對齊的定位孔。

優(yōu)選的，所述第一石英掩膜框和第二石英掩膜框的邊緣還對應設置有用于緊固所述第一石英掩膜板和第二石英掩膜板的緊固件。

優(yōu)選的，所述的掩膜板厚度不超過0.2mm。

優(yōu)選的，所述基底對應一個或者多個掩膜板孔。

優(yōu)選的，所述緊固件為螺絲、螺栓或固定夾具。

優(yōu)選的，所述第一石英掩膜板的基底孔的深度等于基底的厚度。

優(yōu)選的，所述鍍膜孔和基底孔為圓形、矩形或方形。

優(yōu)選的，所述基底孔的尺寸略大于基底。

本實用新型提供的石英掩膜結構體，包括第一石英掩膜框、設置在所述第一石英掩膜框上方的第二石英掩膜框以及設置在所述第一石英掩膜框和第二第一石英掩膜框之間的石英掩膜板，所述第一石英掩膜框設置有多個規(guī)則分布用于剛好收容多個小面積基底的基底孔，所述第二石英掩膜框對應設置有多個正對所述第一石英掩膜板的基底孔的鍍膜孔，用于通過脈沖激光對收容在所述基底孔內的基底進行鍍膜，所述第二石英掩膜框底部設置有收容所述石英掩膜板的凹槽，所述石英掩膜板設置有掩膜板孔，所述鍍膜孔的尺寸略小于所述石英掩膜板的尺寸。通過第一石英掩膜框的多個基底孔和第二石英掩膜框的多個鍍膜孔以及石英掩膜板的配合結構設計，可批量對小面積的基底進行鍍膜而生成小面積的薄膜材料，避免了現(xiàn)有掩膜板在薄膜生長時由于高溫形變而造成的薄膜形狀邊緣模糊問題和不同角度鍍膜時由于掩膜板離基片距離造成的重影問題，同時也避免了現(xiàn)有沉積薄膜材料切割成小面積薄膜材料時容易被損壞和污染的情況，提升了薄膜制造的質量、操作便捷性和工作效率。

附圖說明